ten point height of irregularitiesとは 意味・読み方・使い方

The rear face 12 of the integrated circuit chip body 10a is a rough face with ten-point height of irregularities, Ra > 0.05 μm more or less.例文帳に追加

ＩＣチップ本体１０ａの裏面１２は十点平均粗さＲａ＞０．０５μｍ程度の粗面となっている。 - 特許庁

The amorphous film 13 has thickness in a range of 1 to 50 μm, hardness in a range of HV800 to 2200, and arithmetical mean of surface roughness Ra of 0.5 μm or less, and preferably has ten point height of irregularities Rz of 2.0 μm or less.例文帳に追加

アモルファス状膜１３は、厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲、硬さがＨＶ８００〜２２００の範囲、表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Particularly preferably, central surface roughness (SRa) is set to be in a range of 5-15 μm, and a vertical interval between a projection and a recess is set in such a manner that a ten point height of irregularities (SRz) is in a range of 30-100 μm.例文帳に追加

中心面粗さ（ＳＲａ）を５μｍ以上、１５μｍ以下、また、凹凸の高低差を十点平均粗さ（ＳＲｚ）で３０μｍ以上、１００μｍ以下にすると特に好ましい。 - 特許庁

An average roughness (indicated in ten point height of irregularities) in roughening is preferable to be in the range of 3-15 μm, and more preferable to be 3-10 μm, and further preferable to be 3-5 μm.例文帳に追加

粗面化は平均粗さ（十点平均粗さで表示）が３〜１５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは３〜１０μｍ、さらに好ましくは３〜５μｍである。 - 特許庁

The material has such surface roughness as specified in the following: a center line average roughness (Ra) of about ≤0.1 μm, a ten point height of irregularities (Rz) of about ≤1.0 μm, and a maximum height (Rmax) of about ≤1.0 μm.例文帳に追加

本発明の光拡散性基材は、約０．１μｍ以下の中心線平均粗さＲａ、約１．０μｍ以下の十点平均粗さＲｚ、約１．０μｍ以下の最大高さＲｍａｘとして表される表面粗さを有することを特徴とする。 - 特許庁

The substrate for the magnetic disk manufactured by these treatments has minute irregularities which is 0.4 to 3.0 nm in the average surface height Ra on its surface and ≤14 in the ratio of the ten point average surface height (Rz) of the substrate surface to the average surface high (Ra) of the substrate surface.例文帳に追加

これらの処理により作製された磁気ディスク用基板は、その表面の平均面粗さＲａが０．４〜３．０ｎｍで、かつ基板表面の平均面粗さ（Ｒａ）に対する基板表面の１０点平均面粗さ（Ｒｚ）の比が１４以下である微小凹凸を有する。 - 特許庁

Alternatively, the solution is delivered using the pipe line the inner surface of which satisfies the following relational expression: Rz<3X between the value (Rz:μm) of a ten-point height of irregularities showing the surface smoothness and the size (X:μm) of the foreign matter in the semiconductor manufacturing composite solution.例文帳に追加

或いは、表面平滑度を示す十点平均粗さの値（Ｒｚ；μｍ）が、半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒｚ＜３Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。 - 特許庁