「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

MASK FOR INSPECTION OF EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING THE MASK, AND METHOD FOR INSPECTING EXPOSURE APPARATUS USING THE MASK FOR INSPECTION OF EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

露光装置検査用マスク、その製造方法、及び露光装置検査用マスクを用いた露光装置の検査方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR DEPOSITING PHASE SHIFT FILM例文帳に追加

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びに位相シフト膜の成膜方法 - 特許庁

REFLECTION MASK BLANK FOR EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND REFLECTION MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加

露光用反射型マスクブランク、その製造方法及び露光用反射型マスク - 特許庁

CLEANING DEVICE FOR MASK SUBSTRATE, AND CLEANING METHOD FOR MASK SUBSTRATE USING THE DEVICE例文帳に追加

マスク基板用の洗浄装置及びそれを用いたマスク基板の洗浄方法 - 特許庁

A support member 26 supporting the flat part 2a of the mask 2 is movably mounted on the mask holder 20 holding the mask 2.例文帳に追加

マスク２を保持するマスクホルダ２０に、マスク２の平坦部２ａを支持する支持部材２６を移動可能に取り付ける。 - 特許庁

WORKPIECE MOUNTING DEVICE, WORKPIECE POSITIONING DEVICE, MASK INSTALLING DEVICE AND MASK SEPARATING DEVICE例文帳に追加

ワークの載置装置、ワークの位置決め装置、マスク装着装置及びマスク分離装置 - 特許庁

MASK GENERATION METHOD, MASK FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク生成方法、マスク形成方法、パターン形成方法および半導体装置 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

HALFTONE EUV MASK, HALFTONE EUV MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE EUV MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, METHOD FOR DETECTING POSITION OF ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, AND EQUIPMENT FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK例文帳に追加

電子線投影マスクの検査方法、電子線投影マスクの位置検出方法及び電子線投影マスクの検査装置 - 特許庁

HALFTONE TYPE EUV MASK, HALFTONE TYPE EUV MASK MANUFACTURING METHOD, HALFTONE TYPE MASK EUV BLANK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク及びパターン転写方法 - 特許庁

REFLECTION MASK BLANK, REFLECTION MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN DATA/MASK INSPECTION DATA, AND METHOD FOR MANUFACTURING/INSPECTING PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターンデータ・マスク検査データ作成方法、及びフォトマスクの製造・検査方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCED BY USING THIS PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその位相シフトマスクを用いて製造された半導体装置 - 特許庁

The main mask 20 and the auxiliary mask 30 are welded at numerous welding points.例文帳に追加

主マスク２０と補助マスク３０とは多数の溶接点にて溶接されている。 - 特許庁

REFLECTIVE PHOTO-MASK BLANK, REFLECTIVE PHOTO-MASK AND EXPOSURE METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び極端紫外線の露光方法 - 特許庁

The mask patterns for odd number column and the mask patterns for even number column are separatedly provided.例文帳に追加

奇数カラム用のマスクパターンと偶数カラム用のマスクパターンを個別に用意する。 - 特許庁

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF INVAR ALLOY ORIGINAL PLATE FOR SHADOW MASK AND MANUFACTURE OF SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク用アンバ—合金原板の製造方法およびシャドウマスクの製造方法 - 特許庁

This protective mask 1 is constituted of a mask main body 2 and a suction member 3.例文帳に追加

保護面１は面本体２及び吸引部材３より構成されている。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING THE SAME例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING THE SAME例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁

METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法、マスクパターン形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a mask for correcting a light proximity effect and a method for producing the mask.例文帳に追加

光近接効果の補正のためのマスクとその製造方法を提供する。 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, MATERIAL FOR MASK, AND PATTERN FILM FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁

To provide a mask for forming a fine pattern and a method for forming the mask.例文帳に追加

微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

FACE MASK HAVING SHEET FORM FOR CORRESPONDING TO THREE DIMENSIONAL SHAPE, AND METHOD OF DRAFTING THE MASK例文帳に追加

シート状にして立体に対応するフェイスマスク、及び前記マスクの製図法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask which can manufacture the mask by consistent operations and its mask product.例文帳に追加

一貫作業でマスクを製造することができるマスクの製造方法及びそのマスク製品の提供を目的とする。 - 特許庁

After that, the thinned hard mask film HM2 is removed and a trench is formed using the exposed hard mask film HM1 as a mask.例文帳に追加

その後、膜減りしたハードマスク膜ＨＭ２を除去し、露出したハードマスク膜ＨＭ１をマスクにしてトレンチを加工する。 - 特許庁

SYSTEM FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR PREPARING MASK DATA, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク製造システム、マスクデータ作成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

HALFTONE-TYPE EUV MASK, HALFTONE-TYPE EUV MASK BLANK, PRODUCTION METHOD OF HALFTONE-TYPE EUV MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクブランク用基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型マスクブランク及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

The mask supporting member 40 supporting the mask 4 is attached to a print head 23.例文帳に追加

マスク支持部材４０はマスク４を支持して印刷ヘッド２３に取り付けられる。 - 特許庁

A semiconductor stack having a sacrificial mask and a spacer mask is first provided.例文帳に追加

最初に、犠牲マスク及びスペーサマスクを有する半導体スタックが提供される。 - 特許庁

EUV MASK BLANK QUALITY DETERMINATION METHOD AND EUV MASK BLANK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＥＵＶマスク用ブランクの良否判定方法及びＥＵＶマスクの製造方法 - 特許庁

The chromeless phase shift mask includes a mask substrate and a plurality of phase shifters formed by etching the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板と、このマスク基板をエッチングして設けられた複数の位相反転部と、を備えるクロムレス位相反転マスク。 - 特許庁

MASK VAPOR DEPOSITION METHOD AND APPARATUS, MASK AND MASK MANUFACTURING METHOD, DISPLAY PANEL MANUFACTURING APPARATUS, DISPLAY PANEL AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

マスク蒸着方法及び装置、マスク及びマスクの製造方法、表示パネル製造装置、表示パネル並びに電子機器 - 特許庁

PROBE, ETCHING MASK FOR FORMING PROBE AND PROBE MANUFACTURING METHOD USING ETCHING MASK例文帳に追加

探針、探針形成用エッチングマスク及びそれを用いた探針の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND ION IMPLANTATION METHOD例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、マスクパターンの形成方法、及びイオン注入方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY MASK AND MASK BLANKS FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム描画用マスクの製造方法および電子ビーム描画用マスクブランクス - 特許庁

MASK MATERIAL FOR COLOR PICTURE TUBE, MASK FOR COLOR PICTURE TUBE, AND COLOR PICTURE TUBE例文帳に追加

カラー受像管用マスク材料、カラー受像管用マスクおよびカラー受像管 - 特許庁

MASK PATTERN DESIGNING DEVICE, MASK PATTERN DESIGNING METHOD AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORING MASK PATTERN DESIGN PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン設計装置、マスクパターン設計方法およびマスクパターン設計プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体 - 特許庁