「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

GRAY TONE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクブランクとその製造方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

Before the mask 2 is detached from the mask holder 20, the amount of bend of the mask 2 is detected by the detecting means 11.例文帳に追加

マスク２をマスクホルダ２０から取り外す前に、検出手段１１によりマスク２のたわみ量を検出する。 - 特許庁

After the mask 2 is attached to the mask holder 20, the amount of bend of the mask 2 is detected by the detecting means 11.例文帳に追加

マスク２をマスクホルダ２０に装着した後に、検出手段１１によりマスク２のたわみ量を検出する。 - 特許庁

The screen printing mask 1 is provided with a mask part 11 and a plurality of peripheral walls erecting from the mask part 11.例文帳に追加

スクリーン印刷用マスク１はマスク部１１とマスク部１１から立設した複数の周壁１２とを備えている。 - 特許庁

The mask area in the first mask image data is degenerated for prescribed width to generate second mask image data (S7).例文帳に追加

第１のマスク画像データのマスク領域を所定幅縮退し、第２のマスク画像データを生成する（Ｓ７）。 - 特許庁

SHADOW MASK OF X-RAY DETECTOR, COMPUTED TOMOGRAPHY UNIT HAVING SHADOW MASK, AND METHOD FOR ADJUSTING SHADOW MASK例文帳に追加

Ｘ線検出器の孔マスク、孔マスクを有するコンピュータ断層撮影装置および孔マスクの調整方法 - 特許庁

A shade 23a light-shielding a part of a mask M is mounted on a mask stage 5 holding the mask M.例文帳に追加

マスクＭを保持するマスクステージ５上には、マスクＭの一部を遮光する遮光板２３ａが設けられている。 - 特許庁

The reading processor 100 sets initial mask length and mask value based on the mask information, and starts the reading processing.例文帳に追加

読取処理装置１００はマスク情報に基づき初期のマスク長・マスク値を設定し、読取処理を開始する。 - 特許庁

While the position reference mark 8 is used to detect the position of the mask layer 4, a mask pattern is drawn on the mask layer 4.例文帳に追加

位置基準マーク８をマスク層４の位置検出に用いながら、マスク層４にマスクパターンを描画する。 - 特許庁

A mask decompressing part 340 uses the mask data 103 to restore the log file 101 from the mask log file 104.例文帳に追加

マスク解除部３４０はマスクデータ１０３を用いてマスクログファイル１０４からログファイル１０１を復元する。 - 特許庁

To provide a mask holder by which an aligning mask is surely held and the occurrence of dust from the aligning mask is prevented.例文帳に追加

露光マスクを確実に保持し，かつ露光マスクからの粉塵の発生を防止するマスクホルダーを提供すること。 - 特許庁

PROTECTIVE APPARATUS, MASK, MASK FORMING APPARATUS, MASK FORMING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, DEVICE FABRICATING METHOD, AND FOREIGN MATTER DETECTION APPARATUS例文帳に追加

保護装置、マスク、マスク形成装置、マスク形成方法、露光装置、デバイス製造方法、及び異物検出装置 - 特許庁

The mask 20 is also bent in convex shape toward the substrate 10 by a mask pressing member 22 on a mask table 21.例文帳に追加

マスク２０も、マスク置台２１上でマスク押圧部材２２によって基板１０に向かって凸形状に撓ませる。 - 特許庁

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PRODUCTION OF HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

After molding the skirt portion 14 formed at the mask 13 and near surrounding edge of the mask portion 13 the shadow mask 11 is composed.例文帳に追加

マスク部13およびこのマスク部13の周縁に形成されるスカート部14を成形し、シャドウマスク11を構成する。 - 特許庁

PIN PLATE DRAW-IN TYPE METAL MASK FORM HAVING METAL MASK PLATE REMOVABLE FROM FRAME, AND METAL MASK PLATE USED THEREFOR例文帳に追加

メタルマスクプレートが枠に着脱可能である、ピンプレート引き込み式メタルマスク版とそれに使用するメタルマスクプレート - 特許庁

The substrate holder 10 comprises a mask frame 11, and a shadow mask 12 which is weld-fixed to the mask frame 11.例文帳に追加

基板ホルダー１０は、マスクフレーム１１と、このマスクフレーム１１に溶接固定されたシャドーマスク１２とを備えている。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

To provide a binary mask blank, a transfer mask and a transfer mask set, suitable for application to double-exposure technology.例文帳に追加

ダブル露光技術への対応に適したバイナリ型マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクセットを提供する。 - 特許庁

GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

マスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、マスクブランクスの製造方法、並びに露光用マスクの製造方法 - 特許庁

The support transport device is coupled to the mask support device and moves the mask support device concurrently with the mask force device.例文帳に追加

サポート移送デバイスは、マスクサポートデバイスに結合され、かつマスク力デバイスと同時にマスクサポートデバイスを移動させる。 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR SHADOW MASK, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SHADOW MASK MADE OF RAW MATERIAL, AND PICTURE TUBE USING SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク用素材、その製造方法、その素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを用いた受像管 - 特許庁

