「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

MASK INSPECTION METHOD, MASK PRODUCTION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスク検査方法、マスク作製方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加

位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造装置 - 特許庁

MASK, MASK MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

WAVELENGTH CONVERSION DEVICE AND MASK INSPECTION DEVICE例文帳に追加

波長変換装置、マスク検査装置 - 特許庁

To provide a mask frame etc., that protects a mask and is improved in the reproducibility of the position of the mask when the mask is attached to and removed from the frame.例文帳に追加

マスクを保護するとともに、マスクのフレームからの取り付け取り外しの際のマスク位置再現性を向上させたマスクフレームなどを提供する。 - 特許庁

Then, mask patterns after correcting are created for every mask pattern by performing pattern correction to the mask patterns using the amount of the pattern correction for every mask pattern.例文帳に追加

そして、前記マスクパターン毎のパターン補正量を用いた前記マスクパターンへのパターン補正を前記マスクパターン毎に行うことにより補正後マスクパターンを作成する。 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK AND MASK BLANK, AND PATTERN TRANSFERRING METHOD例文帳に追加

極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

The mask backup unit 2 has a plurality of mask backup pieces 20L, 20R.例文帳に追加

マスクバックアップ装置２は、複数のマスクバックアップ片２０Ｌ、２０Ｒを有する。 - 特許庁

Ion implantation of boron is executed on one desired part of the second hard mask 40, and the first hard mask 30 is etched using the second hard mask 40 as a mask.例文帳に追加

第２ハードマスク４０の所望の一部にボロン等のイオン注入を行った後、第２ハードマスク４０をマスクとして第１ハードマスク３０をエッチングする。 - 特許庁

MASK FOR SCREEN PRINTING AND METHOD FOR MOUNTING SEMICONDUCTOR PART USING THIS MASK例文帳に追加

スクリーン印刷用マスクおよびそれを用いた半導体部品の実装方法 - 特許庁

MASK ARRANGING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

マスク配設装置およびスパッタリング装置 - 特許庁

MASK ROM AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

マスクＲＯＭ及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN FOR EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加

露光用マスクパターンの補正方法、並びに露光用マスクの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND THE TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

METAL MASK FOR ELECTRODE FILM DEPOSITION ON QUARTZ例文帳に追加

水晶電極成膜用メタルマスク - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING X-RAY MASK AND EXPOSURE METHOD USING X-RAY MASK例文帳に追加

Ｘ線マスクの製造方法、およびＸ線マスクを用いた露光方法 - 特許庁

MASK PROJECTION SIMULTANEOUS SCANNING ALIGNER例文帳に追加

マスク投影同時走査型露光装置 - 特許庁

COLOR CATHODE-RAY TUBE AND SHADOW MASK例文帳に追加

カラー陰極線管およびシャドウマスク - 特許庁

GRAY TONE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

グレートーンマスク及びその製造方法 - 特許庁

MATERIAL FOR SHADOW MASK FOR COLOR IMAGE IMAGE RECEIVING TUBE, SHADOW MASK, AND COLOR IMAGE RECEIVING TUBE例文帳に追加

カラー受像管用シャドウマスク用素材、シャドウマスクおよびカラー受像管 - 特許庁

SHADOW MASK FOR FLAT-FACE CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

平面陰極線管のシャドウマスク - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK例文帳に追加

半導体装置の製法及びマスク - 特許庁

GRAY-TONE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

グレートーンマスク及びその製造方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR HALFTONE MASK AND HALFTONE MASK WITH CORRECTED DEFECT例文帳に追加

ハーフトーンマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正されたハーフトーンマスク - 特許庁

ENGAGING MEMBER, MASK HOLDING MEMBER USING THE SAME AND COMPOSITE MASK USING THE SAME例文帳に追加

掛合部材、これを用いたマスク保持部材及びこれを用いた複合マスク - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING THE SAME例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE ALIGNER FOR DRAWING MASK例文帳に追加

マスク描画用電子線露光装置 - 特許庁

MASK BLANKS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

マスクブランクス及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND MASK例文帳に追加

レジストパターン形成方法およびマスク - 特許庁

EQUIPMENT FOR MASK AND VACUUM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

マスク装置及び真空成膜装置 - 特許庁

STENCIL MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加

荷電粒子線露光用ステンシルマスク - 特許庁

STENCIL MASK FOR CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加

荷電粒子線露光用ステンシルマスク - 特許庁

METHOD FOR SYNTHESIZING MASK DATA, METHOD FOR INSPECTING MASK DATA, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED DEVICE例文帳に追加

マスクデータ合成方法、マスクデータ検証方法及び半導体集積装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ALTERNATE PHASE INVERSION MASK例文帳に追加

交互位相反転マスクの製造法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING DIMENSION OF LSI MASK例文帳に追加

ＬＳＩマスクの寸法測定方法 - 特許庁

MASK, MANUFACTURING METHOD OF THE MASK, PATTERN FORMING METHOD AND WIRING PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、パターン形成方法、配線パターン形成方法 - 特許庁

With the top surface of the second hard mask layer 40 as an etching mask, the second and first hard mask layers 40 and 20 are etched to form a hard mask pattern 60.例文帳に追加

第２ハードマスク層４０の上部をエッチングマスクとして第２及び第１ハードマスク層４０及び２０をエッチングしハードマスクパターン６０を形成する。 - 特許庁

DEVICE MANUFACTURING METHOD, MASK AND DEVICE例文帳に追加

デバイス製造方法、マスクおよびデバイス - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MASK AND VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

蒸着マスク及び蒸着方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANKS, AND MANUFACTURING METHOD OF MASK BLANK例文帳に追加

マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

EDGE MASK DEVICE IN ELECTROPLATING TANK例文帳に追加

電気メッキタンクにおけるエッジマスク装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR SUPPORTING PHOTO-MASK例文帳に追加

フォトマスク支持方法及び支持装置 - 特許庁

The affinity mask is preserved across an execve (2). 例文帳に追加

affinity マスクはexecve (2) の前後で保存される。 - JM

can be used to manipulate the signal mask. 例文帳に追加

を使って、シグナルマスクを操作できる。 - JM