| 例文 (9件) |
軸対称プラズマの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
マイクロ波を用いたプラズマ処理装置において、広いプラズマ処理条件に対してマイクロ波の円偏波化が達成され、軸対称性の良いプラズマ処理特性を得ることのできるプラズマ処理装置の実現と処理方法を提供する。例文帳に追加
To achieve a plasma processing apparatus for achieving circularly polarized wave processing of microwaves to wide plasma processing conditions and obtaining plasma processing characteristics having improved axisymmetry, and to provide a processing method in the plasma processing apparatus using microwaves. - 特許庁
ＵＨＦ帯のＥＣＲプラズマを使用する半導体製造装置において、プラズマの分布の中心軸がウェーハ中心と一致し、軸対称なエッチングを可能とする。例文帳に追加
To enable a semiconductor manufacturing device using UHF-zone ECR plasma to perform such axially symmetric etching on a wafer such that the center axis of the distribution of the plasma coincides with the center of a wafer. - 特許庁
プラズマ処理時に囲い１１０は、上昇して、被処理基体１０２から搬入出口１０９を隠し、該被処理基体からみたプラズマ処理室１０１を軸対称とする。例文帳に追加
Upon plasma treatment, the enclosure 110 is raised to hide the carrying-in and carry-out port 109 from the substrate to be treated 102, so that the plasma treatment chamber 110 becomes axially symmetric with respect to the substrate to be treated. - 特許庁
１ターンのコイル状のアンテナは、２本の周方向に巻かれた巻線によって構成され、給電部において周方向に巻かれた巻線が２重になるようにすることで、給電部でのプラズマの生成を補い、軸対称性に優れるプラズマ生成を可能とする。例文帳に追加
The one-turn coil-like antenna 1 is constituted of two windings wound in the peripheral direction, in a state where the windings wound in the peripheral direction become double in a feeding section, so as to supplement the generation of a plasma in the feeding section so that the plasma having a superior axial symmetric property may be generated. - 特許庁
反応器はさらに、ポンプ環状部を介して軸方向のガス流を閉じ込めて、プラズマがポンプポートに流れるのを防止する手段、ポンプポートの配置から生じるペデスタル全体のガス流パターンの非対称性を補償する手段、縁部が高いプラズマ密度分布を促進する固有の傾向を有するプラズマ分布をコントロールする手段を備える。例文帳に追加
The reactor is further provided with: a means for confining the gas flow in an axial direction through the pump annulation and preventing plasma from flowing to the pump port; a means for compensating for the asymmetry of a gas flow pattern of the whole pedestal generated from the arrangement of the pump port; and a means for controlling the plasma distribution having an inherent tendency to promote the edge-high plasma density distribution. - 特許庁
絶縁部材１６は、中心電極１２の外面又はガイド電極１４の内面に密着し、軸線Ｚ−Ｚに対称に配置され、液体金属のプラズマ媒体を滲み出させる複数の溝を有している。例文帳に追加
Insulating members 16 are arranged in contact with external surfaces of the center electrodes 12 or internal surfaces of guide electrodes 14 symmetrically with respect to an axis Z-Z, and have a plurality of grooves through which a plasma metal of liquid metal seeps out. - 特許庁
プラズマ５から発する軟Ｘ線の強度分布は照射したパルスレーザー光３の光軸に対してほぼ対称となり、この光軸は多層膜回転放物面鏡６の対称軸と一致しているので、多層膜回転放物面鏡６で反射した後に形成される平行光束７も、ほぼ軸対称の強度分布を持つ。例文帳に追加
The intensity distribution of the soft X-ray generated from the plasma 5 becomes nearly symmetric with respect to the optical axis of the pulse laser light 3 and the light axis agrees with the symmetry axis of the multilayer film paraboloid-of-revolution mirror 6 so that the parallel flux 7 formed after reflecting the multilayers film paraboloid-of-revolution mirror 6 has nearly axisymmetric intensity distribution. - 特許庁
プラズマ発生容器１内で軸から遠ざかる方向への高周波の伝搬を規制する三つの規制用素子５１，５２，５３が同軸上に設けられ、完全反射型の対称Ｔ形結合回路と同様の原理により高周波の伝搬を規制する。例文帳に追加
In the vessel 1, three regulating elements 51, 52, and 53, which regulate the propagation of the high frequency in the direction receding from the axis are provided coaxially and regulate the propagation of the high frequency on a principle similar to that of a totally reflecting symmetrical T-shape coupled circuit. - 特許庁
反射波が有っても、マイクロ波の円偏波化が行える円偏波発生器を用いてプラズマ処理の軸対称性を高めるため、円矩形変換器４０２の円形導波管４０５側にスタブ４０３および４０４を設け、スタブ４０３および４０４は円柱状で先端部は半球状とした。例文帳に追加
For enhancing axisymmetry of plasma processing using a circularly polarized wave generator for conducting a circularly polarized wave processing of microwaves regardless of reflection waves, stubs 403, 404 are provided at a side of a circular waveguide 405 in a circle/rectangle converter 402 and the stubs 403, 404 are made cylindrical and the tip is made semicircular. - 特許庁
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