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MASKを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 26886



例文

TRANSFER MASK BLANK AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

転写マスクブランクス及びその製造方法 - 特許庁

A reference mask information generation part 23 generates a reference mask based on the layout of parts configuring the detected face image, and makes a reference mask information storage part 25 store the reference mask.例文帳に追加

基準マスク情報生成部23は、検出された顔画像を構成するパーツの配置に基づいて、基準マスクを生成し、基準マスク情報記憶部25に記憶させる。 - 特許庁

MOUNT TYPE FLAME CUT MASK FOR PHOTOGRAPHING LENS例文帳に追加

撮影レンズ用取り付け式フレアーカットマスク - 特許庁

SOLID ASSEMBLY-TYPE OXYGEN MASK HOLDER例文帳に追加

組立て立体型酸素マスクずれ防止具。 - 特許庁

例文

MASK AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク及び半導体装置の製造方法 - 特許庁


例文

MASK, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスク、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PHOTO-MASK例文帳に追加

露光装置、半導体装置およびフォトマスク - 特許庁

A cooling body 4 is brought into contact with a mask foil 3 of a tension mask 1, and the cooling body 4 is scanned on the mask foil to cool the entire surface of the mask foil 3.例文帳に追加

冷却体4をテンションマスク1のマスク箔3に接触させ、冷却体4をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔3の全面を冷却する。 - 特許庁

AID FOR PREVENTING SLIPPAGE OF CAP-TYPE OXYGEN MASK例文帳に追加

帽子型酸素マスクずれ防止補助具。 - 特許庁

例文

EXPOSURE VALUE EVALUATION METHOD AND PHOTO MASK例文帳に追加

露光量評価方法およびフォトマスク - 特許庁

例文

MASK PATTERN INSPECTING METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加

電子線露光用マスクパターン検査方法 - 特許庁

SUBSTRATE, STENCIL MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

基板及びステンシルマスク並びに露光方法 - 特許庁

MASK ASSEMBLY AND METHOD OF FABRICATING THE SAME例文帳に追加

マスク組立体及びその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF METAL/PLASTIC HYBRID MASK例文帳に追加

金属・プラスチックハイブリッドマスクの製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTING SYSTEM AND ITS CORRECTING METHOD例文帳に追加

マスクパタ—ン補正システムとその補正方法 - 特許庁

PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁

VORTEX PHASE SHIFT MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY例文帳に追加

光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク - 特許庁

To provide an apparatus for imparting tension to a vapor-deposition mask, which can fix the vapor-deposition mask that is a metallic thin sheet onto a mask frame, while imparting a stable tension to the vapor-deposition mask.例文帳に追加

金属製薄板材である蒸着マスクに安定した張力を付与してマスクフレームに固定することのできる蒸着マスク張力付与装置を提供する。 - 特許庁

SHADOW-MASK FRAME ASSEMBLY FOR FLAT FACEPLATE CRT例文帳に追加

平面ブラウン管用シャドーマスクフレームアセンブリ - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁

STENCIL MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN THEREOF例文帳に追加

ステンシルマスク及びそのパターン転写方法 - 特許庁

To Wear a Mask or Not 例文帳に追加

覆(ふく)面(めん)をつけるか,つけないか - 浜島書店 Catch a Wave

METAL MASK AND METHOD FOR WELDING AND FIXING SAME例文帳に追加

メタルマスク及びその溶接固定方法 - 特許庁

PHASE INVERSION MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEPOSITION APPARATUS HAVING MASK例文帳に追加

マスクを備えたプラズマCVD成膜装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING WIRING BOARD AND MASK例文帳に追加

配線基板の製造方法およびマスク - 特許庁

In the etching, contribution of chlorine plasma from a SiN_x mask 1411 large in mask thickness is large, and contribution of chlorine plasma from a SiO_2 mask 1410 small in mask thickness is small.例文帳に追加

このエッチングにおいて、マスク厚の厚いSiN_xマスク1411からの塩素プラズマの寄与が大きく、マスク厚の薄いSiO_2マスク1410からの塩素プラズマの寄与は小さい。 - 特許庁

To align a gap between a mask and a substrate in a short time by quickly restoring the mask deformed by air between the mask and the substrate on controlling the gap between the mask and the substrate.例文帳に追加

マスクと基板とのギャップ制御の際、マスクと基板との間の空気により変形したマスクを速やかに元に戻して、マスクと基板とのギャップ合わせを短時間で行う。 - 特許庁

GAS-MASK AND TOXIC GAS DISPOSING METHOD例文帳に追加

防毒マスクおよび毒性ガス処理方法 - 特許庁

MASK MEMBER PASTING APPARATUS, AND COATING SYSTEM例文帳に追加

マスク部材貼付装置および塗布システム - 特許庁

METHOD FOR PREPARING DITHER MASK AND PRINTER例文帳に追加

ディザマスク作成方法および印刷装置 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING METAL MASK BY ELECTROFORMING PROCESS例文帳に追加

電鋳法によるメタルマスクの製造方法 - 特許庁

CARRYING ARM AND PHOTO MASK MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

搬送アーム及びフォトマスク製造用装置 - 特許庁

To provide a mask having a mask pattern for transferring a prescribed circuit pattern; and to provide a method for manufacturing the mask and a method for manufacturing a semiconductor device using the mask.例文帳に追加

所望の回路パターンを転写するためのマスクパターンを有するマスクと、そのマスクの製造方法と、そのマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

METAL MASK POSITION ALIGNMENT METHOD AND DEVICE例文帳に追加

メタルマスク位置アラインメント方法及び装置 - 特許庁

FILM PATTERNING METHOD AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加

膜のパターニング方法及び露光用マスク - 特許庁

SUBSTRATE HOLDER, MASK HOLDER AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

基板ホルダ、マスクホルダおよび蒸着装置 - 特許庁

MASK FOR TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, PROGRAM FOR FORMING MASK PATTERN, MASK PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

回路パターン転写用マスク、マスクパターン作成方法、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成装置、半導体装置製造方法および半導体装置製造装置 - 特許庁

ALIGNMENT MASK AND DOT POSITION RECOGNITION METHOD例文帳に追加

アライメントマスクおよびドット位置認識方法 - 特許庁

EB TRANSFER MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

EB転写マスク及びその製造方法 - 特許庁

SANITARILY USABLE MASK WITH HANDLE例文帳に追加

衛生的に使用できる持ち手部付きマスク - 特許庁

METHOD FOR FORMATION OF RESIST MASK FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング用レジストマスクの形成方法 - 特許庁

COATING MASK AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

塗装マスクおよび塗装マスクの製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスク製造方法及びマスク製造装置 - 特許庁

To provide an exposure mask, an inspection method for an exposure mask and an inspection device for an exposure mask capable of estimating a size of foreign matter on an exposure mask with high accuracy.例文帳に追加

露光用マスク上の異物の大きさを精度良く推定することができる露光用マスク、露光用マスクの検査方法、及び露光用マスクの検査装置を提供すること。 - 特許庁

DEPOSITION MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着用マスクおよびその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC BEAM EXPOSURE MASK例文帳に追加

電子ビーム露光用マスクの製造方法 - 特許庁

The mask and the side wall layer are removed.例文帳に追加

マスクおよび側壁層は、除去される。 - 特許庁

例文

SHADOW MASK STRUCTURE AND COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

シャドウマスク構体およびカラー陰極線管 - 特許庁




  
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