「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIONING DEVICE OF MASK AND METHOD OF CALCULATING CENTER OF ROTATION OF MASK例文帳に追加

マスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法 - 特許庁

Finally, the sacrificial mask is removed to provide a trimmed spacer mask.例文帳に追加

最後に、犠牲マスクを除去して、トリミングされたスペーサマスクを与える。 - 特許庁

MASK, METHOD FOR PRODUCING MASK, FILM DEPOSITION METHOD, ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、成膜方法、電子デバイス、及び電子機器 - 特許庁

EXPOSURE MASK, PATTERN FORMATION METHOD, AND EXPOSURE MASK FABRICATION METHOD例文帳に追加

露光用マスク、パターン形成方法及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁

To provide a transmission regulating mask and a method for producing the mask.例文帳に追加

透過量調節マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR MASK FOR DISPLAY, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR DISPLAY例文帳に追加

ディスプレイ用マスクエッチング液およびディスプレイ用マスクの製造方法 - 特許庁

PACKING MATERIAL FOR MASK CASE, AND PACKING METHOD FOR MASK CASE USING IT例文帳に追加

マスクケースの梱包材及びこれを用いたマスクケースの梱包方法 - 特許庁

Then, the thin sheet for a shadow mask and the shadow mask are produced thereby.例文帳に追加

そして、その作製されたシャドウマスク用薄板、シャドウマスクである。 - 特許庁

The etching object film is etched using the hard mask film as an etching mask.例文帳に追加

ハードマスク膜をエッチングマスクとして、エッチング対象膜をエッチングする。 - 特許庁

MASK HOLDING METHOD AND MASK, METHOD OF FABRICATING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

マスク保持方法とマスク、並びにこれを用いたデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a chromeless phase shift mask and a method of fabricating the mask.例文帳に追加

クロムレス位相反転マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING METAL MASK, MASK OF ARTWORK MASTER FOR ELECTROFORMING AND ARTWORK MASTER例文帳に追加

メタルマスク、電鋳用マスク原版及びマスター原版の製造方法 - 特許庁

SALES METHOD AND SALES MANAGEMENT SERVER FOR MASK DESIGN DATA OF PHOTO MASK例文帳に追加

フォトマスクのマスク設計データの販売方法および販売管理サーバ - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN AND MASK FORMED BY THE METHOD例文帳に追加

マスクパターン設計方法及びその方法により形成されるマスク - 特許庁

MICROMINI OXYGEN-MASK-CUM-GAS-MASK INSTANTANEOUSLY ACTING IN EMERGENCY例文帳に追加

超小型で救急時瞬時対応の酸素マスク兼防毒ガスマスク。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SHADOW MASK, AND ETCHANT FILTERING DEVICE FOR SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスクの製造方法及びシャドウマスク用のエッチング液ろ過装置 - 特許庁

DESIGNING APPARATUS FOR EXPOSURE MASK AND METHOD FOR DESIGNING EXPOSURE MASK例文帳に追加

露光用マスクの設計装置および露光用マスクの設計方法 - 特許庁

Then etching of the trench is performed on the third mask film of the mask layer.例文帳に追加

その後、トレンチが、マスク層の第３のマスク・フィルムにエッチングされる。 - 特許庁

The system includes a mask holding system, a mask force device and a support transport device.例文帳に追加

システムは、マスク保持システム、マスク力デバイス、サポート移送デバイスを含む。 - 特許庁

a subnet mask, also in IP format, for further qualifying the destination mask.例文帳に追加

この値はさらに終点アドレスのマスクを調べるために使われる。 - XFree86

EXPOSURE MASK AND METHOD OF PRODUCING COLOR FILTER SUBSTRATE BY USING THE MASK例文帳に追加

露光用マスクおよびそれを用いたカラーフィルタ基板の製造方法 - 特許庁

MASK-HOLDING METHOD AND MASK, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

マスク保持方法とマスク、並びにこれを用いたデバイス製造方法 - 特許庁

Then the mask material pattern and resist pattern are used as a mask to process the substrate.例文帳に追加

そして、マスク材パターンとレジストパターンをマスクに基板を加工する。 - 特許庁

IMAGE INPUT/OUTPUT DEVICE, MASK CONTROLLER AND MASK CONTROL METHOD例文帳に追加

画像入出力装置、マスク制御装置およびマスク制御方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクの検査方法 - 特許庁

This mask is equipped with a mask layer 4 and a reinforcing part 7.例文帳に追加

本発明に係るマスクは、マスク層４と補強部７とを備える。 - 特許庁

GRAY TONE BLANK MASK, GRAY TONE PHOTO-MASK, AND THEIR MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

グレートーンブランクマスク及びグレートーンフォトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁

This baby was born out of the mask, and I want my mask back!例文帳に追加

その子供は俺のマスクの子供だ! 俺のマスクを返してもらおう! - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

A mask stoker 40 storing multiple masks 2 comprises: multiple mask storing parts 40a, each of which supports edges of a mask 2 by multiple mask receivers 42 to store the mask 2; and a mask positioning part 40b, which positions the mask 2 by multiple mask positioning units 50a and 50b, while supporting edges of the mask 2 by the multiple mask receivers 42.例文帳に追加

