「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve a mask assembly for which a mask and a hood are integrated so that the hood is not shifted to the front and back of the mask.例文帳に追加

マスクとフードとが一体になったマスクアセンブリに対して、フードがマスクの前後にずれ動くことがないように改良を施す。 - 特許庁

The mask M is equipped with: a film mask 120 on which the pattern Pa is formed; and a glass plate 122 onto which the film mask 120 is stuck.例文帳に追加

マスクＭは、パターンＰａが形成されるフィルムマスク１２０と、該フィルムマスク１２０が貼り付けられるガラス板１２２と、を備える。 - 特許庁

To improve the accuracy of transmittance of a gray scale mask beyond the resolution of a mask drawing device when the gray scale mask is manufactured.例文帳に追加

グレースケールマスクを製作する際に、マスク描画装置の分解能を超えてグレースケールマスクの透過率の精度を向上させる。 - 特許庁

Nextly, a second mask different from the mask 41 is disposed on the resist coating 44, to illuminate the second mask with ultraviolet-rays U from thereabove.例文帳に追加

次に、レジスト被膜４４上にマスク４１とは異なる他のマスクを配置し、他のマスクの上方から紫外線Ｕを照射する。 - 特許庁

A mask pattern produced by the dynamic mask module 100 is of a dynamic image, and thus the mask pattern is changeable at any time.例文帳に追加

ダイナミックマスクモジュール１００により生成されるマスクパターンはダイナミックなイメージであり、そのマスクパターンはいつでも変更可能である。 - 特許庁

MASK OF ELECTRON BEAM ALIGNER, METHOD FOR DETERMINING LINE WIDTH OF MASK APERTURE, PROGRAM FOR DETERMINING LINE WIDTH OF MASK APERTURE, AND ELECTRON BEAM ALIGNER例文帳に追加

電子ビーム露光装置のマスク、マスク開口の線幅決定方法、マスク開口の線幅決定プログラムおよび電子ビーム露光装置 - 特許庁

A mask 2 is conveyed by a mask conveying device to the chuck 10 and received by the push-up pins 12 from the mask conveying device.例文帳に追加

マスク２をマスク搬送装置によりチャック１０へ搬入し、突き上げピン１２によりマスク搬送装置からマスク２を受け取る。 - 特許庁

To surely attach a mask to a mask attaching table, and also to easily execute the attaching and detaching operation of the mask.例文帳に追加

マスクがマスク取付台に確実に装着されると共に、マスクの装着脱作業を容易に行うことができるようにする。 - 特許庁

A pyrolytic mask is used in place of a metal mask, whereby a process of peeling off a mask is dispensed with to raise the yield in cream solder printing.例文帳に追加

メタルマスクの代わりの熱分解性マスクとし，マスクを剥離する工程を無くしてクリームハンダ印刷の歩留まりを高めた。 - 特許庁

DEVICE FOR GENERATING THINNED-OUT MASK PATTERN, RECORDING DEVICE EQUIPPED WITH THIS DEVICE FOR GENERATING THINNED-OUT MASK PATTERN, METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN, PROGRAM AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

間引きマスクパターン生成装置及び当該生成装置を備えた記録装置、マスクパターンの生成方法、プログラム、記憶媒体 - 特許庁

A support projection 15 is formed on the mask body 10 to project from the undersurface of the mask body 10 and secure the counter distance between the mask body 10 and the work 3.例文帳に追加

マスク本体１０の下面から突設されて、ワーク３との対向間隙を確保する支持用突起１５を形成する。 - 特許庁

A mask processing part 230 masks each log record in a log file 101 with the mask data 103 to generate a mask log file 104.例文帳に追加

マスク処理部２３０はログファイル１０１内の各ログレコードをマスクデータ１０３でマスクしてマスクログファイル１０４を生成する。 - 特許庁

To provide an etching device of a shadow mask material, capable of improving the mechanical strength of the shadow mask and to provide a shadow mask having high mechanical strength.例文帳に追加

シャドウマスクの機械的強度を向上させることが可能なシャドウマスク材のエッチング装置およびシャドウマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection method that has enhanced detection sensitivity regarding line width flaws, and to provide a mask inspection device and a mask inspection program.例文帳に追加

線幅欠陥についての検出感度が高いマスク検査方法、マスク検査装置及びマスク検査プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a mask creating method for enabling provision of a mask with desired dimensions by dry etching without recreating a mask.例文帳に追加

マスク再作成を行わなくてもドライエッチングによって所望の寸法のパターンが得られるマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

The mask jointing substrate 16 is attached and detached with the mask plate 13 of the mask jointing substrate 16 in contact with a transfer means.例文帳に追加

その後のマスク接合基板１６のマスク板１３を移載手段に当接させてスク接合基板１６を脱着する。 - 特許庁

MASK DATA GENERATION METHOD, MASK FABRICATION METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE FABRICATION METHOD AND PROGRAM FOR GENERATION OF MASK DATA例文帳に追加

