MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
DEPOSITION MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
蒸着マスクおよびその製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS WITH MASK POSITIONING MECHANISM例文帳に追加
マスク位置合せ機構付き成膜装置 - 特許庁
COATING METHOD, AND MASK FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加
塗布方法およびパターン形成用マスク - 特許庁
MASK-SUPPORTING FRAME FOR COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加
カラー陰極線管用マスク支持フレーム - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
マスク製造方法および露光方法 - 特許庁
MASK PATTERN FOR FINE STRUCTURE FORMING EXPERIMENT例文帳に追加
微細構造形成実験用マスクパターン - 特許庁
He will cheat you under colour of kindness―under the mask of kindness. 例文帳に追加
彼は親切ごかしに人をだます - 斎藤和英大辞典
In a frame type mask frame 6 which supports a mask 1 by sucking the periphery of the mask 1, the contact inclined faces 8a, 8b of the mask frame to be tightly stuck to the mask periphery are formed as three-dimensional curved faces.例文帳に追加
マスク1の周辺部を吸着して該マスクを保持する枠状のマスクフレーム6に於いて、マスク周辺部に密着する前記マスクフレームの当接斜面8a,8bを3次曲面で形成した。 - 特許庁
EXPOSURE MASK AND PROCESS EVALUATION METHOD例文帳に追加
露光用マスクおよびプロセス評価方法 - 特許庁
To provide a mask inspection support system capable of making mask inspection easy and efficient, and a mask inspection support method.例文帳に追加
マスク検査の容易化または効率化を可能にするマスク検査サポートシステム及びマスク検査サポート方法を提供する。 - 特許庁
PRINTER, PRINTING METHOD, PRINTING MASK, AND METHOD FOR PRODUCING PRINTING MASK例文帳に追加
印刷装置および印刷方法、印刷マスク、並びに印刷マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SHADOW MASK AND APPARATUS FOR COATING ETCHING-RESISTANT LAYER FOR MANUFACTURING SHADOW MASK例文帳に追加
シャドウマスクの製造方法およびシャドウマスク製造用耐エッチング層塗布装置 - 特許庁
The mask information control unit 14 reads out mask information from a mask memory 15 according to the read-out starting address.例文帳に追加
マスク情報制御部14は、この読み出し開始アドレスに従ってマスクメモリ15からマスク情報を読み出しておく。 - 特許庁
The mask-parting auxiliary operation comprises a first operation that vibrates the printing mask and a second operation that heats up the printing mask.例文帳に追加
前記版離れ補助操作を、前記印刷マスクを振動させる操作、前記印刷マスクに熱を加える操作とする。 - 特許庁
The trimmed spacer mask doubles the frequency of the series of lines of the sacrificial mask.例文帳に追加
トリミングされたスペーサマスクは、犠牲マスクの一連のラインの頻度を2倍にする。 - 特許庁
A second mask (a trim mask, for example) is also generated to further process the structure created using the first mask.例文帳に追加
第1のマスクを使用して作成した構造をさらに処理するための第2のマスク(例えばトリム・マスク)も生成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mask etc. by which the yield of a defective mask blank can be improved to reduce the mask cost.例文帳に追加
欠陥のあるマスクブランクスの歩留まりを向上させマスクコストを低減できるマスク作製方法等を提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a mask capable of easily manufacturing the mask having high detecting accuracy of an alignment mark, and the mask.例文帳に追加
アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。 - 特許庁
MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD, PROGRAM THEREFOR, AND MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION APPARATUS例文帳に追加
マスクパターン外観検査方法及びそのプログラム及びマスクパターン外観検査装置 - 特許庁
Then, a metal mask removal step (S60) for removing the metal mask is executed.例文帳に追加
そして、金属マスクを除去する金属マスク除去工程(S60)を実施する。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING HOUSING MEMBER OF MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING HOUSING MEMBER OF MASK BLANK, AND MASK BLANK HOUSED BODY例文帳に追加
マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 - 特許庁
Mask-to-shield connection means 44, 44 are attached to an upper part of a mask body 40 of the mask member 14.例文帳に追加
前記マスク体14のマスク本体部40の上部にはマスクシールド連結手段44,44が取り付けられている。 - 特許庁
MASK, METHOD OF PRODUCING MASK, METHOD OF PRODUCING ORGANIC EL APPARATUS, AND ORGANIC EL APPARATUS例文帳に追加
マスク、マスクの製造方法、有機EL装置の製造方法、有機EL装置 - 特許庁
The mask data/weight data generating section 14 generates weight data on the basis of the mask data.例文帳に追加
マスクデータ・重みデータ作成部14は、マスクデータに基づき重みデータを作成する。 - 特許庁
MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加
メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁
MASK DESIGN DEVICE, MASK DESIGN METHOD, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスク設計装置、マスク設計方法、プログラムおよび半導体装置製造方法 - 特許庁
MATERIAL FOR MASK, METHOD FOR FORMING MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND ETCHING PROTECTION FILM例文帳に追加
マスク用材料、マスクの形成方法、パターン形成方法、及びエッチング保護膜 - 特許庁
MASK FOR EVAPORATION, MASK FRAME ASSEMBLY FOR EVAPORATION, AND MANUFACTURING METHODS THEREFOR例文帳に追加
蒸着用マスク、蒸着用マスクフレーム組立体及びこれらの製造方法 - 特許庁
NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, METHOD OF PRODUCING THE MASK, NEAR-FIELD EXPOSURE APPARATUS HAVING THE MASK, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
近接場露光用マスク、該マスクの製造方法、該マスクを備えた近接場露光装置及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
To provide a painting mask device for lamp fittings which facilitates handling of a mask body by dividing this mask body to a plurality.例文帳に追加
マスク本体を複数に分割することで、マスク本体の取り扱いが容易となる灯具用塗装マスク装置の提供。 - 特許庁
REFLECTION-TYPE MASK BLANK FOR EUV EXPOSURE, AND REFLECTION-TYPE MASK FOR EUV EXPOSURE例文帳に追加
EUV露光用反射型マスクブランクおよびEUV露光用反射型マスク - 特許庁
A mask register 19 is provided in the power-off area and a mask signal of "L" is set in the mask register 19 before the power-off.例文帳に追加
パワーオフエリアにマスクレジスタ19を設け、電源遮断の前にこのマスクレジスタ19に“L”のマスク信号をセットする。 - 特許庁
To remarkably reduce processing time of a mask pattern data in producing a stencil mask.例文帳に追加
ステンシルマスクの作製においてマスクパターンデータ処理時間を大幅に低減させる。 - 特許庁
When he or she selects advance of mask production, the production instruction part 32 transmits a request for mask production to the mask factory 60.例文帳に追加
製作指示部32は、マスクの製作を進行させる場合、マスク製造工場60にマスク製作要求を伝達する。 - 特許庁
To provide a metal mask which hardly generates a partial slack in a metal mask body.例文帳に追加
メタルマスク本体に部分的なたるみが生じにくいメタルマスクを提供する。 - 特許庁
MASK, MANUFACTURING METHOD OF THE MASK, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁
MANUFACTURE OF PRINTING MASK AND PRINTING MASK MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
印刷用マスクの製造方法及び該方法により製造した印刷用マスク - 特許庁
| Copyright (C) 1994- Nichigai Associates, Inc., All rights reserved. 「斎藤和英大辞典」斎藤秀三郎著、日外アソシエーツ辞書編集部編 |
JESC: Japanese-English Subtitle Corpus映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書のコンテンツは、特に明示されている場合を除いて、次のライセンスに従います: Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International (CC BY-SA 4.0) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| Copyright (c) 株式会社 高電社 All rights reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|

Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International (CC BY-SA 4.0)