MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
TRANSFER MASK BLANK AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加
転写マスクブランクス及びその製造方法 - 特許庁
A reference mask information generation part 23 generates a reference mask based on the layout of parts configuring the detected face image, and makes a reference mask information storage part 25 store the reference mask.例文帳に追加
基準マスク情報生成部23は、検出された顔画像を構成するパーツの配置に基づいて、基準マスクを生成し、基準マスク情報記憶部25に記憶させる。 - 特許庁
MASK AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスク及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
MASK, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスク、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁
ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PHOTO-MASK例文帳に追加
露光装置、半導体装置およびフォトマスク - 特許庁
A cooling body 4 is brought into contact with a mask foil 3 of a tension mask 1, and the cooling body 4 is scanned on the mask foil to cool the entire surface of the mask foil 3.例文帳に追加
冷却体4をテンションマスク1のマスク箔3に接触させ、冷却体4をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔3の全面を冷却する。 - 特許庁
EXPOSURE VALUE EVALUATION METHOD AND PHOTO MASK例文帳に追加
露光量評価方法およびフォトマスク - 特許庁
MASK PATTERN INSPECTING METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加
電子線露光用マスクパターン検査方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF METAL/PLASTIC HYBRID MASK例文帳に追加
金属・プラスチックハイブリッドマスクの製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTING SYSTEM AND ITS CORRECTING METHOD例文帳に追加
マスクパタ—ン補正システムとその補正方法 - 特許庁
PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
VORTEX PHASE SHIFT MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY例文帳に追加
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク - 特許庁
To provide an apparatus for imparting tension to a vapor-deposition mask, which can fix the vapor-deposition mask that is a metallic thin sheet onto a mask frame, while imparting a stable tension to the vapor-deposition mask.例文帳に追加
金属製薄板材である蒸着マスクに安定した張力を付与してマスクフレームに固定することのできる蒸着マスク張力付与装置を提供する。 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁
PHASE INVERSION MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁
PLASMA CVD DEPOSITION APPARATUS HAVING MASK例文帳に追加
マスクを備えたプラズマCVD成膜装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING WIRING BOARD AND MASK例文帳に追加
配線基板の製造方法およびマスク - 特許庁
In the etching, contribution of chlorine plasma from a SiN_x mask 1411 large in mask thickness is large, and contribution of chlorine plasma from a SiO_2 mask 1410 small in mask thickness is small.例文帳に追加
このエッチングにおいて、マスク厚の厚いSiN_xマスク1411からの塩素プラズマの寄与が大きく、マスク厚の薄いSiO_2マスク1410からの塩素プラズマの寄与は小さい。 - 特許庁
To align a gap between a mask and a substrate in a short time by quickly restoring the mask deformed by air between the mask and the substrate on controlling the gap between the mask and the substrate.例文帳に追加
マスクと基板とのギャップ制御の際、マスクと基板との間の空気により変形したマスクを速やかに元に戻して、マスクと基板とのギャップ合わせを短時間で行う。 - 特許庁
MASK MEMBER PASTING APPARATUS, AND COATING SYSTEM例文帳に追加
マスク部材貼付装置および塗布システム - 特許庁
To provide a mask having a mask pattern for transferring a prescribed circuit pattern; and to provide a method for manufacturing the mask and a method for manufacturing a semiconductor device using the mask.例文帳に追加
所望の回路パターンを転写するためのマスクパターンを有するマスクと、そのマスクの製造方法と、そのマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
FILM PATTERNING METHOD AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
膜のパターニング方法及び露光用マスク - 特許庁
SUBSTRATE HOLDER, MASK HOLDER AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
基板ホルダ、マスクホルダおよび蒸着装置 - 特許庁
MASK FOR TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, PROGRAM FOR FORMING MASK PATTERN, MASK PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
回路パターン転写用マスク、マスクパターン作成方法、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成装置、半導体装置製造方法および半導体装置製造装置 - 特許庁
ALIGNMENT MASK AND DOT POSITION RECOGNITION METHOD例文帳に追加
アライメントマスクおよびドット位置認識方法 - 特許庁
EB TRANSFER MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
EB転写マスク及びその製造方法 - 特許庁
SANITARILY USABLE MASK WITH HANDLE例文帳に追加
衛生的に使用できる持ち手部付きマスク - 特許庁
COATING MASK AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
塗装マスクおよび塗装マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスク製造方法及びマスク製造装置 - 特許庁
To provide an exposure mask, an inspection method for an exposure mask and an inspection device for an exposure mask capable of estimating a size of foreign matter on an exposure mask with high accuracy.例文帳に追加
露光用マスク上の異物の大きさを精度良く推定することができる露光用マスク、露光用マスクの検査方法、及び露光用マスクの検査装置を提供すること。 - 特許庁
DEPOSITION MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
蒸着用マスクおよびその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC BEAM EXPOSURE MASK例文帳に追加
電子ビーム露光用マスクの製造方法 - 特許庁
SHADOW MASK STRUCTURE AND COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加
シャドウマスク構体およびカラー陰極線管 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| Copyright © 1995-2026 Hamajima Shoten, Publishers. All rights reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
