えぽえちんべーたの英語

ＴｉＮ膜１６を等方性エッチングした後、ポリイミド樹脂９をベークする。例文帳に追加

After the TiN film 16 is subjected to isotropic etching, the polyimide resin 9 is baked. - 特許庁

高周波モジュール２１は、アンテナ用ポートＡＮＴ１，ＡＮＴ２や外部接続用ポートＥＸＴ１，ＥＸＴ２の少なくともいずれか１つのポートと、受信用ポートＲｘ１およびＲｘ２との間に、１つの主スイッチング素子をそれぞれ別々に有する２つの受信信号伝送経路を有している。例文帳に追加

The high-frequency module 21 has at least one of the antenna ports ANT1, ANT2 and external connection ports EXT1, EXT2, and two reception signal transmission paths differently having one main switching element between the reception ports Rx1 and Rx2. - 特許庁

一方、パチンコ遊技機１でエラーが発生すると、そのエラーを識別するための識別情報が演出制御ＣＰＵ１３１により取得される。例文帳に追加

When an error occurs in the Pachinko game machine 1, identification information for identifying the error is acquired by the performance control CPU 131. - 特許庁

たとえポンプ据付後の不等沈下等によって構造物が傾いても、ポンプ据付穴の水密性を保ったまま容易にポンプの姿勢を修正できるポンプ据付用水密ベース及びポンプ設備を提供すること。例文帳に追加

To provide a water-tight base for installation of a pump capable of easily correcting the attitude of the pump while the water sealability of a pump installation hole is kept even if a structure is tilted by uneven settlement after the installation of the pump, and pump equipment. - 特許庁

fd用いているデータベースのファイルデスクリプタを返すルーチンへのポインタ。例文帳に追加

fd A pointer to a routine which returns a file descriptor representative of the underlying database.発音を聞く  - JM

このことから、ｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴ形成領域において、改質膜１１とポリシリコン膜９をすべてエッチングする際、ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴ形成領域においては、ポリシリコン膜９がすべてエッチングされずに一部が残存する。例文帳に追加

Therefore, at the time of totally etching the modified film 11 and the polysilicon film 9 in the p-channel MISFET forming region, the polysilicon film 9 partially remains without being etched altogether in the n-channel MISFET forming region. - 特許庁

透明導電膜用エッチング液と、ポリスルホン酸化合物及びポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックコポリマーからなる群から選択される１種または２種以上の化合物とを含有する、エッチング液組成物。例文帳に追加

The etchant composition contains the etchant for the transparent conductive film and one kind or two or more kinds of compounds, selected from among a group composed of a polysulfonic acid compound and a polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer. - 特許庁

基板上にポリマー光導波路積層体を形成後、シリコンレジストを使用してポリマー光導波路積層体の不要部をドライエッチングにより除去する際に、エッチングの前にポストベーキング処理を行うことを特徴とするポリマー光導波路の製造法。例文帳に追加

When an unnecessary part of the polymer optical waveguide laminate is removed by dry etching using a silicone resist after the polymer optical waveguide laminate is formed on the substrate, a post-baking treatment is performed prior to the etching. - 特許庁