PAtterningを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3921件
METHOD FOR PATTERNING PROTEIN SUPERMOLECULE例文帳に追加
タンパク超分子のパターニング方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF PHOTOSENSITIVE RESIN例文帳に追加
感光性樹脂のパターニング方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD, PATTERNING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD, ELECTRONIC DEVICE, LIGHT EMITTING ELEMENT, COLOR FILTER AND PATTERNING DEVICE例文帳に追加
パターニング方法、電子デバイス、発光素子、カラーフィルタ及びパターニング装置 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND FILM FORMING APPARATUS例文帳に追加
パターニング方法及び製膜装置 - 特許庁
LITHOGRAPHY METHOD AND PATTERNING DEVICE例文帳に追加
リソグラフィ方法およびパターニングデバイス - 特許庁
METHOD OF PATTERNING CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
導電性フィルムのパターニング方法 - 特許庁
AQUEOUS MULTICOLOR-PATTERNING PAINT COMPOSITION例文帳に追加
水性多彩模様塗料組成物 - 特許庁
DOUBLE PATTERNING METHOD BY LITHOGRAPHY例文帳に追加
リソグラフィによるダブルパターンニング方法 - 特許庁
PATTERNING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターニング基板とその製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
The product patterning device is separated from the measuring-target patterning device.例文帳に追加
製品パターン化デバイスと計測ターゲット・パターン化デバイスは分離されている。 - 特許庁
Thus, the position of the patterning support is controlled to compensate for slip of the patterning device relative to the patterning support.例文帳に追加
従って、パターン支持体の位置の制御により、パターン支持体に対するパターニングデバイスのスリップが補正される。 - 特許庁
The patterning device includes at least two image patterning portions and at least two methodology mark patterning portions.例文帳に追加
パターニングデバイスは少なくとも２つのイメージパターニング部分および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング部分を含む。 - 特許庁
BASE MATERIAL FOR PATTERNING FILAMENTOUS FLOATING CELL例文帳に追加
糸状浮遊細胞パターニング基材 - 特許庁
MASK STRUCTURAL BODY AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
マスク構造体及びパターニング方法 - 特許庁
MAGNETIC MEMORY SUBJECTED TO ASSYMETRICAL PATTERNING例文帳に追加
非対称にパターニングされた磁気メモリ - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING LIQUID CRYSTAL LAYER AND ORIGINAL PLATE FOR PATTERNING USED FOR THE SAME例文帳に追加
液晶層のパターニング方法およびそれに用いられるパターニング用原版 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PATTERNING MOLDING AND PATTERNING MOLDING OBTAINED THEREBY例文帳に追加
模様付成形品の製法およびそれによって得られる模様付成形品 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING METALLIC OXIDE FILM例文帳に追加
金属酸化物膜のパターン化方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF WATER-SOLUBLE PHOTORESIST例文帳に追加
水溶性フォトレジストのパターニング方法 - 特許庁
PHOTORESIST AND METHOD FOR PATTERNING THE SAME例文帳に追加
フォトレジストおよびそのパターン化方法 - 特許庁
To provide a patterning apparatus to be used in patterning processing having a high degree of freedom.例文帳に追加
自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。 - 特許庁
PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION例文帳に追加
パターン形成方法及びレジスト材料 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING LAYOUT OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置のパターンレイアウト方法 - 特許庁
MASK FOR PATTERNING AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
パターニング用マスク及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターニングの方法および半導体デバイス - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加
レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法及び半導体装置 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING SILICON COMPOUND THIN FILM例文帳に追加
ケイ素化合物薄膜のパターニング方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加
半導体装置及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERNING PROCESS AND COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM TO BE USED FOR PATTERNING PROCESS例文帳に追加
パターン形成方法及びこれに用いるケイ素含有膜形成用組成物 - 特許庁
The patterning for the second time is carried out under the set patterning condition.例文帳に追加
その後、その設定されたパターニングの条件により２回目のパターニングを行う。 - 特許庁
Thereafter, the second patterning is conducted by transferring the wafer W to the patterning system.例文帳に追加
その後、ウェハＷをパターニングシステムに搬送して２回目のパターニングを行う。 - 特許庁
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