si filmsとは 意味・読み方・使い方

Then silicon oxide films are formed on the wafers 2 by introducing an oxidizing gas into the furnace 14 and raising the temperatures of the wafers 2 to the oxidizing temperature of Si.例文帳に追加

反応炉１４に酸化ガスを導入してSiウェハ２を酸化温度に昇温することでシリコン酸化膜を作成する。 - 特許庁

Next, a photonic crystal polarizer 11 is integrally formed by alternately laminating multilayer films of Si and SiO_2 by making use of a bias sputtering device.例文帳に追加

つぎにバイアススパッタ装置を用いて、SiとSiO_2の交互多層膜を積層してフォトニック結晶偏光子１１を一体形成する。 - 特許庁

The insulating film as a sample formed on an Si substrate is divided into two films (S1).例文帳に追加

Ｓｉ基板上に形成された試料としての絶縁膜を２つに分割する（Ｓ１）。 - 特許庁

The method has: a step in which SiOC films are formed on Si substrates 1 or on foundation films 2 and 3 formed on the Si substrates and containing Si; a step in which an ashing process is carried out to the SiOC films; and a step in which the SiOC films 4' receiving the ashing treatment are removed selectively by a wet process containing F.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上又は前記Ｓｉ基板上に形成されたＳｉを含む下地膜２、３上に、ＳｉＯＣ膜を形成する工程と、前記ＳｉＯＣ膜に、アッシング処理を施す工程と、前記アッシング処理を施したＳｉＯＣ膜４’を、Ｆを含むウエット処理により選択的に除去する工程を備える。 - 特許庁

To provide a photonic crystal having high reflectance to visible rays with a structure in which absorption of visible rays by Si is suppressed and Si films and SiO_2 films are alternately laminated.例文帳に追加

Ｓｉの可視光に対する吸収を抑え、Ｓｉ膜とＳｉＯ_２膜とが交互に積層された構造により、可視光に対し高い反射率を有するフォトニック結晶を提供する。 - 特許庁

A polycrystalline Si film 12 and a nitride film 14 are made, and an emitter aperture is made in these films, and the flanks of the oxide films 4 and 6 are etched.例文帳に追加

多結晶Ｓｉ膜１２、窒化膜１４を形成し、これらの膜にエミッタ開口を形成し、酸化膜４、６の側面をエッチングする。 - 特許庁

In the drift part 6, conductive films 6b formed of a Si film and insulating films 6a formed of a SiO_2 film are alternately stacked.例文帳に追加

強電界ドリフト部６は、Ｓｉ膜よりなる導電性膜６ｂとＳｉＯ____2膜よりなる絶縁性膜６ａとが交互に積層される。 - 特許庁

The respective bonding films 31 and 32 are made of amorphous silicon including Si-H joint respectively.例文帳に追加

各接合膜３１、３２は、それぞれＳｉ−Ｈ結合を含むアモルファスシリコンで構成されている。 - 特許庁