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「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索


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MASKを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 26886



例文

always successfully returns the signal mask. 例文帳に追加

は常に成功し、シグナルマスクを返す。 - JM

mask points to memory which is not a valid part of the process address space. 例文帳に追加

maskが指しているメモリが、プロセスのアドレス空間の有効な部分ではない。 - JM

TENSION MASK FOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

陰極線管のためのテンションマスク - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK BLANK, MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極端紫外線露光用マスクブランク及びマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁

例文

CYCLONE TYPE MASK LOADED WITH PHOTOCATALYST例文帳に追加

光触媒付加のサイクロン式マスク - 特許庁


例文

MASK GROUP, METHOD FOR MANUFACTURING MASK GROUP AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク群、マスク群の製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE FORMING METHOD AND MASK BY USE OF LITHOGRAPHY MASK例文帳に追加

リソグラフィ・マスクを利用して半導体デバイスを形成する方法およびマスク - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用マスクの製造方法、マスク及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK CASE, MASK CASSETTE, PATTERN TRANSFER METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY APPARATUS例文帳に追加

マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁

例文

MASK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE USING THE MASK例文帳に追加

電子線露光用マスクおよびそれを用いた電子線露光方法 - 特許庁

例文

MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHODS OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

マスクブランク用基板、マスクブランク及びフォトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND PROGRAM, AND PHOTOMASK USING MASK PATTERN CORRECTION METHOD例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、プログラム及び該補正方法を用いたフォトマスク - 特許庁

PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

フォトマスク、位相シフトマスク、露光装置 - 特許庁

Timmy tyler, are you my mask baby?例文帳に追加

テミー・タイラー お前はマスクの息子か? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Hey, take off your mask for a sec.例文帳に追加

ちょっと そのマスク取ってみてよ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

to put a mask over one's facemask one's face―(うわべを飾る意味なら)―dissembledissimulateplay the hypocrite 例文帳に追加

仮面をかぶる - 斎藤和英大辞典

Masks such as Hyottoko (clownish mask) and Okame (plain-looking woman) 例文帳に追加

ひょっとこ、おかめなどの面 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

When I wear a mask, my glasses get steamed up.例文帳に追加

マスクをつけると眼鏡が曇る。 - Tatoeba例文

Tom is wearing a surgical mask.例文帳に追加

トムは医療用マスクをつけている。 - Tatoeba例文

a mask worn when performing Japanese 'kagura' sacred music and dance, called 'shiofuki' 例文帳に追加

潮吹きという,神楽の面 - EDR日英対訳辞書

Both functions use these GC components: function,plane-mask, line-width, line-style, cap-style, join-style, fill-style, subwindow-mode,clip-x-origin, clip-y-origin, and clip-mask. 例文帳に追加

どちらの関数も以下の GC コンポーネントを使用する。 - XFree86

All three functions use these GC components:function, plane-mask, line-width, line-style, cap-style, fill-style, subwindow-mode,clip-x-origin, clip-y-origin, and clip-mask. 例文帳に追加

これら3つの関数が使う GC コンポーネントは以下である。 - XFree86

Both functions use these GC components: function, plane-mask, line-width, line-style, cap-style, join-style,fill-style, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin, and clip-mask.例文帳に追加

いずれの関数も以下の GC コンポーネントを使用する。 - XFree86

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR FABRICATING THEM例文帳に追加

位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁

To provide a mask forming method which can reduce a mask forming cost.例文帳に追加

マスクの形成コストを低減し得るマスク形成方法を提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY METHOD USING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたリソグラフ法 - 特許庁

To provide a mask having excellent functionality and appearance relating to the mask for covering the nose and mouth.例文帳に追加

機能性および見栄えに優れたマスクを提供することにある。 - 特許庁

SCREEN MASK FOR THICK COATING SOLID PRINTING例文帳に追加

厚塗りべた印刷用スクリーンマスク - 特許庁

FACE MASK AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

フェイスマスクおよびその製造方法 - 特許庁

OPC MASK AND LASER REPAIR DEVICE例文帳に追加

OPCマスク並びにレーザリペア装置 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THEM例文帳に追加

