「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

The base layer B1 is then removed by using the first hard mask layer 5 as a mask.例文帳に追加

次に、第１のハードマスク層５をマスクとして用いて、下地層Ｂ１を除去する。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING MASK DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクデータ作成方法、マスク製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

IONIZING RADIATION CURING PROTECTIVE LIQUID FOR EMULSION MASK AND EMULSION MASK USING THE SAME例文帳に追加

エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク - 特許庁

X-RAY MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND GRADATION MASK FOR ULTRAVIOLET RAY LITHOGRAPHY例文帳に追加

Ｘ線マスク及びその製造方法並びに紫外線リソグラフィー用階調マスク - 特許庁

On the corrosion mask 7, a non-corrosion mask 5 having an opening part 6 is formed.例文帳に追加

この腐食マスク７上に、開口部６を有する非腐食マスク５を形成する。 - 特許庁

SOLDER BALL ALIGNING METHOD, ALIGNING MASK, AND ALIGNING MASK HOLDER例文帳に追加

はんだボールの整列方法および整列用マスク並びに整列用マスクの保持装置 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

SHEET FOR MASK IMPREGNATED WITH COSMETIC AND MASK IMPREGNATED WITH COSMETIC USING THE SHEET例文帳に追加

化粧料含浸マスク用シート及びこのシートを使用した化粧料含浸マスク - 特許庁

The mask attaching portion is a pinching means for pinching the edge 3a' of the mask.例文帳に追加

前記マスク取付部は、マスクの縁部３ａ’を挟持するための挟持手段である。 - 特許庁

To provide a method for supporting a photo-mask which prevents the photo-mask from being twisted or distorted.例文帳に追加

フォトマスクに捩れや歪みが生じにくいフォトマスク支持方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF METAL MASK PLATE FOR SCREEN PRINTING, AND METAL MASK PLATE FOR SCREEN PRINTING例文帳に追加

スクリーン印刷用メタルマスク版の製造方法及びスクリーン印刷用メタルマスク版 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING X-RAY MASK AND X-RAY MASK MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

Ｘ線マスクの製造方法およびその方法により製造されるＸ線マスク - 特許庁

MANUFACTURING METHODS OF REFLECTION TYPE MASK BLANKS, REFLECTION TYPE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

PERMANENT MASK RESIST, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT MASK RESIST LAMINATION SUBSTRATE例文帳に追加

永久マスクレジスト、永久マスクレジストの製造法及び永久マスクレジスト積層基板 - 特許庁

TRANSFER MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, TRANSFER MASK, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

転写マスクブランクス、その製造方法、転写マスク、その製造方法及び露光方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。 - 特許庁

The mask assembly for a patient for positive pressure ventilation has a brace 12 among which the mask is put.例文帳に追加

陽圧換気用の患者用マスクアセンブリは、マスクをはさむブレイス１２を有している。 - 特許庁

, only the file permission bits of mask are used), and returns the previous value of the mask.例文帳に追加

のファイル許可に対応するビットのみを使用する)、変更前のマスク値を返す。 - JM

The constants that should be used to specify mask are described under stat (2). 例文帳に追加

の mode 引き数から取り消される。 maskに指定するのに使用すべき定数についてはstat (2) - JM

The mask consisting of fibers reduced in the allergen and the allergen reducing sheet for the mask.例文帳に追加

アレルゲン低減化された繊維からなるマスク及びマスク用アレルゲン低減化シート。 - 特許庁

One mask 2 on the upper side is slightly smaller than the other mask 3 on the lower side.例文帳に追加

上側の一方のマスク２は下側の他方のマスク３より若干小さくする。 - 特許庁

MULTILAYER FILM REFLECTION MIRROR, REFLECTION MASK, ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD OF REFLECTION MASK例文帳に追加

多層膜反射鏡、反射型マスク、露光装置及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁

To provide a large mask and a mask blank for FPD suitable for multicolor exposure.例文帳に追加

多色波露光に適したＦＰＤ用大型マスク及びマスクブランクを提供する。 - 特許庁

DIAMOND WAFER, MASK BLANKS AND MASK FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR MANUFACTURING DIAMOND WAFER例文帳に追加

リソグラフィー用のダイヤモンドウェハ、マスクブランクス及びマスク並びにダイヤモンドウェハの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PRINTING MASK USING METHOD OF PRINTING MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

