surface wavinessとは 意味・読み方・使い方

To provide a surface grinding method to surface-grind a work and to improve waviness of the work.例文帳に追加

被処理物を平面研磨加工する方法において、被処理物のウエビネスを改善する平面研磨加工方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate effect of waviness and thickness irregularity of a photomask on a mask surface and to keep a uniform proximity gap.例文帳に追加

フォトマスクのうねりと、厚みムラによるマスク面への影響を解消して、プロキシミティギャップを均一に保つ。 - 特許庁

As for the surface of the glass substrate after a polishing process, an arithmetic average roughness Ra is ≤0.2 nm, a waviness Wa is ≤0.5 nm and a fine waviness μWa is ≤0.2 nm.例文帳に追加

研磨工程後のガラス基板の表面の算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ以下、うねりＷａが０．５ｎｍ以下であり、さらに微小うねりμＷａが０．２ｎｍ以下であること。 - 特許庁

To attain a desired glide height by controlling surface roughness and fine waviness on a substrate surface, within a prescribed range and in a prescribed relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To attain a desired glide height by making the surface roughness and the microscopic waviness on a substrate surface have the predetermined range and a predetermined relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To attain a desired glide height by making the surface roughness and the microscopic waviness on a substrate surface fall in a predetermined range/relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To attain a desired glide height by setting surface roughness and micro waviness on a substrate surface to a predetermined range and relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To provide a laminating apparatus reduced in size without generating a surface waviness or a bubble or the like by preventing heating before laminating.例文帳に追加

ラミネート前の加熱を防ぎ、波打ちや気泡などが発生せず、小型化されたラミネート装置を提供する。 - 特許庁