反射型マスクブランクおよび反射型マスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁

COMBINATION MASK FOR HIGH-PRECISION PRINTING例文帳に追加

高精細印刷用コンビネーションマスク - 特許庁

MEMBRANE MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND POSITION ACCURACY-MAINTAINING METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加

メンブレンマスク、その製造方法及びマスクパターンの位置精度保持方法 - 特許庁

MASK FOR PRINTING AND PRINTING METHOD例文帳に追加

印刷用マスク及び印刷方法 - 特許庁

To achieve fast mask alignment by obtaining the information of a superimposed state of a real mask alignment mark and a cut-out mask alignment mark formed on a top mask and a back mask, with high accuracy in a short time.例文帳に追加

表マスク及び裏マスクに形成した実マスクアライメントマーク、抜けマスクアライメントマークの重畳状態の情報を高精度に短時間の間で得ることで、マスクアライメントの迅速化を図る。 - 特許庁

To provide a mask in which the deformation of a pattern opening part formed in a unit mask due to a tensile force applied to the unit mask is suppressed, and to provide a mask assembly having the mask.例文帳に追加

単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供する。 - 特許庁

Since the mask 90 is sucked on one face in both processes of mask inspection and exposure, the holding state of the mask 90 in the mask inspection apparatus is kept identical to that of the mask 10 in the exposure apparatus.例文帳に追加

マスク検査時と露光時とで、マスク90は同一の面が吸着されるので、マスク検査装置でのマスク90と露光装置でのマスク10とで、保持状態を同じにできる。 - 特許庁

This mask is provided with a mask substrate 10 including a mask layer 3 and a mask pattern 4 having an opening part 5 of the mask tapered off toward a vapor deposition source.例文帳に追加

マスク層3を含むマスク基板10と、そのマスク層3に形成され、蒸着源に向かって先細りした形状のマスク開口部5を有するマスクパターン4とを備えている。 - 特許庁

After the mask 2 is pressed against the mask holder 20, the force to elevate each arm 36 is decreased, and a side of the mask 2 pressed against the mask holder 20 is pushed to position the mask 2.例文帳に追加

マスク2をマスクホルダ20に押し当てた後、各アーム36を上昇させる力を小さくし、マスクホルダ20に押し当てられたマスク2の側面を押して、マスク2の位置決めを行う。 - 特許庁

To provide a mask holding device holding a mask without wrinkles so that a single mask having no mask frame is conveyed on a substrate or the position of the mask to the substrate is adjusted.例文帳に追加

マスクフレームを備えない単体のマスクを基板上に搬送し、又は基板に対するマスクの位置調整を行うべく、マスクを皺無く保持することができるマスク保持装置を提供する。 - 特許庁

A laminate mask for screen printing comprises an upper layer mask made of a mask member having an opening and laminated on a lower layer mask made of other mask member having other opening to form a predetermined opening.例文帳に追加

開口部を有するマスク部材からなる上層マスクが他の開口部を有する他のマスク部材からなる下層マスク上に積層されて所定の開口部を形成してなる。 - 特許庁

To a mask M which is supported by a mask support pedestal 121 in illumination to the mask M, a gas atomizer 131 atomizes an inert gas g, thereby washing the mask M with a mask washer 3.例文帳に追加

マスク支持台121が支持するマスクMへ、マスクMへの照明において不活性なガスgをガス噴霧部131が噴霧することによって、マスク洗浄部3がマスクMを洗浄する。 - 特許庁

STENCIL MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

ステンシルマスク及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING BLACK DEFECT IN CHROMIUM MASK例文帳に追加

クロムマスク黒欠陥修正方法 - 特許庁

PATTERN EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン露光方法および露光マスク - 特許庁

MASK INSPECTION METHOD AND INSPECTION APPARATUS例文帳に追加

マスク検査方法および検査装置 - 特許庁

TRANSFERRING MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

転写マスク及びその作製方法 - 特許庁

INSPECTION DEVICE AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

検査装置及びマスク製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MASK, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

蒸着マスクとその製造方法 - 特許庁

例文

PRODUCTION METHOD OF TOUCH PANEL AND MASK例文帳に追加

タッチパネルの製造方法及びマスク - 特許庁




  
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