原版データの生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及び原版データを作成するためのプログラム - 特許庁

SPATTERING DEVICE FOR MANUFACTURING MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF MASK BLANK FOR DISPLAY DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF MASK FOR DISPLAY DEVICE例文帳に追加

マスクブランク製造用スパッタリング装置及び表示装置用マスクブランクの製造方法並びに表示装置用マスクの製造方法 - 特許庁

The level of the mask can be detected by using a mask level sensor, and the actuators hold the mask at a constant level.例文帳に追加

マスク・レベル・センサを用いてマスクのレベルを検出することができ、アクチュエータはマスクを一定のレベルに保持するように動作する。 - 特許庁

To provide an evaluation mask for evaluating by detecting the mask deformation of a thin membrane mask and deformation of a transfer pattern.例文帳に追加

膜厚の薄いメンブレンマスクのマスク変形及び転写パターンの変形を検出し、評価する評価用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask blank and a photomask reducing obstacles to higher quality of a large-sized mask blank and mask for future FPD.例文帳に追加

今後のＦＰＤ用大型マスクブランク及びマスクの高品質化の障害を抑制したマスクブランク及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

Although a tsukidare of men-mask, a guard mask of kendo swordmanship, protects the throat, the tsuki is prohibited for junior high school students and younger because it is dangerous if they remove the mask. 例文帳に追加

一応は防具(剣道)面の突き垂が保護しているものの、外すと危険なので、中学生以下は禁止されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an evaporation mask easily exchanging mask main bodies for a mask holder as well as preventing distortion of the mask main body, and also to provide a method for manufacturing the mask, and a method for manufacturing a display device.例文帳に追加

マスク本体の撓みを防止すると共に、マスクホルダに対して容易にマスク本体の交換を行うことが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法ならびに表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask case that enables a mask to be attached to/detached from the case without touching the front and reverse faces of the mask by hand and stores the mask intact, and that keeps the inside and outside of the mask clean, and prevents viruses, dust and pollens from diffusing around the case.例文帳に追加

マスクの表面と裏面に手を触れずにマスクの着脱が出来て、そのまま収納でき、マスクの内外を清潔に保ち、ウィルスや埃、花粉を周囲に付着させないマスク用ケースを提供する。 - 特許庁

After a mask protective member 2 is set on a mask protective member loading jig 1 and when a mask member 3 is moved downward to the vicinity of the mask protective member 2 in this state while the pattern face 31 of the mask member 3 is faced downward, air pressure 4 is added to the thin film 22.例文帳に追加

マスク保護部材装着治具１にマスク保護部材２をセットした状態で、その上方からパターン面３１を下に向けてマスク部材３を接近させると、空気圧４が薄膜２２に加わる。 - 特許庁

To provide a mask cleaning method which removes a foreign substance including silicon oxide deposited on a mask film formed on a mask, while keeping a pattern shape of the mask film; and to provide a mask cleaning device and a pellicle.例文帳に追加

マスクに形成されたマスク膜のパターン形状を保ちながら、マスク膜に付着したシリコン酸化物を含む異物を除去することができるマスク洗浄方法、マスク洗浄装置及びペリクルを提供する。 - 特許庁

The mask includes a mask layer 1 with a thickness of 1 to 50 μm having at least one through-hole 1, and the surface of the mask layer 1 is provided with a magnetic mask 2 without clogging the through-hole in the mask layer 1.例文帳に追加

少なくとも１つの貫通孔１を有する厚みが１μｍ以上５０μｍ以下のマスク層１を有し、上記マスク層１上に、該マスク層１が有する貫通孔１を塞ぐことなく磁性マスク２を有する。 - 特許庁

In this pattern forming method, materials to be etched are patterned by using a resist mask 3 as an etching mask in the manufacturing process of a semiconductor device, and then the volume of this resist mask is expanded by swelling or the like so that this resist mask can be changed into another etching mask 5.例文帳に追加

半導体装置の製造工程の中でレジストマスクをエッチングマスクに使用し被エッチング材料をパターニングした後、このレジストマスクを膨潤等により体積膨張させて別のエッチングマスクに変える。 - 特許庁

For example, the mask for phase difference measurement in which halftone film mask parts 10 and shielding film mask parts 10b coexist is formed by removing part of the light shielding patterns 13' of the mask body before finishing the halftone mask.例文帳に追加

たとえば、ハーフトーン・マスクを仕上げる前に、マスク本体の遮光膜パターン１３’の一部を除去し、ハーフトーン膜マスク部１０ａと遮光膜マスク部１０ｂとが混在する位相差測定用マスクを作成する。 - 特許庁

