tungstic acidとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 タングステン酸
「tungstic acid」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 50件
TUNGSTIC ACID SALT OR MOLYBDIC ACID SALT AND ADDITION PRODUCT OF REISHI SPORE USEFUL AS PHARMACEUTICAL PRODUCT AND HEALTH FOOD例文帳に追加
医薬品や健康食品としてのタングステン酸塩やモリブデン酸塩と霊芝胞子添加物 - 特許庁
METHOD FOR PRESERVING AQUEOUS SOLUTION CONTAINING TUNGSTIC ACID AND/OR PEROXOTUNGSTIC ACID例文帳に追加
タングステン酸および/またはペルオキソタングステン酸を含む水溶液の保存方法 - 特許庁
The pasta filler cheese has a prescribed content of tungstic acid soluble nitrogen.例文帳に追加
所定量のタングステン酸可溶性窒素含量であるパスタフィラータチーズを提供する。 - 特許庁
Heat treatment is performed after the tungstic acid compound and the compound such as the sulfuric acid compound other than the tungstic acid compound are mixed and attached to the composite oxide particles.例文帳に追加
加熱処理は、タングステン酸化合物と硫酸化合物等のタングステン酸化合物以外の化合物を混合して複合酸化物粒子に被着してから行う。 - 特許庁
Alternatively, the compound such as the sulfuric acid compound other than the tungstic acid compound may be first attached to the composite oxide particles and heat-treated, and then the tungstic acid compound may be attached and heat-treated.例文帳に追加
また、まず複合酸化物粒子に硫酸化合物等のタングステン酸化合物以外の化合物を被着させて加熱処理し、その後にタングステン酸化合物を被着させて加熱処理するようにしてもよい。 - 特許庁
The heteropolyacid containing boron is obtained by reacting tungstic acid anhydride and boric acid in a molar ratio of 100:1 to 2:1.例文帳に追加
無水タングステン酸とホウ酸をモル比で100:1から2:1の比率で反応させてなるホウ素を含有するヘテロポリ酸。 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「tungstic acid」の意味 |
Tungstic acid
出典:『Wikipedia』 (2011/05/12 11:56 UTC 版)
「tungstic acid」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 50件
Preferably, the salt of the tungstic acid is an ammonium salt and the precursor of the precious metal is a platinum compound.例文帳に追加
好ましくはタングステン酸類の塩がアンモニウム塩であり、貴金属前駆体が白金化合物である。 - 特許庁
A tungstic acid compound is attached to composite oxide particles mainly composed of lithium nickelate, and heat-treated to form the positive electrode active material.例文帳に追加
ニッケル酸リチウムを主体とする複合酸化物粒子にタングステン酸化合物を被着させ、加熱処理を行って正極活物質とする。 - 特許庁
This method for recovering tungsten is characterized in that tungstic acid is precipitated by blowing a gas into the reaction mixture obtained by reacting the organic compound and hydrogen peroxide in the presence of the tungsten catalyst and then the precipitated tungstic acid is separated therefrom.例文帳に追加
タングステン触媒の存在下に有機化合物と過酸化水素とを反応させた後、得られる反応混合物にガスを吹き込むことによりタングステン酸を析出させ、析出したタングステン酸を分離するタングステンの回収方法。 - 特許庁
The method for producing a monocarboxylic acid and/or a dicarboxylic acid comprises conducting a reaction between the corresponding unsaturated fatty acid(s) and hydrogen peroxide in the presence of a tungstic acid compound and a quaternary ammonium hydrogen polybasic acid salt.例文帳に追加
不飽和脂肪酸と過酸化水素とを、タングステン酸類及び第四級アンモニウム多塩基酸水素塩の存在下で反応させることを含むカルボン酸の製造方法。 - 特許庁
Preferably, at least one of a sulfuric acid compound, a nitric acid compound, a boric acid compound and a phosphoric acid compound is attached together with the tungstic acid compound to the composite oxide particles and heat-treated.例文帳に追加
また、好ましくは、タングステン酸化合物とともに、硫酸化合物、硝酸化合物、ホウ酸化合物およびリン酸化合物のうちの少なくとも1つを複合酸化物粒子に被着させて加熱処理を行う。 - 特許庁
(A group) Fe ion, Ni ion, Cu ion, Co ion, Cr ion, phosphoric acid ion (B group) Mo ion, Ti ion, W ion, Al ion, Mg ion, Sr ion, molybdic acid ion, titanic acid ion, tungstic acid ion.例文帳に追加
(A群)Feイオン、Niイオン、Cuイオン、Coイオン、Crイオン、リン酸イオン (B群)Moイオン、Tiイオン、Wイオン、Alイオン、Mgイオン、Srイオン、モリブデン酸イオン、チタン酸イオン、タングステン酸イオン - 特許庁
This method for producing the epoxy compound is characterized by oxidizing the compound having the carbon-carbon double bond by using tungstic acid, a quaternary ammonium salt, buffer solution and hydrogen peroxide, then precipitating the catalyst containing the tungstic acids and quaternary ammonium salt, and separating it from reaction liquid.例文帳に追加
炭素−炭素二重結合を有する化合物を、タングステン酸類、4級アンモニウム塩、緩衝液及び過酸化水素を用いて酸化した後、タングステン酸類及び4級アンモニウム塩を含む触媒を析出させ、反応液から分離することを特徴とするエポキシ化合物の製造方法 - 特許庁
The acrylic resin cover 1 comprises a substrate 2 made of an acrylic resin, a backing layer 3 which is formed on the substrate 2 and contains fine particles 3a formed from tungstic acid and/or tungstic oxide and a silicone 3b, and a photocatalyst film 4 formed on the backing layer 3.例文帳に追加
アクリル樹脂カバー1は、アクリル樹脂から構成された基体2と、基体2上に形成され、タングステン酸および酸化タングステンの少なくとも一方から構成された微粒子3aと、シリコーン3bとを含有する下地層3と、下地層3上に形成された光触媒膜4とを備えている。 - 特許庁
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