「"ablation processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the ablation processing, a laser beam is irradiated along a division scheduled line 2 from the surface side, and a generated debris is received by the protective material P to prevent attachment to the work 1.例文帳に追加

アブレーション加工は該表面側から分割予定ライン２に沿ってレーザビームを照射し、発生するデブリを保護材Ｐで受け、ワーク１への付着を防ぐ。 - 特許庁

The trench 32 is formed by laser beam irradiation through ablation processing for cutting a molecular bond at some portion in the substrate, and performing photolysis and evaporation.例文帳に追加

ここでレーザビーム照射による溝３２は、基板中のある部分の分子結合を切断し、光分解し、気化して蒸発させるアブレーション加工で形成する。 - 特許庁

The electron beam source 3 is arranged so as to face the target 5, and activated particulates having the substantially uniform diameter are generated by performing ablation processing to the target 5.例文帳に追加

電子ビーム源３は、ターゲット５を臨むように配置され、ターゲット５をアブレーションすることにより、ほぼ均一な粒径の活性化された微粒子を発生させる。 - 特許庁

To provide a method for forming a high quality pattern, in particular, a black matrix for a color filter, by which it is possible to easily perform cleaning and removing of decomposed matters or the like when ablation processing by laser beam is performed.例文帳に追加

レーザー光によるアブレーション加工を行う際、分解物などの洗浄除去を容易に行うことができ、高品質のパターン、特にカラーフィルタ用のブラックマトリックスを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The plastic sheet is set so that the squeegeeing surface is opposed to the excimer laser device side, and then the sheet is dug to a desired depth by an ablation processing by exposure to an excimer laser, so as to form the recess around the perforation.例文帳に追加

そして、そのスキージ面がエキシマレーザ装置側に対向するように、プラスチック板をセットしたら、エキシマレーザを照射してアブレーション加工により所望の深さまで掘り下げ、貫通孔の周囲に凹部を形成する。 - 特許庁

A thin film pattern 10 is formed by preforming a water-soluble polymer film 4 on the surface of a film 2 to be processed, provided on a substrate 1, then performing ablation processing by irradiating the surface of the polymer film 4 with laser beam 8 through a pattern mask 7, and removing resin decomposed matters 6 and remaining water-soluble polymer film 5 by washing.例文帳に追加

基材１上に設けられた被加工膜２の表面に、予め水溶性の高分子膜４を形成し、その高分子膜形成面にパターンマスク７を介してレーザー光８を照射してアブレーション加工を行い、その後水洗を行うことにより、樹脂分解物６と残った水溶性高分子膜５を除去し、薄膜パターン１０を形成する。 - 特許庁