| 例文 (6件) |
ａ回路を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6件
A film 20 is formed on a surface of the circuit board 12 (Fig.3(a)).例文帳に追加
回路基板１２の表面に、膜２０を形成する（図３（ａ））。 - 特許庁
A plate P is mounted on a circuit board R, soldering its terminals 10b to lands (a).例文帳に追加
回路基板ＲにプレートＰをその端子１０ｂをランドａに半田付けして取付ける。 - 特許庁
A circuit board 10 is provided with a substrate-side electrode 11 and a mounting section 12 which is a step for mounting a circuit element 20 and the like, as shown in Fig.(a).例文帳に追加
回路基板１０は、図１（ａ）に示すように基板側電極１１、回路素子２０を実装する段差である実装部１２などを備える。 - 特許庁
With a mask 2 arranged on a circuit board 1, and with solder paste 5 supplied onto the mask 2, a squeegee 3 is moved on the mask 2 in the direction of the arrow A.例文帳に追加
回路基板１上にマスク２が配置され、マスク２上に半田ペースト５が供給され、マスク２上をスキージ３が矢印Ａ方向へ移動される。 - 特許庁
After a circuit pattern is formed, a laminated body 10 in which a palladium appears is dipped in a dilute hydrochloric acid solution so as to remove etching residue, etc., such as iron hydroxide, etc., adhered to the surface of the laminated body 10, making its surface clean (A).例文帳に追加
回路パターンを形成後パラジウム２０が現れた積層体１０を、希塩酸溶液中に浸漬し、積層体１０表面に付着している水酸化鉄等のエッチング残さ等を除去して表面を清浄にする（図２の工程Ａ）。 - 特許庁
A stress effect relaxation region B with a width of 2 μm or more of relaxing the stress effect of affecting the operating characteristic of the element in which an element isolation region 20 is formed in each active region 11 on the periphery of a circuit forming region A.例文帳に追加
回路形成領域Ａの周囲には、素子分離領域２０が各活性領域１１に形成される素子の動作特性に影響を与える応力効果を緩和するための２μｍ以上の幅を持つ応力効果緩和領域Ｂが形成されている。 - 特許庁
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