trimethyl silaneとは 意味・読み方・使い方

Titanium oxide subjected to the surface treatment with at least isobutyl trimethoxy silane and trimethyl siloxysilicate is deposited on the surface of toner particles.例文帳に追加

トナー粒子の表面に、少なくともイソブチルトリメトキシシランとトリメチルシロキシケイ酸とで表面処理された酸化チタンを付着させる。 - 特許庁

Further, also when the SiCN film is used as the hard mask, similarly plasma treatment of trimethyl silane gas is first carried out.例文帳に追加

またＳｉＣＮ膜をハードマスクとして使用する場合も、同様に最初にトリメチルシランガスのプラズマ処理を行う。 - 特許庁

When the SiCO film is used as the hard mask, a method includes: exposing the CF film for about 5-10 seconds in a plasma atmosphere activated with an organic compound of silicon, for example, trimethyl silane gas; next, adding nitrogen plasma to this plasma and depositing the SiCN film on the fluorine-added carbon film; and thereafter, depositing the SiCO film by the plasma activating trimethyl silane gas and oxygen gas.例文帳に追加

ＳｉＣＯ膜をハードマスクとして使用する場合に、ＣＦ膜をシリコンの有機化合物例えばトリメチルシランガスを活性化したプラズマ雰囲気に例えば５〜１０秒程度曝し、次いでこのプラズマに窒素プラズマを加えてフッ素添加カーボン膜の上にＳｉＣＮ膜を成膜し、その後例えばトリメチルシランガスと酸素ガスとを活性化したプラズマによりＳｉＣＯ膜を成膜する。 - 特許庁

Then, while the substrate temperature of 1,050°C is held at 1,050°C and the internal pressure in the furnace is held at 30 kPa as they are, a trimethyl gallium, an ammonia and a silane are introduced, and an n-type GaN buffer layer 3, having a thickness of 1 μm, is grown on the substrate 1.例文帳に追加

その後、摂氏１０５０度の基板温度を摂氏１０５０度、炉内圧力を３０キロパスカルに保持したまま、トリメチルガリウム、アンモニア、シランを導入して、厚さ1マイクロメートルの型ＧａＮバッフア層３を基板１に成長する。 - 特許庁

A gaseous mixture of an organic silicon compound having aliphatically unsaturated radicals and comprising no oxygen in molecules (such as trimethyl vinyl silane) and aliphatically unsaturated hydrocarbon (such as ethylene or acetylene) is used as a reactive gas and is fed to the surface of a polylactic acid base material, and, by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition), a vapor deposited film is deposited on the polylactic acid base material.例文帳に追加

脂肪族不飽和基を有し且つ分子中に酸素を有していない有機ケイ素化合物（例えばトリメチルビニルシラン）と、脂肪族不飽和炭化水素（例えばエチレン或いはアセチレン）との混合ガスを反応性ガスとして使用し、該反応性ガスをポリ乳酸基材上に供給してのプラズマＣＶＤにより、ポリ乳酸基材上に蒸着膜を形成する。 - 特許庁