「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR FORMING BLACK MASK OF MICROLENS ARRAY例文帳に追加

マイクロレンズアレイのブラックマスク形成方法 - 特許庁

MASK HAVING WAVE FORM ALONG CIRCUMFERENCE例文帳に追加

波状の形成を周囲に有するマスク。 - 特許庁

METAL MASK PRINTING PLATE AND PRINTING METHOD例文帳に追加

メタルマスク印刷版及び印刷方法 - 特許庁

TRANSFER MASK AND CHARGED BEAM EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

転写マスク及び荷電ビーム露光装置 - 特許庁

MASK AND METHOD OF MANUFACTURING WIRING BOARD例文帳に追加

マスク及び配線基板の製造方法 - 特許庁

PROCESSING APPARATUS AND METHOD USING MASK例文帳に追加

マスクを用いた処理装置および方法 - 特許庁

ELECTRODE FORMING MASK FOR CRYSTAL RESONATOR例文帳に追加

水晶振動子の電極形成マスク - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁

MASK, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND SEMICONDUCTOR COMPONENT例文帳に追加

マスク、リソグラフィ装置及び半導体部品 - 特許庁

TRANSFER MASK AND ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

転写用マスクと電子ビーム露光装置 - 特許庁

MASK FOR ETCHING AND ITS FORMING METHOD例文帳に追加

エッチング用マスク及びその形成方法 - 特許庁

METAL MASK AND CREAM SOLDER PRINTING METHOD例文帳に追加

メタルマスク及びクリーム半田印刷方法 - 特許庁

MASK PATTERN FORMATION METHOD AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパタンの形成方法、およびフォトマスク - 特許庁

EXPOSURE METHOD, PHOTO MASK AND RETICLE STAGE例文帳に追加

露光方法、フォトマスクおよびレチクルステージ - 特許庁

OPTICAL MASK AND MOPA LASER DEVICE例文帳に追加

光学マスクおよびＭＯＰＡレーザ装置 - 特許庁

GRADATION MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

階調マスクおよびその製造方法 - 特許庁

A protective layer and a resist mask 13 are layered on a magnetic layer 12, a protective layer pattern 14P is obtained by using the resist mask 13 as a mask and then the resist mask 13 is decomposed and removed by exposing the resist mask 13 to hydrogen plasma PLH.例文帳に追加

磁性層１２に保護層とレジストマスク１３を積層し、レジストマスク１３をマスクにして保護層パターン１４Ｐを得た後に、レジストマスク１３を水素プラズマＰＬＨに晒して分解除去させた。 - 特許庁

MASK TRANSFER LASER PATTERN MACHINING METHOD例文帳に追加

マスク転写式レーザ形状加工方法 - 特許庁

GRAY TONE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

グレートーンマスク及びその製造方法 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光用マスク及びその製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN FOR FINE STRUCTURE FORMATION EXPERIMENT例文帳に追加

微細構造形成実験用マスクパターン - 特許庁

SHADOW MASK EXPOSING METHOD AND ITS DEVICE例文帳に追加

シャドウマスク露光方法およびその装置 - 特許庁

PROBING PAD, MASK PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

プロービングパッド、マスクパターン、及び電子デバイス - 特許庁

ETCHED METAL THIN SHEET FOR SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク用エッチング済み金属薄板 - 特許庁

The aligner is equipped with mask holder 5, which mounts the mask M, and the mask M has a pellicle frame 3 which mounts a pellicle 2 on the mask M, and the pellicle frame 3 is equipped with a support part 4 supporting the mask M.例文帳に追加

露光装置は、マスクＭを載置するマスクホルダ５を備えており、マスクＭはペリクル２をマスクＭに装着するペリクル枠３を有し、ペリクル枠３には、マスクＭを支持する支持部４を備えている。 - 特許庁

