MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁
The second mask layer having the hollow section as the opening and the mask material are formed as a mask.例文帳に追加
この空洞部を開孔として有する第2のマスク層及びマスク材料を、マスクとして形成する。 - 特許庁
A third handler 13a of a mask retracting mechanism 13 once receives the first mask M1 and holds the mask.例文帳に追加
マスク退避機構13の第3のハンドラ13aは第1のマスクM1を受け取りいったん保持する。 - 特許庁
STUFFINESS PREVENTION TOOL FOR MASK, MASK USING IT, AND THREE-DIMENSIONAL MOLDING METHOD FOR STUFFINESS PREVENTION TOOL FOR MASK例文帳に追加
マスク用蒸れ防止具及びこれを用いたマスク並びにマスク用蒸れ防止具の立体成形方法 - 特許庁
Next, the reflection preventing film 11, cover mask 10 and lower mask 7 are etched using the resist film 12 as a mask.例文帳に追加
次に、レジスト膜12をマスクとして、反射防止膜11、カバーマスク10、下部マスク7をエッチングする。 - 特許庁
MASK MEMBER FOR FILM DEPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF MASK MEMBER FOR FILM DEPOSITION, MASK FILM DEPOSITION METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク用基板の製造方法及びマスクブランクの製造方法、並びに転写マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁
A lower hard mask 109 is etched using the first and second etching mask patterns to form a hard mask pattern.例文帳に追加
第1及び第2のエッチングマスクパターンで下部のハードマスク109をエッチングし、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, AND SUBSTRATE FOR MASK BLANK例文帳に追加
マスクブランク用基板の製造方法及び反射型マスクブランクの製造方法並びにマスクブランク用基板 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加
マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランクス用基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法、並びに転写マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁
XOR operation sections 61, 62 temporarily substitutes a mask of data from a mask m1 to the fixed mask mfx1.例文帳に追加
XOR演算部61,62はデータのマスクを一時マスクm1から固定マスクmfx1に付け替える。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, THE GRAY TONE MASK, METHOD FOR INSPECTING THE GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、グレートーンマスクの検査方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
MASK EQUIPPED WITH NOXIOUS SUBSTANCE ELIMINATING MATERIAL FOR MASK, AND STORAGE METHOD FOR NOXIOUS SUBSTANCE ELIMINATING MATERIAL FOR MASK例文帳に追加
マスク用有害物質除去材を備えたマスク、及び、そのマスク用有害物質除去材の保管方法 - 特許庁
METHOD FOR DIVIDING MASK PATTERN, PROGRAM FOR DIVIDING MASK PATTERN, EXPOSURE MASK, AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁
The exposure device has a mask stage device ST for holding a mask and a lighting device IL2 for lighting up a mask.例文帳に追加
マスクを保持するマスクステージ装置STと、マスクを照明する照明装置IL2とを有する。 - 特許庁
DISPOSABLE THREE-DIMENSIONAL MASK, DISPOSABLE THREE-DIMENSIONAL MASK ENCLOSED BODY AND HEATING SHEET FOR DISPOSABLE THREE-DIMENSIONAL MASK例文帳に追加
使い捨て立体マスク、使い捨て立体マスク封入体及び使い捨て立体マスク用加温シート - 特許庁
To provide a mask inspection device and a mask inspection method which are capable of inspecting a mask of a fine pattern with high sensitivity.例文帳に追加
微細パターンのマスクを高感度で検査できるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND BLANK FOR PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスク用ブランクスの製造方法、位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク用ブランクス - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクス及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MAKING EXPOSURE MASK PATTERN, EXPOSURE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK例文帳に追加
露光用マスクパターンの作成方法および露光用マスクと、それを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
A hard mask structure is formed on the phase-change layer and a resist mask is formed on the hard mask structure.例文帳に追加
ハードマスク構造が相変化層上に形成され、レジストマスクがハードマスク構造上に形成される。 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK FOR CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING CHROMELESS PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
クロムレス位相シフトマスク用フォトマスクブランク、クロムレス位相シフトマスク、及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
A second mask pattern (15) is left by etching the second mask film using the resist pattern as an etching mask.例文帳に追加
レジストパターンをエッチングマスクとして、第2のマスク膜をエッチングすることにより、第2のマスクパターン(15)を残す。 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁
MASK BLANK FOR ELECTRON BEAM PLOTTING, MASK FOR ELECRON BEAM PLOTTING AND MANUFACTURE OF MASK FOR ELECTRON BEAM PLOTTING例文帳に追加
電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING THE MASK BLANK, AND METHOD FOR PRODUCING MASK FOR TRANSFER例文帳に追加
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 - 特許庁
METAL MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
メタルマスクおよびその製造方法 - 特許庁
MASK STRUCTURE FOR PHOTOGRAPH PRINTING DEVICE例文帳に追加
写真焼付装置のマスク構造 - 特許庁
EXPOSURE MASK AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
露光用マスク及びパターニング方法 - 特許庁
FACE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
フェイスマスク及びその製造方法 - 特許庁
MASK BLANK PRODUCTION LINE CONTROL SYSTEM例文帳に追加
マスクブランク生産ライン制御システム - 特許庁
NOH MASK COMMUNITY FORMING BUSINESS SYSTEM例文帳に追加
能面コミュニティー形成ビジネスシステム - 特許庁
MASK FOR SUPPLYING GAS FOR INHALATION例文帳に追加
吸入用ガス供給用マスク - 特許庁
METAL MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
メタルマスクおよびその製造方法 - 特許庁
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