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MASKを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 26886



例文

The hard mask is etched using the resist pattern and the antireflection film as a mask.例文帳に追加

このレジストパターン及び反射防止膜をマスクとして、ハードマスク膜をエッチングする。 - 特許庁

A trench is formed in the semiconductor substrate using the spacers and the mask layer as a mask.例文帳に追加

SiON層とマスク層とをマスクとして、トレンチを半導体基板内に形成する。 - 特許庁

BLANK FOR HALFTONE VERSION PHASE SHIFT MASK, ITS PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びその位相シフトマスク及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

The vector mask register 140 stores vector mask data which have mask bits for controlling processing by every element of the vector data.例文帳に追加

ベクトルマスクレジスタ140はベクトルデータの要素毎の演算実行を制御するマスクビットを有するベクトルマスクデータを格納する。 - 特許庁

例文

The mask stocker 10 identifies the mask 13 on the basis of the mask identification information and records the decoding key data K1 thereto.例文帳に追加

マスクストッカ10は、マスク識別情報に基づいてマスク13を特定し、それに復号鍵データK1を記録する。 - 特許庁


例文

STENCIL MASK SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SUBSTRATE, STENCIL MASK USING THE SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE MASK例文帳に追加

ステンシルマスク基板及びその基板の製造方法、並びにその基板を用いたステンシルマスク及びそのマスクの製造方法 - 特許庁

The mask processing by the assigned transparent toner image, and the mask pattern is performed thereafter.例文帳に追加

その後、指定した透明トナー画像とマスクパターンによるマスク処理が行われる。 - 特許庁

When both characters "Noh mask (能面)" are written, it is usually pronounced as "Noh-men" but when only the second character "mask" is written, it is usually pronounced as "omote". 例文帳に追加

「のうめん」と読むが、面とだけ書けば「おもて」と読むのが普通。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

VAPOR DEPOSITION MASK AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT USING THE VAPOR DEPOSITION MASK例文帳に追加

蒸着マスク及び蒸着マスクを用いた有機EL素子の製造方法 - 特許庁

例文

To provide an accurate mask pattern-inspection method, an accurate mask pattern-inspection apparatus, and a manufacturing method of a mask using the apparatus.例文帳に追加

高精度なマスクのパターン検査方法とパターン検査装置、およびそれを用いたマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

The side of a chamber 3 is provided with a mask base 23 having a temp. controlling mechanism 24, and a mask 5 is arranged on the mask base 23.例文帳に追加

チャンバー3側に、温度調節機構24を有するマスクベース23を設け、マスクベース23上にマスク5を配設した。 - 特許庁

REFLECTING MASK BLANK AND REFLECTING TYPE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに反射型マスクの製造方法 - 特許庁

A metal film 108 is patterned by using a hard mask 109 as a mask ((e) in Fig.).例文帳に追加

ハードマスク109をマスクとして、金属膜108をパターニングする(図2(e))。 - 特許庁

MASK, METHOD FOR PRODUCING MASK, METHOD FOR PRODUCING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANKS, REFLECTIVE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide ear hook parts for a mask by which a mask wearer or the like attaches the ear hook parts to both side ends of a mask body part to complete the mask, and the mask in which both side ends of a mask body fit both sides of the face of the wearer is easily obtained.例文帳に追加

マスク着用者等がマスク本体部の両側端部に耳掛け部を取り付けてマスクを完成させ、マスク本体の両側端部が着用者の顔の両側部にフィットするマスクを容易に得ることができる、マスク用耳掛け部を提供する。 - 特許庁

To provide a novel mask production device for newly creating a mask having the function of keeping, in wearing a mask with a pleated mask body, a three-dimensional shape of the mask body with pleats being extended, and producing the mask.例文帳に追加

マスク本体にプリーツ加工が施されたマスクが装着される時にプリーツが広げられた状態のマスク本体の立体性を維持する機能を有するマスクを新規に創作し、そのマスクを生産する新規のマスク生産装置を提供する。 - 特許庁

SHADOW MASK IRREGULARITY INSPECTION DEVICE AND ITS METHOD例文帳に追加

シャドウマスクのむら検査装置及び方法 - 特許庁

This mask 10 is provided with a mask body part 20, an outside cover 30 covering the outer face of the mask body part 20, and a filter 40 detachably attached to the mask body 20.例文帳に追加

マスク10は、マスク本体部20と、マスク本体部20の外面を覆う外側カバー30と、マスク本体20に着脱可能に取り付けられるフィルタ40とを備える。 - 特許庁

To provide a screen mask cleaning apparatus which does not give deformation or damage to a screen mask even if a foreign matter present on the screen mask, and to provide a screen mask cleaning method.例文帳に追加

スクリーンマスク上に異物が存在する場合であっても、スクリーンマスクに変形や損傷を与えないスクリーンマスク洗浄装置及び洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