METHOD FOR ALIGNING EXPOSURE MASK AND SUBSTRATE例文帳に追加

露光マスクと基板の位置合わせ方法 - 特許庁

PRESSURE DIFFERENCE ADJUSTING STRUCTURE AND MASK例文帳に追加

圧力差調節構造体及びマスク - 特許庁

POINT LIGHT SOURCE LAMP AND MASK INSPECTING DEVICE例文帳に追加

点光源ランプ及びマスク検査装置 - 特許庁

The face mask set consists of a face mask 1 having a pressure-sensitive adhesive layer on its peripheral edge part of the back surface, and a face mask cover 8 having air-permeable function detachably mounted to the face mask 1 so as to cover the surface of the face mask 1.例文帳に追加

粘着層を裏面の周縁部にもつマスク１と、そのマスク１表面を覆うようにマスク１に着脱可能に装着される通気機能を持つマスクカバー８とからなるマスクセット。 - 特許庁

The mask structure for vapor deposition comprises a mask consisting of a thin sheet, and in which opening parts with a prescribed pattern are formed, a frame supporting a state where tensile force is applied to the mask in one face of the mask, and a cover mask supporting the part of the mask corresponding to the frame on the other face of the mask.例文帳に追加

薄板よりなり、所定パターンの開口部が形成されたマスクと、前記マスクの一つの面にて前記マスクに引張り力が加えられた状態を支持するフレームと、前記マスクの他面にて前記フレームに対応するマスクの部分を支持するカバーマスクとを含んでなる。 - 特許庁

SHADOW MASK STRETCHING DEVICE AND STRETCHING METHOD例文帳に追加

シャドウマスク架張装置及び架張方法 - 特許庁

On the side of a mask-manufacturing line L1, a name for specifying the mask and the progress date and time data of the mask-manufacturing process are turned to items and a mask data base is constructed inside a mask manufacture progress management work station WS1.例文帳に追加

マスク製造ラインＬ_1側では、マスクを特定する名称およびマスク製造工程の進捗日時データを項目として、マスク製造進捗管理ワークステーションＷＳ_1内にマスクデータベースを構築する。 - 特許庁

In the method of forming a pattern, a two-layer mask composed of a first mask and a second mask is formed on a film to be worked, and the pattern is formed by etching the film to be worked using the two-layer mask for the mask.例文帳に追加

パターン形成方法において、被加工膜上に、第１のマスクと第２のマスクとからなる２層のマスクを形成し、この２層のマスクをマスクとして被加工膜をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁

WORK POSITION CONTROLLING DEVICE FOR MASK例文帳に追加

マスクに対するワークの位置制御装置 - 特許庁

MASK ROM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

マスクＲＯＭおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT OF MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの近接効果補正方法 - 特許庁

FACILITATED MASK FOR PROVIDING 100% OXYGEN例文帳に追加

１００％酸素投与用簡易マスク - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD ACCOMPANIED WITH PATTERN MASK例文帳に追加

パターンマスクを伴うプラズマエッチングの方法 - 特許庁

X-RAY MASK, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

Ｘ線マスク及びその製造方法 - 特許庁

In a mask structure which is constituted by uniting the mask substrate and the mask frame with a bonding layer between, the mask substrate and the mask frame are bonded with a thin film bonding layer whose thickness is 0.5-10 μm.例文帳に追加

マスク基板とマスクフレームとを接合層を介して一体化してなるマスク構造体において、該マスク基板とマスクフレームとが厚み：０．５〜１０μmの薄膜接合層により接着されているマスク構造体。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DIFFUSION MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

電子線散乱マスク及び露光方法 - 特許庁

MASK FOR LASER BEAM MACHINING, AND MACHINING METHOD例文帳に追加

レーザー加工用マスク及び加工方法 - 特許庁

DISPOSABLE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

使い捨てマスク及びその製造方法 - 特許庁

METHOD AND EQUIPMENT FOR MASK INSPECTION例文帳に追加

マスク検査方法及びマスク検査装置 - 特許庁