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MASKを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 26886



例文

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

SCREEN PRINTING APPARATUS AND MASK CLEANING DEVICE例文帳に追加

スクリーン印刷装置とそのマスク清掃装置 - 特許庁

To provide a folding structure of a face pack mask which facilitates unfolding operation when the face pack mask is used.例文帳に追加

使用時の展開操作が容易なフェイスパックマスクの折り畳み構造を提供する。 - 特許庁

Here, the hard mask HM1 uses a material of the SiOC system and this mask is left.例文帳に追加

ここではハードマスクHM1の材質がSiOC系で構成され、これが残留している。 - 特許庁

例文

LITHOGRAPHY MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法 - 特許庁


例文

MASK FOR VAPOR DEPOSITION, MASK VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS例文帳に追加

蒸着用マスク、マスク蒸着法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK AND COATING DEVICE例文帳に追加

マスクブランクの製造方法及び塗布装置 - 特許庁

EXPOSURE METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

露光方法及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁

The mask 1 is irradiated with a correction light, and reflected light from the mask 1 is projected upon the wafer 3.例文帳に追加

そして、該マスク1に補正光を照射し、その反射光をウエハ3に照射する。 - 特許庁

例文

DEVICE MANUFACTURING METHOD AND MASK FOR USE THEREIN例文帳に追加

デバイス製造方法及び使用されるマスク - 特許庁

例文

The mask operation section 222 is configured to execute a formation of a mask and a correct answer display operation.例文帳に追加

マスク操作部222は、マスクの形成および正解表示動作を実行するものである。 - 特許庁

A first mask film and a third mask film have substantially equal etch rates.例文帳に追加

第1のマスク・フィルムおよび第3のマスク・フィルムは、実質的に等しいエッチング速度を有する。 - 特許庁

To enable a mask sheet to be used alone and prevent the warping of the mask sheet in use.例文帳に追加

マスクシートのみでの使用を可能とし、しかも使用中のマスクシートのたわみを防止する。 - 特許庁

SLOT-TYPE SHADOW MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スロット型シャドウマスク及びその製造方法 - 特許庁

MASK FOR SOLDER PRINTING, METHOD FOR MOUNTING COMPONENT例文帳に追加

はんだ印刷用マスク、部品実装方法 - 特許庁

PARALLEL-LINE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

平行線型マスクおよびその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ACOUSTIC WAVE ELEMENT, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, MASK AND MANUFACTURING METHOD OF MASK例文帳に追加

弾性波素子の製造方法、電子機器の製造方法、マスクおよびマスクの製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN MANUFACTURING MACHINE, PROGRAM, AND METHOD, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成装置、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成方法およびマスク製造方法 - 特許庁

The absorbent film of the reflective mask blank is patterned to obtain the reflective mask.例文帳に追加

また、この反射型マスクブランクの吸収体膜にパターンを形成して反射型マスクを得る。 - 特許庁

EB TRANSFER MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

EB転写マスク及びその製造方法 - 特許庁

When the mask means 80 is at the mask position, a pattern light is projected onto the photographing area.例文帳に追加

マスク手段80がマスク位置にあるとき、撮影領域にはパターン光が投影される。 - 特許庁

MASK, METHOD, AND DEVICE FOR EXPOSURE例文帳に追加

露光用マスク、露光方法及び露光装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PHOTONIC CRYSTAL, MASK, MASK PRODUCING METHOD AND OPTICAL DEVICE PRODUCING METHOD例文帳に追加

フォトニック結晶の作製方法、マスク、マスク作製方法、及び光デバイス作製方法 - 特許庁

MASK VAPOR DEPOSITION METHOD, METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT EQUIPMENT, AND MASK VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

マスク蒸着法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、およびマスク蒸着装置 - 特許庁

A wafer and a mask are aligned roughly.例文帳に追加

ウエハとマスクとの粗い位置合わせを行う。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスクの製造方法及び製造装置 - 特許庁

X-RAY MASK BLANK, ITS MANUFACTURE, X-RAY MASK, AND MANUFACTURE THEREFOR例文帳に追加

X線マスクブランク及びその製造方法、並びにX線マスク及びその製造方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

露光マスクの製造方法および露光マスク - 特許庁

MASK MANUFACTURING METHOD, MASK, FILM FORMATION METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTROOPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

マスク製造方法、マスク、成膜方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 - 特許庁

PATTERN EXPOSURE MASK, PATTERN EXPOSURE METHOD DEVICE, MASK DESIGN METHOD/DEVICE, AND INFORMATION STORAGE MEDIUM例文帳に追加

パターン露光マスク、パターン露光方法/装置、マスク設計方法/装置、情報記憶媒体 - 特許庁

FRAME FOR METAL MASK, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

メタルマスク用フレーム及びその製造方法 - 特許庁

CORRECTION METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの修正方法及び位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁

PROXIMITY FIELD EXPOSURE MASK AND EXPOSURE EQUIPMENT例文帳に追加

近接場露光用マスクおよび露光装置 - 特許庁

METAL MASK AND PACKAGING METHOD OF ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

メタルマスク及び電子部品の実装方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR ARTICLE USING METAL MASK例文帳に追加

メタルマスクを使用する物品の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光マスク基板製造方法、露光マスク製造方法、及び半導体装置製造方法 - 特許庁

MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTIC DEVICE例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法 - 特許庁

To provide a mask frame combination, a substrate using the same, and a mask alignment method.例文帳に追加

マスクフレーム組合わせ体、それを利用した基板及びマスク整列方法を提供する。 - 特許庁

This process can be applied to a mask.例文帳に追加

このプロセスは、マスクにも適用可能である。 - 特許庁

MASK AND WAFER ALIGNMENT METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

マスクとウエハの位置合わせ方法及び装置 - 特許庁

AUTOMATIC MASK FILM ALIGNING DEVICE FOR PRINTED BOARD例文帳に追加

プリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置 - 特許庁

HIGH PRECISE SHADOW MASK AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

高精細シャドウマスク及びその製造方法 - 特許庁

PREPARATION OF MASK FOR MANUFACTURING PRINTING PLATE例文帳に追加

印刷版を製造するためのマスク調製 - 特許庁

AUXILLIARY TOOL SUCH AS BREATHING HUMIDIFIER AND MASK例文帳に追加

呼吸加湿具並びにマスク等の補助具 - 特許庁

MASK FOR VAPOR DEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

蒸着用マスクおよびその製造方法 - 特許庁

MASK AND ITS PREPARATION METHOD AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

マスク、マスク作製方法および露光方法 - 特許庁

METHOD FOR COMPRESSING MASK PATTERN DATA AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

マスクパターンデータ圧縮方法及びプログラム - 特許庁

SHADOW MASK FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

有機電界発光素子製作用シャドーマスク - 特許庁

例文

DEVICE AND METHOD FOR MASK CORRECTION例文帳に追加

マスク修正装置及びマスク修正方法 - 特許庁




  
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