MASK FOR ARTIFICIAL RESPIRATION, ARRANGEMENT OF THE MASK, ARTIFICIAL RESPIRATION SYSTEM, AND PACKAGED UNIT OF MASK FOR ARTIFICIAL RESPIRATION例文帳に追加

人工呼吸用マスク、人工呼吸用マスクの配置、人工呼吸システムおよび人工呼吸用マスクのパッケージユニット - 特許庁

A mask pattern is formed on a substrate, and ion is implanted by using the mask pattern as a mask, thereby forming an amorphous layer.例文帳に追加

基板にマスクパターンを形成し、このマスクパターンをマスクとして、イオンを注入し、非晶質層を形成する。 - 特許庁

MASK DATA GENERATION PROGRAM, MASK DATA GENERATION METHOD, MASK FABRICATION METHOD, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

原版データ作成プログラム、原版データ作成方法、原版作成方法、露光方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

SHEET PROVIDED WITH VAPOR DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE PROVIDED WITH VAPOR DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SHEET PROVIDED WITH VAPOR DEPOSITION MASK例文帳に追加

蒸着マスク付シート、蒸着マスク装置の製造方法、および、蒸着マスク付シートの製造方法 - 特許庁

The above step of bonding the shadow mask onto the mask frame comprises the steps of; making the shadow mask adjoin to the mask frame; applying the external force to the shadow mask; and bonding the shadow mask to which the external force is applied, to the mask frame.例文帳に追加

また、前記シャドウマスクを前記マスクレーム上に付着する段階は、前記シャドウマスクを前記マスクフレーム上に隣接させる段階と、前記シャドウマスクに外力を加える段階と、前記マスクフレーム上に外力が加えられた前記シャドウマスクを接合させる段階と、からなる。 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR GRADATION MASK例文帳に追加

階調マスクの欠陥修正方法 - 特許庁

MASK, MANUFACTURING METHOD OF THE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL DEVICE例文帳に追加

マスク及びマスクの製造方法、並びに有機ＥＬ装置の製造方法 - 特許庁

To design a mask in a short time by a mask design device.例文帳に追加

マスク設計装置によるマスクの設計を短期に行うことを可能にする。 - 特許庁

OPENING OF NON-INVASIVE ARTIFICIAL RESPIRATION MASK例文帳に追加

非侵襲的人工呼吸マスクの穴 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANKS例文帳に追加

マスクブランクス用基板の製造方法 - 特許庁

MASK STRUCTURAL BODY AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

マスク構造体及びパターニング方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR SEPARATING SHADOW MASK, AND METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク分離方法、その装置、シャドウマスクの検査方法およびその装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING SHADOW MASK AND METHOD OF MANUFACTURING FOR SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスクの検査方法及びその装置ならびにシャドウマスクの製造方法 - 特許庁

To provide a mask pattern correcting method which can prevent a shift in a pattern position due to mask deformation due to gravity, and to provide a mask pattern manufacturing method and a mask.例文帳に追加

重力によるマスクの変形によりパターンの位置がずれるのを防止できるマスクパターン補正方法、マスク製造方法およびマスクを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING FINE STRUCTURE, BINARY MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING BINARY MASK例文帳に追加

微細構造体の製造方法、２値マスク、および２値マスクの製造方法 - 特許庁

The movable mask 6 is moved linearly and the fixed mask 5 is rotated, by which the moving direction of the movable mask 6 with respect to the fixed mask 5 can be altered.例文帳に追加

可動マスク６は、直線移動し、固定マスク５が回転することによって可動マスク６の固定マスク５に対する移動方向が変更可能である。 - 特許庁

CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM例文帳に追加

マスクパタ—ン補正方法及びマスクパタ—ン補正プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

With the resist mask 12 as the etching mask, anisotropic etching is carried out by using the resist mask 12 as an etching mask to form cavity parts, of which the wall surfaces are vertical in the silicon substrate 10 as shown by Fig (d).例文帳に追加

レジストマスク１２をエッチングマスクとして、異方性エッチングを行い、シリコン基板１０に壁面が垂直な窪み部を形成する（ｄ）。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK STRUCTURE, MASK STRUCTURE AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

マスク構造体の製造方法およびマスク構造体ならびに蒸着装置 - 特許庁

STENCIL MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ステンシルマスク及びその製造方法 - 特許庁

The mask device 1 comprises a support frame 10, a tensile member 11, a mask mounting frame 12, a printing mask 13, a mask attaching and detaching mechanism 14 and the like.例文帳に追加

マスク装置１は支持枠１０と張設部材１１とマスク装着枠１２と印刷マスク１３とマスク着脱機構１４などを備えている。 - 特許庁

A mask circuit 52 sets a mask range depending on the communication environment.例文帳に追加

マスク回路５２に、通信環境によって決まるマスク範囲が設定される。 - 特許庁