sputter techniqueとは 意味・読み方・使い方

To manufacture an electrochromic element at a low cost with a high speed sputter deposition technique using inexpensive equipment.例文帳に追加

エレクトロクロミック素子を安価な設備を用いた高速成膜技術により安価に製造する。 - 特許庁

One conductivity silicon region and its electrode are formed by combination of a low temperature sputter epitaxial deposition method and a shielding mask, and then, the another conductivity silicon region and its electrode are formed by self-aligning technique.例文帳に追加

低温スパッタエピタキシャル堆積法と遮蔽マスクの組み合わせによって一導電型シリコン領域およびその電極を形成し、続いて自己整合的にもう一方の導電型シリコン領域とその電極を形成する。 - 特許庁

An optically opaque silicon film 2 is deposited on an optically transparent base substrate 1 using a sputter deposition apparatus or the like, and then a portion of the silicon film 2 serving as a passage of light is removed with the specified slit width using a photolithography technique and an etching technique so as to produce the slit 3.例文帳に追加

光学的に透明な基台１上にスパッタ成膜装置等により光学的に不透明なＳｉ膜２を成膜した後、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、所定の幅で光の通路となる部分のＳｉ膜２の一部を取り除き、スリット３を作製する。 - 特許庁

To provide a method and equipment, capable of preventing the occurrence of abnormal electric discharge due to the entering of reactive gas such as oxygen into the sputter zone of a target in a sputtering technique for obtaining a thin film of metallic compound and capable of providing a dense thin film increased in high film performance.例文帳に追加

本発明の目的は、金属化合物薄膜を得るスパッタリング技術において、酸素等の反応性ガスがターゲットのスパッタゾーンに入り込むことに起因する異常放電を防止し、緻密で膜性能の高い薄膜を得ることができる装置及び方法を提供することにある。 - 特許庁