spatial variationsとは 意味・読み方・使い方

Wherein the active layer has the spatial fluctuation of a bandgap due to the distribution variations of aluminum composition in the layer.例文帳に追加

活性層は、層内においてアルミニウムの組成の分布がばらついていることに基づくバンドギャップの空間的揺らぎを有している。 - 特許庁

Angular, temporal or spatial variations in light rays acquired of a scene by the sensor 120 are mapped to individual pixels of the sensor 120.例文帳に追加

センサ１２０によってシーンから取得される光線の角度変動、時間変動、空間変動が、センサ１２０の個々のピクセルにマッピングされる。 - 特許庁

To realize temporal and spatial variations in lighting which are different from conventional uniform lighting which is invariable both temporally and spatially.例文帳に追加

従来の時間的にも空間的にも変動のない均一な照明とは異なり、時間的・空間的に変動する照明を実現すること。 - 特許庁

To provide a method for calculating spatial and temporal variations of a toner concentration in accordance with an advection diffusion equation in the case that a spatial distribution of developer mass density is not uniform in an electrophotographic development process with a two-component developer.例文帳に追加

電子写真における二成分現像プロセスにおいて、現像剤質量密度の空間分布が一様ではない場合に、トナー濃度の空間時間変化を移流拡散方程式で計算する方法を提供する。 - 特許庁

The compression control section sets compression parameters (adjustable parameters affecting a compression coding amount in image compression) in accordance with the degrees of the variations in the spatial differences.例文帳に追加

圧縮制御部は、空間差分のバラツキ度に応じて、圧縮パラメータ（画像圧縮において圧縮符号量に影響を与える調整可能なパラメータ）を設定する。 - 特許庁

An image processing apparatus classifies variations from a specific state of a target object in an image into a plurality of kinds of attributes and holds, per attribute of the variations, correction parameters for spatial conversion processing of correcting the target object into the specific state.例文帳に追加

画像処理装置は、画像中の対象物体の特定の状態からの変動を複数種類の属性に分類し、前記対象物体を前記特定の状態へ補正する空間的変換処理のための補正パラメータを変動の属性毎に保持する。 - 特許庁

To suppress spatial variations of cooling performance in a cooler device that has two or more heat sinks and circulates a refrigerant in a region where heat sinks are provided.例文帳に追加

複数の放熱板を備え、放熱板が設けられた領域に冷媒を流通させる冷却器において、冷却性能の空間的なばらつきを抑制することを目的とする。 - 特許庁

To control linewidth variation and bias resulting from MEF changes and reticle linewidth variations in a printed substrate by correcting exposure dose and partial coherence at different spatial locations.例文帳に追加

基板におけるＭＥＦ変化およびレチクルライン幅変動から生じるライン幅変動およびバイアスを種々異なる空間的位置での露光量と部分可干渉性の補正によってコントロールする。 - 特許庁