複数のマスク２を収納するマスクストッカー４０に、複数のマスク受け４２によりマスク２の縁を支持してマスク２を収納する複数のマスク収納部４０ａと、複数のマスク受け４２によりマスク２の縁を支持しながら、複数のマスク位置決め装置５０ａ，５０ｂによりマスク２の位置決めを行うマスク位置決め部４０ｂとを設ける。 - 特許庁

The resist mask Re1 is used as an etching mask, the Al film 22x is patterned, an Al mask 22 as an intermediate mask is formed, the resist mask Re1 and the Al mask 22 are used as an etching mask; and the silicon dioxide film 21x is patterned so that a silicon dioxide mask 21 can be formed as an ion implantation mask.例文帳に追加

レジストマスクＲｅ１をエッチングマスクとして用い、Ａｌ膜２２ｘをパターニングして中間マスクであるＡｌマスク２２を形成し、レジストマスクＲｅ１及びＡｌマスク２２をエッチングマスクとして用いて、二酸化珪素膜２１ｘをパターニングしてイオン注入マスクである二酸化珪素マスク２１を形成する。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a mask lifter 101 that pushes a mask 100 from below to a mask holder, a mask pusher 102 for adjusting the position of the mask, and a mask holder having an aperture 103-11 for supplying a gas for reducing the frictional resistance between the mask and the mask holder, when the position of the mask is adjusted.例文帳に追加

露光装置において、マスク１００を下方からマスクホルダへ押し付けるマスクリフタ１０１と、マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャ１０２と、マスクの位置の調整の際に、マスクとマスクホルダとの間の摩擦抵抗を低減するためのガスを供給する開口部１０３−１１を備えたマスクホルダを有する。 - 特許庁

A mask holding device holds first and second masks, wherein it has a first mask hold unit for holding the first mask and a second mask hold unit for holding the second mask, and the first and second mask hold units have mask adjustment sections that adjust the first mask holding position and the second mask holding position, respectively.例文帳に追加

第１マスク及び第２マスクを保持するマスク保持装置において、マスク保持装置は第１マスクを保持する第１マスク保持部と第２マスクを保持する第２マスク保持部とを有し、第１マスク保持部及び第２マスク保持部は第１マスクの保持位置及び第２マスクの保持位置を調整するマスク調整部を有する。 - 特許庁

METHOD FOR REPRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANKS, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANKS, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加

マスクブランクス用ガラス基板の再生方法、マスクブランクスの製造方法及び転写用マスクの製造方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM MASK, INSPECTION APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM MASK AND CHARGED PARTICLE BEAM MASK DATA STRUCTURE例文帳に追加

荷電粒子線マスク検査方法、荷電粒子線マスク検査装置及び荷電粒子線マスクデータ構造 - 特許庁

After the third mask layer 20 is removed, the fixed substrate 10 is etched using the second mask layer 16 as a mask.例文帳に追加

第３マスク層２０を除去した後、第２マスク層１６をマスクにして固定基板１０をエッチングする。 - 特許庁

MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER EQUIPMENT USING THE MASK PATTERN TRANSFER METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン転写方法、該マスクパターン転写方法を用いたマスクパターン転写装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

In the semiconductor mask, a mask for the charged-particle beam exposure system is formed in the two constitutions of an extremely thin mask and supporting sections made of a silicon.例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光装置用マスクを、極薄マスク部とシリコン製支持部の二部構成とする。 - 特許庁

The mask is inspected to create and analyze mask inspection data and to determine systematic mask error parameters (process 212).例文帳に追加

マスクを検査しマスク検査データを生成、分析し、系統的マスクエラーパラメータを決定する（工程２１２）。 - 特許庁

METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD BY PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの作製方法、位相シフトマスクによるパターン露光方法 - 特許庁

The mask apparatus comprises a mask plate having a film-formation opening, and mask substrate having a cavity for housing the chip.例文帳に追加

成膜開口を有するマスク板と、チップを収容するキャビティを有するマスク基体とを備える。 - 特許庁

REGENERATING METHOD OF GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加

マスクブランクス用ガラス基板の再生方法、マスクブランクスの製造方法及び転写用マスクの製造方法 - 特許庁

Thereafter, the first hard mask layer 5 is removed by using at least the second hard mask layer 6 as a mask.例文帳に追加

次に、少なくとも第２のハードマスク層６をマスクとして用いて、第１のハードマスク層５を除去する。 - 特許庁

To provide a shadow mask 11 in which the strength of a mask is increased without changing the curved surface profile of the mask.例文帳に追加

マスク部13の曲面形状を変えずにマスク部13の強度を向上できるシャドウマスク11を提供する。 - 特許庁

SHEET METAL FOR SHADOW MASK EXCELLENT IN LOW THERMAL EXPANSION CHARACTERISTIC, SHADOW MASK, SHADOW MASK ASSEMBLED BODY AND CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

低熱膨張特性に優れたシャドウマスク用薄板およびシャドウマスク、シャドウマスク組立体、ブラウン管 - 特許庁

A mask generating section 107 and a mask section 108 apply mask processing to the detected black pixel areas.例文帳に追加

この検出した黒画素領域に対して、マスク生成部１０７、マスク部１０８でマスク処理を施す。 - 特許庁