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"透明欠陥"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
開口部用フォトマスクの不透明欠陥修理方法例文帳に追加
METHOD FOR REPAIRING OPAQUE DEFECTIVE PART OF PHOTOMASK FOR OPENING PART - 特許庁
これにより、フォトマスクの不透明欠陥を精度よく修理しうる。例文帳に追加
The opaque defective part of the photomask is removed precisely. - 特許庁
光透過性の透明欠陥を精度良く検出することができるマスク検査装置およびマスク検査方法を提供する。例文帳に追加
To provide a mask inspecting device and a mask inspecting method capable of accurately detecting light-transmissive transparent defects. - 特許庁
数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するテストマスクにより半透明欠陥に対する欠陥検査装置の検出感度調整することを目的とする。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing a test mask, having several kinds of transmittances and patterns that have different dimensions at various kind of transmittance, and to provide a method for controlling the detection sensitivity of a defect inspection apparatus that uses the test mask. - 特許庁
テストマスクをウェハーへ転写し、各種欠陥の保証欠陥寸法と決定し、欠陥検査装置にて、テストマスクにより半透明欠陥に対する欠陥検査装置の検出感度調整する。例文帳に追加
The patterns of the test mask are transferred onto a wafer; the certified defect dimension of each kind of defects is determined; and the detection sensitivity of the defect inspection apparatus, with respect to a semitransparent defect, is controlled by using the test mask in the defect inspecting apparatus. - 特許庁
これにより、ΔＣＤ及びＸ−現象が生じないか、あるいは最小化され、製造工程時の工程マージンが広くなり、かつ不透明欠陥源が生じなくなる。例文帳に追加
As a result, ΔCD and X-phenomena are prevented from arising or are minimized, by which the process step margins during the production process are widened and the occurrence of opaque defect sources is substantially prevented. - 特許庁
事前蝕刻段階により欠陥の厚さを薄くした後、光透過部領域内の事前蝕刻された欠陥が形成されている領域を除いた領域にのみ選択的に補正膜を形成した後、補正膜及び事前蝕刻された欠陥を同時に蝕刻して不透明欠陥を修理する。例文帳に追加
The defective part of a photomask is made thin by pre-etching, a correcting film is selectively formed only in a region except the region with the pre-etched defective part in a light transmissive part and then the correcting film and the pre-etched defective part are simultaneously etched to repair the opaque defective part. - 特許庁
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