磨起の英語

光励起電解研磨法による貫通孔形成方法例文帳に追加

THROUGH HOLE FORMING METHOD BY LIGHT EXCITATION ELECTROLYTIC POLISHING METHOD - 特許庁

光励起電解研磨法による貫通孔形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING THROUGH HOLE BY OPTICAL EXCITED ELECTROLYTIC POLISHING METHOD - 特許庁

光励起電解研磨法による貫通孔形成方法例文帳に追加

PROCESS FOR FORMING THROUGH-HOLE BY ELECTROLYTIC POLISHING WITH LIGHT EXCITATION - 特許庁

被研磨体の直径の１〜２倍の研磨面を有する研磨パッドを用いる研磨装置において、研磨パッドの研磨面に形成された周期的な溝構造に起因する研磨ムラをなくし精度良く研磨することができる研磨装置および方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device and method capable of performing accurate polishing without the polishing unevenness caused by the cyclic groove structure formed in the face of the polishing face of a polishing pad in the polishing device using a polishing pad having a polishing face of 1 to 2 times the diameter of a workpiece. - 特許庁

両面研磨機において、被研磨物６を保持するキャリア８の片面に突起部５設ける。例文帳に追加

In the double side polisher, a projection 5 is formed on one surface of a carrier 8 holding the polishing object 6. - 特許庁

溝入研磨布を用いて研磨する際に、研磨布の研磨面に形成された溝の構造等に起因するナノメーター（ｎｍ）レベルの研磨ムラをなくしさらに研磨能力も向上させることのできる研磨布及びこれを用いる研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing cloth and a polishing method eliminating polishing unevenness on nanometer (nm) level caused by the structure of grooves formed on the polishing surface of the polishing cloth and improving polishing capacity when polishing a work using a grooved polishing cloth. - 特許庁

被研磨体の厚さのバラツキに起因して研磨工具の研磨面と被研磨体の被研磨面との間の加工圧力が変化することにより発生する被研磨体の研磨除去量の均一性を向上させることができる研磨装置を提供する。例文帳に追加

To enhance the uniformity of an amount of abrasive removal in a body to be polished encountered by a variation in working pressure between the polishing surface of a polishing tool and the surface to be polished of the body to be polished caused by a variation in the thickness of the body to be polished. - 特許庁

研磨装置１は、走行する研磨テープにより、基板２表面に存在する突起欠陥を修正する研磨装置である。例文帳に追加

The grinding device 1 corrects a projection defect present on the surface of a substrate 2. - 特許庁