MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
MASK FOR PRINTING SEALING AGENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE MASK FOR PRINTING SEALING AGENT例文帳に追加
シール剤印刷用マスク及び該シール剤印刷用マスクの製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE FOR STENCIL MASK AND STENCIL MASK, AND EXPOSING METHOD USING IT例文帳に追加
ステンシルマスク用基板及びステンシルマスク並びにそれを用いた露光方法 - 特許庁
MUTING CONVERSATION MASK FOR CELLULAR PHONE例文帳に追加
携帯電話用消音会話マスク - 特許庁
SUPPORT TOOL FOR METAL MASK, INSPECTION METHOD AND TRANSFER METHOD OF METAL MASK例文帳に追加
メタルマスク用保持具およびメタルマスクの検査方法ならびに搬送方法 - 特許庁
MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TEMPLATE例文帳に追加
マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及びテンプレートの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK PROVIDING SYSTEM AND METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク提供システム、マスクブランク提供方法、マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 - 特許庁
SCREEN MASK, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT USING SCREEN MASK AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
スクリーンマスク、それを用いた電子部品の製造方法および電子部品 - 特許庁
FACE MASK FOR SHAMPOO IN BEAUTY SALON例文帳に追加
美容院でのシャンプー用フェイスマスク - 特許庁
ETCHING MASK AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加
エッチングマスクおよびドライエッチング方法 - 特許庁
METAL MASK FOR CRYSTAL ELECTRODE DEPOSITION例文帳に追加
水晶電極成膜用メタルマスク - 特許庁
HOLOGRAM RECORDING DEVICE AND PHASE MASK例文帳に追加
ホログラム記録装置及び位相マスク - 特許庁
MASK FOR PLASMA CVD, AND METHOD OF CLEANING MASK FOR PLASMA CVD例文帳に追加
プラズマCVD用マスク及びプラズマCVD用マスクの洗浄方法 - 特許庁
BLANKS FOR HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁
METALLIC MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
金属マスクとその製造方法 - 特許庁
MASK DATA GENERATION METHOD, EXPOSURE MASK PREPARATION METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
マスクデータ生成方法、露光マスク作成方法およびパターン形成方法 - 特許庁
METALLIC MASK FOR SPRAY COATING AND METHOD OF FORMING THIN FILM USING THE MASK例文帳に追加
スプレー塗布用メタルマスクおよびこのマスクを用いた薄膜作製方法 - 特許庁
BLANK HOLDER FOR MANUFACTURE OF EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加
露光マスク作製用のブランクス保持具および露光マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SHADOW MASK ASSEMBLY, SHADOW MASK ASSEMBLY, AND VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
シャドーマスクアセンブリの製造方法、シャドーマスクアセンブリ、及び蒸着方法 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR SUPPORTING MASK INSPECTION, AND SYSTEM AND METHOD FOR INSPECTING MASK例文帳に追加
マスク検査サポートシステム及び方法並びにマスク検査システム及び方法 - 特許庁
MASK WITH NASAL PLUG FOR PREVENTING MALODOR例文帳に追加
悪臭防止用鼻栓付きマスク - 特許庁
EXPOSURE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
露光用マスクとその製造方法 - 特許庁
MASK FRAME COMBINATION, SUBSTRATE USING THE SAME, AND MASK ALIGNMENT METHOD例文帳に追加
マスクフレーム組合わせ体、それを利用した基板及びマスク整列方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTION MASK AND ALIGNER例文帳に追加
マスク検査方法及び露光装置 - 特許庁
SUBSTRATE ACCOMMODATING CONTAINER, MASK BLANK ACCOMMODATING BODY, AND TRANSFER MASK ACCOMMODATING BODY例文帳に追加
基板収納容器、マスクブランク収納体、および転写マスク収納体 - 特許庁
DEFECTIVE INSPECTING METHOD OF GRAY-TONE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF THE GRAY-TONE MASK例文帳に追加
グレートーンマスクの欠陥検査方法及びグレートーンマスクの製造方法 - 特許庁
MASK FOR EXPOSURE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
露光用マスクとその製造方法 - 特許庁
MEMBRANE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
メンブレンマスク及びその製造方法 - 特許庁
SHADOW MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
シャドウマスクおよびその製造方法 - 特許庁
STENCIL MASK, METHOD OF TRANSFERRING ALIGNMENT MARK, AND METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK例文帳に追加
ステンシルマスク、アライメントマークの転写方法及びステンシルマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING GRAY SCALE MASK, GRAY SCALE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE例文帳に追加
グレースケールマスクの設計方法、グレースケールマスク、及び基板の製造方法 - 特許庁
TENSION MASK FOR COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加
カラー陰極線管用テンションマスク - 特許庁
SUBSTRATE FOR REFLECTION MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR REFLECTION MASK例文帳に追加
反射型マスク用基板及び反射型マスク用基板の製造方法 - 特許庁
CREATION METHOD OF MASK DATA, MASK, AND COMPUTER- READABLE RECORD MEDIUM例文帳に追加
マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁
DOCUMENT GROUP MASK DEVICE, DOCUMENT GROUP MASK METHOD, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
文書群マスク装置、文書群マスク方法、プログラムおよび記録媒体 - 特許庁
MANUFACTURE OF HIGH STRENGTH SHADOW MASK MATERIAL, AND HIGH STRENGTH SHADOW MASK MATERIAL例文帳に追加
高強度シャドウマスク材の製造方法および高強度シャドウマスク材 - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加
反射型マスクブランク及び反射型マスク並びに半導体の製造方法 - 特許庁
mask contains bits that describe the event that occurred (see below). 例文帳に追加
maskには発生したイベント (下記参照) を記述するためのビットが含まれる。 - JM
The affinity bit mask mask contains no processors that are physically on the system, or cpusetsize is smaller than the size of the affinity mask used by the kernel. 例文帳に追加
affinity ビットマスクmaskにシステム上に実際に存在するプロセッサに対応するビットがない。 またはマスク長cpusetsizeがカーネルで使われている affinity マスクより短い。 - JM
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