The substrate-mask fixing device 10 for fixing and holding the glass substrate 26 and the mask 20 in subjecting the substrate to the mask processing has a substrate holder section 16 holding the glass substrate 26 and a mask holder section 16 holding the mask 20.例文帳に追加

マスク処理を施す際にガラス基板２６およびマスク２０を固定し、保持する基板・マスク固定装置１０は、ガラス基板２８を保持する基板ホルダ部１２とマスク２０を保持するマスクホルダ部１６を有する。 - 特許庁

The method involves a step of being required for using first and second etch mask layers, that are constructed of materials such that the second mask (formed over the first mask) can act as a mask during the patterning of the first mask (bottom mask).例文帳に追加

この方法では第１および第２のエッチングマスク層を使用することが必要であり、これらの層は、第１のマスク（下層マスク）のパターン化の際に第２のマスク（第１のマスクの上に形成される）がマスクとしての役割を果たすことができるような材料で構成される。 - 特許庁

To provide a mask which prevents a mask wearer from getting musty, allows the mask wearer to breathe extremely well and to extremely easily have conversation and prevents glasses from being cloudy when a glasses user uses the mask, by preventing a filter pad attached to a mask body from being in touch with the mouth of the mask wearer.例文帳に追加

マスク本体に取り付けたフィルターパッドが着用者の口元に接触しないようにして、蒸れることなく、呼吸も非常に良好に行え、会話も非常にし易く、メガネ使用者の着用時にメガネレンズが曇ることのないマスクを提供する。 - 特許庁

The mask plate includes mask holes 204 corresponding each recessed part of a tray, and has detachably holding means for keeping the tray and the mask plate in the state where the tray and the mask plate are superposed while making the recessed parts of the tray and the mask holes face each other, or for releasing the tray from the mask plate.例文帳に追加

マスクプレートは、トレイの各凹部にそれぞれ対応するマスク穴２０４を設けており、トレイの凹部とマスク穴とを対向させてトレイとマスクプレートを重ねた状態に保持し又はトレイとマスクプレートとの保持を解除する着脱手段を備える。 - 特許庁

The mask storage apparatus 1 comprises a mask storage region 2 where a mask is stored, an air passage 3 where air in the mask storage apparatus 1 passes, and a fan 13 to circulate the air in the mask storage apparatus 1 between the mask storage region 2 and the air passage 3.例文帳に追加

マスク保管装置１は、マスクが保管されるマスク保管領域２と、マスク保管装置１内の空気が流通する空気流通路３と、マスク保管装置１内の空気をマスク保管領域２と空気流通路３との間で循環させるファン１３とを有する。 - 特許庁

To provide a mask holder for the charged particle beam exposure, which mounts/fixes a mask on a mask holder at a proper plane accuracy and mounts a mask on a mask holder with very little foreign substances deposited on the mask surface, i.e., a charged particle beam irradiating surface.例文帳に追加

マスクが平面精度良くマスクホルダに装着・固定されるとともに、マスクをマスクホルダに装着する際に、マスク表面すなわち荷電粒子線照射側の面に異物の付着が極めて少ない荷電粒子線露光用マスクホルダの提供を目的とする。 - 特許庁

In the manufacture of the defective mask for inspecting a defect in a pattern transfer mask used in a semiconductor lithography process, the mask pattern 4 that is the same as a pattern transfer mask to be inspected is formed on a mask substrate that becomes the base of the defective mask.例文帳に追加

半導体体リソグラフィ工程にて用いられるパターン転写マスクの欠陥を検査するための欠陥マスクを製造するのにあたり、その欠陥マスクの基となるマスク基板上に、検査対象となるパターン転写マスクと同一のマスクパターン４を形成する。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MASK STRUCTURAL BODY MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着用マスク構造体の製造方法 - 特許庁

DENSITY DISTRIBUTED MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

濃度分布マスク及びその製造方法 - 特許庁

MATERIAL WITH HIGH SURFACE CLEANLINESS FOR SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク材用表面高清浄度材 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR FLAT CELL MASK ROM DEVICE例文帳に追加

フラットセルマスクＲＯＭ装置の製造方法 - 特許庁

Inspection of the mask defects is carried out by comparing the mask data 4 with the inspection data.例文帳に追加

マスクデータ４と検査データとを比較検査することにより、マスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁

EXPOSURE MASK ETCHING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

露光マスクのエッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁

DISPLAY MASK AND DISPLAY APPARATUS WITH THE SAME例文帳に追加

ディスプレイマスクならびにマスク付ディスプレイ装置 - 特許庁

EVALUATION METHOD FOR MASK PATTERN AND EVALUATION DEVICE例文帳に追加

マスクパターン評価方法及び評価装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING ETCHING MASK, ETCHING METHOD USING THE ETCHING MASK, AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ETCHING METHOD例文帳に追加

エッチングマスク形成方法、エッチング方法、および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