CUBIC FACE MASK AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

立体フェイスマスク及びその製造方法 - 特許庁

MASK FRAME STRUCTURE AND COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

マスクフレーム構体及びカラー陰極線管 - 特許庁

Then relative shift amounts, between the real mask alignment mark M1a and a cut-out mask alignment mark M2a, and between the real mask alignment mark M1b and a cut-out mask alignment mark M2b are calculated.例文帳に追加

次に、実マスクアライメントマークM1a及び抜けマスクアライメントマークM2aと、実マスクアライメントマークM1b及び抜けマスクアライメントマークM2bの相対的なずれ量を算出する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR ACQUIRING MASK BLANK INFORMATION, METHOD FOR PROVIDING MASK BLANK INFORMATION, METHOD FOR ASSISTING AND MANUFACTURING TRANSFER MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING AND PROVIDING MASK BLANK例文帳に追加

マスクブランク情報取得方法及びシステム、マスクブランク情報提供方法、転写マスク作製支援及び製造方法並びにマスクブランク製造及び提供方法 - 特許庁

To provide a screen mask cleaning apparatus which does not give deformation and damage to a screen mask even if a foreign matter present on the screen mask, and to provide a screen mask cleaning method.例文帳に追加

スクリーンマスク上に異物が存在する場合であっても、スクリーンマスクに変形や損傷を与えないスクリーンマスククリーニング装置及びクリーニング方法を提供すること。 - 特許庁

REFLECTIVE MASK AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

反射型マスク、およびその製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF MANUFACTURING SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスクの製造方法及びその装置 - 特許庁

To place an order for the production of a mask further suited to the intention of a mask purchaser by fully making information exchanges between the mask purchaser and a mask dealer.例文帳に追加

マスク購入者及びマスク販売者間の情報交換を密にすることにより、よりマスク購入者の意に沿ったマスク製作注文ができるようにする。 - 特許庁

ELECTRIC MASK GENERATOR FOR ELECTRONIC ENDOSCOPE例文帳に追加

電子内視鏡の電気マスク生成装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

MASK STRUCTURAL BODY AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスク構造体及びその製造方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

反射型マスク及びその製造方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

反射型マスクおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY DEVICE, AND MASK例文帳に追加

表示装置の製造方法およびマスク - 特許庁

The mask supporting part 26a supports one end of the divided mask 12 stationarily, while the mask supporting part 26b supports the other end of the divided mask 12 movably along the longitudinal direction.例文帳に追加

マスク支持部26aは分割マスクの一端を移動不能に支持し、他方のマスク支持部26bは、分割マスクの他端を長手方向に沿って移動可能に支持している。 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁

SCREEN PRINTING MASK AND PRINTING METHOD例文帳に追加

スクリーン印刷用マスク及び印刷方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MASK PRINTING例文帳に追加

マスク印刷方法およびマスク印刷装置 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

露光用マスクおよびその製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁

MASK FOR PRINTING AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

印刷用マスク及びその製造方法 - 特許庁

STENCIL MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ステンシルマスク及びステンシルマスクの製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a mask and an apparatus for producing the mask which can improve the quality of the mask, prevent the defects thereof and improve the productivity of the mask.例文帳に追加

マスクの品質を向上させ欠陥を防止するとともに、マスクの生産性を向上させることができるマスクの製造方法およびマスク製造装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SCREEN-PRINTING METAL MASK例文帳に追加

スクリーン印刷用メタルマスクの製造方法 - 特許庁

The mask 1 is provided with: a mask part 3 having a pattern composed of a plurality of vapor through-holes for mask film-deposition on a glass substrate 10; and a frame 2 for fixing and supporting the mask part 3.例文帳に追加

マスク1は、ガラス基板10にマスク成膜するための複数の蒸気通孔からなるパターンを有するマスク部3と、マスク部3を固定支持するフレーム2と、を備える。 - 特許庁

SILICON CRYSTALLIZATION METHOD UTILIZING MASK例文帳に追加

マスクを利用したシリコンの結晶化方法 - 特許庁

EXTENSION-TYPE SHADOW MASK FOR CATHODE RAY TUBE例文帳に追加

陰極線管用架張型のシャドウマスク - 特許庁

In this alignment method, a mask is allocated close to a wafer and the mask, and wafer are aligned with an exposing apparatus by transferring a mask pattern formed on the mask to a resist layer on the wafer.例文帳に追加

ウエハにマスクを近接配置し、該マスクに形成されたマスクパターンを前記ウエハ上のレジスト層に転写する露光装置におけるマスクとウエハの位置合わせ方法。 - 特許庁

X-RAY MASK AND MANUFACTURE OF THE SAME例文帳に追加

X線マスクおよびその製造方法 - 特許庁

例文

SHADOW MASK INSPECTION METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

シャドウマスクの検査方法及びその装置 - 特許庁




  
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