MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, MASK BLANK, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND EXPOSURE MASK例文帳に追加
露光マスクの作製方法、半導体装置の製造方法、および露光マスク - 特許庁
SUBSTRATE WITH REFLECTIVE MULTILAYER FILM, REFLECTIVE MASK BLANK, AND REFLECTIVE MASK例文帳に追加
反射多層膜付き基板及び反射型マスクブランクス並びに反射型マスク - 特許庁
METHOD OF PASSIVATION TREATMENT OF MASK INCLUDING CHROMIUM LAYER, AND MASK SUBJECTED TO THE SAME例文帳に追加
クロム層を含むマスクの不動態処理方法及びそれを施したマスク - 特許庁
FLATNESS SIMULATION SYSTEM FOR MASK SUBSTRATE例文帳に追加
マスク基板の平坦度シミュレーションシステム - 特許庁
MASK BLANKS FOR EUV EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD AND MASK FOR EUV EXPOSURE例文帳に追加
EUV露光用マスクブランクスおよびその製造方法、EUV露光用マスク - 特許庁
ULTRAVIOLET RAY CUTTING MASK AND SEALING DEVICE例文帳に追加
紫外線カットマスク及び封止装置 - 特許庁
ALUMINIUM HARD MASK FOR DIELECTRIC ETCHING例文帳に追加
誘電体エッチング用アルミニウムハードマスク - 特許庁
MASK BLANK FOR PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE, PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE例文帳に追加
基板彫り込み型の位相シフトマスク用のマスクブランクス、基板彫り込み型の位相シフトマスク、および基板彫り込み型の位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFTING MASK FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE MASK例文帳に追加
半導体素子製造のための位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
移相マスクおよび半導体デバイス - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ION-IMPLANTATION STENCIL-MASK AND ION-IMPLANTATION STENCIL-MASK例文帳に追加
イオン注入用ステンシルマスクの製造方法及びイオン注入用ステンシルマスク - 特許庁
And their hand got contaminated with the outside of the mask例文帳に追加
手がマスクの外側で汚染され - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
What the fuck are you doing, huh? where's your fucking mask?例文帳に追加
お前こそ マスクをどこへやった? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
A noh mask is a mask used in noh theater and some forms of kagura (musical dance). 例文帳に追加
能面(のうめん)は、能楽や一部の神楽で用いられる仮面である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
of a painting, mask or other surface, the action of painting on a beard and moustache with black ink 例文帳に追加
墨でひげを書くこと - EDR日英対訳辞書
This mask is the bitwise inclusive OR of the valid attribute mask bits.例文帳に追加
このマスク値は、正しいマスクビット値のビットごとの論理和を取ったものである。 - XFree86
VAPOR DEPOSITION MASK AND MANUFACTURING METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK, ORGANIC EL ELEMENT, ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機EL素子、電子機器 - 特許庁
MASK ROM AND ITS INSPECTION METHOD例文帳に追加
マスクROM及びその検査方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND METHOD FOR INSPECTING EXPOSURE MASK例文帳に追加
露光用マスク、電子装置の製造方法、及び露光用マスクの検査方法 - 特許庁
TRANSFER MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
転写マスクおよびその製造方法 - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND EXPOSURE METHOD OF EXTREMELY SHORT ULTRAVIOLET RAY例文帳に追加
反射型マスクブランク、反射型マスク及び極端紫外線の露光方法 - 特許庁
TRANSFER MASK BLANK, TRANSFER MASK, AND TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加
転写マスクブランク、転写マスク並びにその転写マスクを用いた転写方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR MASK BLANK例文帳に追加
マスクブランクス用基板の製造方法 - 特許庁
In the mask jig mounting process, the mask jig 18 is inserted to the inner side of the base body 1 while elastically deforming the mask jig 18 in the direction of reducing the curvature radius of the mask jig 18, and by elastic restoration force of the mask jig 18, a mask outer surface 18b is tightly attached to the mask part 4 and the mask jig 18 is fixed to the mask part 4.例文帳に追加
マスク治具装着工程では、マスク外面18bの曲率半径が縮小する方向にマスク治具18を弾性変形させつつ、マスク治具18を基体1の内側に挿入し、マスク治具18の弾性復元力により、マスク外面18bをマスク部4に密着させると共にマスク治具18をマスク部4に固定する。 - 特許庁
To provide a mask case which is capable of sufficiently releasing the static electricity generated by contact of a mask with the mask case from the chromium film of the mask and is capable of well transporting the mask without allowing mask patterns to give rise to electrostatic discharge damage.例文帳に追加
マスクがマスクケースと接触することによって発生する静電気をマスクのクロム膜から充分に放出でき、マスクパターンが静電破壊を起こさずに良好にマスクを運搬することのできるマスクケースを提供する。 - 特許庁
The exposure device 10 exposes a wafer 7 to light, by using a mask pattern 30 having a metal wiring mask pattern 31 and an identification mask pattern 32, and a mask pattern 40 having a metal wiring mask pattern 41 and an identification mask pattern 42.例文帳に追加
露光装置10は、金属配線マスクパターン31及び識別マスクパターン32を有するマスクパターン30と、金属配線マスクパターン41及び識別マスクパターン42を有するマスクパターン40とを用いてウエハ7を露光する。 - 特許庁
Further, the mask plate is mounted on a mask holder base via the mask plate fixing fixture, thus, the mask plate corresponding to the size of the aperture determining the inner diameter of the mask plate fixing fixture is selectively mounted on the mask holder base.例文帳に追加
しかも、マスク板固定治具を介してマスク板をマスクホルダベースに装着するようにしているので、マスク板固定治具の内径を決める開口の大きさに応じたマスク板を選択的にマスクホルダベースに装着することができる。 - 特許庁
GRAY TONE MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
グレートーンマスク及びパターン転写方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF BLANK FOR TRANSFER MASK例文帳に追加
転写マスク用ブランクスの製造方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
露光用マスク及びその製造方法 - 特許庁
PROCESS FOR MANUFACTURING FACE MASK FOR BALL GAME例文帳に追加
球技用フェイスマスクの製造方法 - 特許庁
MASK ROM, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
マスクROM及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING STEEL SHEET FOR SHADOW MASK例文帳に追加
シャドウマスク用鋼板の製造方法 - 特許庁
HARD MASK COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加
リソグラフィ工程のハードマスク用組成物 - 特許庁
SCREEN MASK AND SCREEN PROCESS PRINTING METHOD例文帳に追加
スクリーンマスク及びスクリーン印刷方法 - 特許庁
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