Si膜の英語

To form a strain Si film on a semiconductor substrate with high producibility efficiency and at a low cost.例文帳に追加

半導体基板上に歪Si膜を生産効率よく低コストで形成すること。 - 特許庁

A Si film 20 is vapor-deposited on the entire surface, sand a SiN film 21 is formed, and Si is diffused by heat treatment to constrict a current.例文帳に追加

Si膜20を全面に蒸着し、SiN膜21を形成し、熱処理でSiを拡散させ電流を狭窄する。 - 特許庁

After the SiN film 21, the mask 19 and the Si film 20 are removed, a SiO2 film 23 is formed on the entire surface, and the SiO2 film 23 is removed only in the upper part of the cylinder.例文帳に追加

SiN膜21、マスク19およびSi膜20を除去した後、SiO_2膜23を全面に形成し、円柱の上部のみSiO_2膜23を除去する。 - 特許庁

This method of forming metal wiring contains a step of cleaning the surface of a silicon substrate 10 that is exposed by a contact hole 12h, a step of forming a Ti-Si film on the structure obtained in the preceding step, and a step of forming a Ti-Si-N film 16 on the Ti-Si film 14.例文帳に追加

本発明は、コンタクトホール12hにより露出されたシリコン基板10の表面を洗浄する段階と、前段階で得られた構造物上にTi-Si膜を形成する段階と、前記Ti-Si膜14上にTi-Si-N膜16を形成する段階とを含んでなる金属配線形成方法である。 - 特許庁

Each dielectric material multi-layered film 310 and 311 is formed by laminating n layers of films consisting of Si films 320 and SiO2 films 321 and third dielectric material thin films 330 and 331 consisting of the Si film and having prescribed thickness are interposed between each dielectric material multi-layered film 310 and 311 and a magnetic body thin film 307, respectively, to form the magnetooptical body 300.例文帳に追加

磁気光学体３００は、Si膜３２０及びSiO_2膜３２１をｎ層積層して誘電体多層膜３１０，３１１を形成し、誘電体多層膜３１０，３１１のそれぞれと磁性体薄膜３０７との間に、Si膜の所定厚さの第３の誘電体薄膜３３０，３３１を介装した。 - 特許庁

To provide a laser annealing method whereby the crystal grain-sizes of a polysilicon film can be made uniform over the whole of a substrate, a thin-film semiconductor device, a manufacturing method thereof, a display, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

poly-Si膜の結晶粒径を基板全体に渡って均一にすることを可能とするレーザアニール方法、薄膜半導体装置及びその製造方法、並びに表示装置及びその製造方法の提供。 - 特許庁

A substrate 18 having an a-Si film on its surface is scan-irradiated with a pulse laser beam shaped in the form of a line, while the beam is being moved in a short axial direction of the line-shaped laser beam, thus forming an irradiation region 19 with two or more energy densities.例文帳に追加

表面にa-Si膜が形成された基板１８に、線状に整形されたパルスレーザ光を、線状レーザ光の短軸方向に移動しながらスキャン照射して、複数のエネルギー密度で、照射領域１９を形成する。 - 特許庁