印刷用マスク、印刷用マスクの使用方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

半導体デバイスの製造方法、露光用マスクの製造方法および露光用マスク - 特許庁

EUV MASK MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING EUV MASK例文帳に追加

ＥＵＶマスクの製造方法及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

PHASE MASK TO FORM BRAGG DIFFRACTION GRATING AND OPTICAL FIBER MANUFACTURED BY USING THE PHASE MASK例文帳に追加

ブラッグ回折格子形成用位相マスク及びそれを用いて製造した光ファイバ - 特許庁

METAL MASK FOR CREAM SOLDER PRINTING WITH POSITIONING FUNCTION AND METHOD FOR POSITIONING METAL MASK例文帳に追加

位置決め機能を備えたクリーム半田印刷用メタルマスク及びその位置決め方法 - 特許庁

A shifter edge phase shift mask may be used in place of the mask 10.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク１０に代えてシフタエッジ位相シフトマスク使用することができる。 - 特許庁

Thereafter, a control electrode is formed on the mask material or by removing the mask material.例文帳に追加

その後、マスク材上に、あるいはマスク材を除去して制御電極を形成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK, STENCIL MASK, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

ステンシルマスクの製造方法、ステンシルマスク、半導体基板、電子デバイスおよび電子機器 - 特許庁

In Yabusame as a Shinto ritual, a devil mask is attached on the hat while Ogasawara-ryu school doesn't use the mask. 例文帳に追加

神事の流鏑馬では笠に鬼面を着けるが、小笠原流では付けない。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

fullPixmapMask (class PixmapMask) Specifies a mask for the bitmap to be shown when new mail has arrived.例文帳に追加

fullPixmapMask (class PixmapMask)新しいメールが届いた際に表示されるビットマップ画像の mask を指定する。 - XFree86

MASK FOR CHARGED BEAM, CHARGED BEAM ALIGNER USING THE MASK AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加

荷電ビーム用マスク、該マスクを用いた荷電ビーム露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

ELIMINATION METHOD OF MASK LAMINATE, AND FORMATION AND ELIMINATION METHOD OF MASK LAMINATE例文帳に追加

マスク積層体の除去方法、並びにマスク積層体の形成および除去方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクブランク及びその製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 - 特許庁

The apparatus first stores the position of a mask MA relative to a mask table MT.例文帳に追加

本装置は、最初にマスク・テーブルＭＴに対するマスクＭＡの位置を記憶する。 - 特許庁

After the mask 2 is positioned, a side face of the mask 2 is pushed by the plurality of pressing pins 79 with a force smaller than the force applied for positioning the mask 2.例文帳に追加

マスク２の位置決め後、複数の押圧ピン７９により、マスク２の位置決め時よりも小さい力でマスク２の側面を押す。 - 特許庁

For this reason, a large master mask having dimensions larger than those of a mask to be made is used as the master mask.例文帳に追加

このため、マスターマスクとして、作成すべきマスクの寸法に比較して大きな寸法を有する大型マスターマスクを使用する。 - 特許庁

At the time of inspecting a pattern position and performing exposure, the mask 10 is held by an inspection device or an exposure device while the mask 10 is held by the mask frame 20.例文帳に追加

パターン位置検査時と露光時は、マスク１０はフレーム２０に保持されたまま検査装置や露光装置に保持される。 - 特許庁

To provide a mask inspection light source device having a high-performance and compact configuration, and to provide a mask inspection apparatus using the mask inspection light source device.例文帳に追加

高性能でコンパクトな構成のマスク検査光源装置、及びそれを用いたマスク検査装置を提供することである。 - 特許庁

When a mask 2 for the REQ2j sets all '0s' to a mask result REQ3j (S4, Y), the mask 2 is cleared (S5), and a check sequence denoting the presence of request is replaced (S6).例文帳に追加

REQ2jに対するマスク2により、マスク結果REQ3jがall "0"になれば（S4,Y）、マスク2をクリアして（S5）、要求有無のチェック順位を入れ替える（S6）。 - 特許庁

To provide garment manufacture of a mask for sleeping which prevents the fatigue of the eyes and the skin, rhinitis, etc., a mask for face skin pack and a mask for dustproofing and coldproofing.例文帳に追加

眼・肌の疲労、鼻炎等を予防する睡眠用マスク、顔パック用マスク及び防塵防感用マスクの縫製の提供。 - 特許庁