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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > thin film insulating metal substrateの意味・解説 

thin film insulating metal substrateとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 薄膜絶縁金属基板


JST科学技術用語日英対訳辞書での「thin film insulating metal substrate」の意味

thin film insulating metal substrate


「thin film insulating metal substrate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 52



例文

In a suspension substrate 1 with a circuit, a second base insulating layer 3, a first metal thin film 6, a metal foil 4, a second metal thin film 7, a first base insulating layer 5, a third metal thin film 9, a conductor pattern 8, a fourth metal thin film 10, and a cover insulating layer 11 are sequentially formed on a metal supporting substrate 2.例文帳に追加

回路付サスペンション基板1において、金属支持基板2の上に、第2ベース絶縁層3、第1金属薄膜6、金属箔4、第2金属薄膜7、第1ベース絶縁層5、第3金属薄膜9、導体パターン8、第4金属薄膜10およびカバー絶縁層11を順次形成する。 - 特許庁

A metal thin film is formed on the top surface of the Si substrate and an insulating film for a mask is formed thereupon.例文帳に追加

Si基板表面に金属薄膜を成膜し、その上にマスク用絶縁膜を成膜する。 - 特許庁

The electronic component mounting substrate includes a native substrate 2 in which a wiring pattern 21 formed of a metal thin film is provided on an insulating substrate 22.例文帳に追加

原基板2は、絶縁性基板22に金属薄膜で形成された配線パターン21が設けられた電子部品実装基板である。 - 特許庁

A base insulating layer 4 having a base opening 3 in the forming position of a ground terminal 13 on a metal substrate 2, a metal thin film 5 is formed on the metal substrate 2 and the base insulating film 4 in the base opening 3, and a conductor pattern 7 is formed on the metal thin film 5.例文帳に追加

金属基板2の上に、グランド端子13の形成位置にベース開口部3を有するベース絶縁層4を形成し、ベース開口部3内の金属基板2およびベース絶縁層4の上に、金属薄膜5を形成し、その金属薄膜5の上に、導体パターン7を形成する。 - 特許庁

Under the atmosphere of reduced pressure, a substrate 8 is irradiated with material gas, so that a semiconductor thin film, metal thin film, or insulating thin film is formed on the substrate 8.例文帳に追加

真空減圧雰囲気下にて、原料ガスを基板8に照射して、半導体薄膜、金属薄膜または絶縁性薄膜を基板8上に形成する。 - 特許庁

A heat dissipation substrate 10 is constituted by laminating a metal layer 11, a composite sheet 12, an insulating sheet 13, and a metal thin-film layer 14.例文帳に追加

この放熱基板10は、金属層11、複合シート12、絶縁シート13、金属薄膜層14が積層されて構成される。 - 特許庁

例文

The metal-insulating film-semiconductor structure is manufactured by forming an epitaxial thin film having a groove part on the surface of the silicon carbide single crystal substrate, and by sequentially forming the insulating film and the metal film on the internal surface of the groove part.例文帳に追加

炭化珪素単結晶基板の表面に溝部を有するエピタキシャル薄膜を形成し、該溝部の内側面に絶縁膜、及び金属膜を順次形成してなる金属-絶縁膜-半導体構造である。 - 特許庁

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「thin film insulating metal substrate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 52



例文

The semiconductor substrate has an insulating film 15 formed on the semiconductor substrate 1 across other layers 3 and 5, the metal thin-film resistor 21 formed on the insulating film 15, and a laser light transmission preventive film 13 which is arranged between the semiconductor substrate 1 and insulating film 15 in an area below the metal thin-film resistor 21 and made of a metal material.例文帳に追加

半導体基板1上に他の層3,5を介して形成された絶縁膜15と、絶縁膜15上に形成された金属薄膜抵抗体21と、金属薄膜抵抗体21下の領域で半導体基板1と絶縁膜15の間に配置された金属材料からなるレーザ光透過防止膜13を備えている。 - 特許庁

The semiconductor device comprises the substrate (a lightly-doped substrate 11), an insulating layer (an oxide film 12) formed on the substrate, an active layer 13 formed on the insulating layer, and the metal layer (a metal thin film 15) formed on the backside of the substrate, the substrate and the metal layer having ohmic contact with each other.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置は、基板(低濃度基板11)と、基板上に形成された絶縁層(酸化膜12)と、絶縁層上に形成された活性層13と、基板の裏面に形成された金属層(金属薄膜15)と、を有し、基板と金属層はオーミック接触する、ことを特徴とする。 - 特許庁

The humidity sensor 6 using a water-soluble metal thin film 8 is formed on an insulating film 7 formed on a semiconductor substrate 2, and a resistance of the water-soluble metal thin film 8 is measured.例文帳に追加

半導体基板2上に形成した絶縁膜7の上に、水溶性金属の薄膜8を用いた湿度センサ6を形成し、水溶性金属の薄膜8の抵抗を測定する。 - 特許庁

A resistive element (1) includes: a metal thin film resistor (4) formed on a semiconductor substrate (2) by interposing an insulating film (3); and a conductive member (5) covering a part of a surface of the metal thin film resistor (4).例文帳に追加

絶縁膜(3)を介して半導体基板(2)の上に形成された金属薄膜抵抗(4)と、金属薄膜抵抗(4)の表面の一部を覆う導電部材(5)とを具備する抵抗素子(1)を構成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING METAL THIN FILM HAVING HIGH ADHESION ON INSULATING SUBSTRATE FORMED WITH POLYIMIDE RESIN例文帳に追加

ポリイミド樹脂で形成された絶縁基材の表面に密着性の高い金属薄膜を形成する方法 - 特許庁

A heat storage layer 5 is set to a surface of a substrate 6, and a metal electrode 3 is coated with an insulating thin film 2 on the heat storage layer 5.例文帳に追加

基板6の表面に蓄熱層5が設けられ、蓄熱層5上には金属電極3が絶縁性薄膜2で被覆されている。 - 特許庁

Surface of the substrate 2 is coated by insulating material 8, after arranging the thin-film metal temperature sensing resistors 3 and 5 as well as the thin-film metal heater 4.例文帳に追加

基材2の表面は、薄膜金属測温抵抗体3、5及び薄膜金属ヒータ4を配置した後、絶縁材料8でコーティングされている。 - 特許庁

例文

In a thin film transistor where a thin film containing the precursor of a metal oxide semiconductor is formed on a substrate and a metal oxide semiconductor thin film formed by a process for oxidizing the thin film serves as an active layer, a gate insulating film is provided on the side of the metal oxide semiconductor thin film opposite to a support.例文帳に追加

基板上に金属酸化物半導体の前駆体を含有する薄膜を形成した後、該薄膜を酸化する工程により形成した金属酸化物半導体薄膜を活性層とする薄膜トランジスタにおいて、前記金属酸化物半導体薄膜の支持体とは反対側にゲート絶縁膜が設けられていることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 特許庁

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「thin film insulating metal substrate」の意味に関連した用語

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