thermal reforming processとは 意味・読み方・使い方

In particular, effective reforming can be achieved by executing the friction stir welding process to the cemented carbide layer formed on a surface of a base metal by using the thermal spraying method.例文帳に追加

特に、溶射法を用いて金属基材の表面に形成された超硬合金層に摩擦攪拌プロセスを施すことで、効果的に改質を達成することができる。 - 特許庁

This treatment process comprises, raising the temperature of the synthetic resins containing aluminum hydroxide, to a temperature range in which the synthetic resins do not burn, reforming the above aluminum hydroxide to alumina through thermal decomposition, and using the reformed synthetic resins in a smelting process or a refining process of a molten metal as an alumina raw material.例文帳に追加

水酸化アルミニウムを含有する合成樹脂類を、この合成樹脂類が燃焼しない温度範囲に昇温して、前記水酸化アルミニウムを熱分解によりアルミナに改質させ、次いで、この改質された合成樹脂類を溶融金属の製錬工程若しくは精錬工程でアルミナ原料として使用する。 - 特許庁

The method of regenerating the Cu-containing spinel catalyst with the activity lowered after use in reforming of oxygen-containing hydrocarbons includes the process of baking a catalyst whose activity is lowered owing to thermal coagulation of Cu, in an oxygen-containing gas atmosphere.例文帳に追加

Ｃｕ含有スピネル触媒を、酸素含有炭化水素の改質に用いた後、活性が低下した当該触媒を再生する方法であって、Ｃｕの熱凝集により活性が低下した該触媒を酸素含有ガス雰囲気中で焼成する工程を含むことを特徴とする、Ｃｕ含有スピネル触媒の再生方法である。 - 特許庁

A pad oxidation film 2 and a nitriding silicon film 3 are formed on a silicon substrate 1, a trench 4 is formed by dry etching to make the nitriding silicon film 3 an etching mask, further the nitriding silicon film 3 is made an oxidation mask to thermally oxidize the silicon substrate 1, and a reforming layer formed on the surface of the nitriding silicon film 3 is removed by a neutral radical containing fluorine in a thermal oxidation process.例文帳に追加

シリコン基板１上にパット酸化膜２と窒化珪素膜３を形成し、窒化珪素膜３をエッチングマスクにしたドライエッチングでトレンチ４を形成し、更に窒化珪素膜３を酸化マスクにしてシリコン基板１を熱酸化し、上記熱酸化工程において窒化珪素膜３表面に形成される改質層をフッ素含有の中性ラジカルで除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a synthetic gas by ATR(auto thermal reforming) process, in which a raw material gas is favorably mixed with oxidizing gas in a partially oxidizing area in a reactor and uniform partial oxidation reaction proceeds and occurrence of hot spot by production of soot or hyperoxidation is suppressed to enable long-time stable operation, and an apparatus therefor.例文帳に追加

ＡＴＲ法による合成ガスの製造に際して、反応器内の部分酸化領域で原料ガスと酸化ガスとが良好に混合され、均一な部分酸化反応が進行して煤の生成や過酸化によるホットスポットの発生が抑えられ、長時間の安定運転が可能であるような方法、およびそのための装置を提供する。 - 特許庁

The carbon material for an electrode is formed through plasma treatment process conducting high frequency thermal plasma treatment to a raw material composition of carbon or an organic material in a plasma gas atmosphere containing a boron-containing compound so that a region near the surface of the carbon material is made into a turbulent layer structure in the vicinity of the surface of the carbon material and also cleaning and surface-reforming are attained.例文帳に追加

ホウ素含有化合物を含むプラズマガス雰囲気中において、炭素又は有機材料からなる原料組成物に対して高周波熱プラズマ処理を施すプラズマ処理工程を経て電極用炭素材料を形成させることにより、炭素材料の表面近傍の乱層構造化とともに、クリーニング、表面改質を併せ行う。 - 特許庁