Processingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
METHOD OF PROCESSING DIGITAL IMAGE FOR LOW-BIT RATE APPLICATION例文帳に追加
低ビットレートの適用のためのディジタル画像処理方法 - 特許庁
DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID, AND PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL例文帳に追加
現像処理液及び感光性平版印刷版材料 - 特許庁
IMAGE PROCESSOR, IMAGE PROCESSING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加
画像処理装置、画像処理システム及び画像処理方法 - 特許庁
DIGITAL VIDEO PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加
ディジタル映像処理装置及びディジタル映像処理方法 - 特許庁
A result of the encryption processing is output as a response code (S8).例文帳に追加
その結果をレスポンスコードとして出力する(S8)。 - 特許庁
INFORMATION PROCESSING METHOD AND PROGRAM, AND NAVIGATION SYSTEM例文帳に追加
情報処理方法及びプログラム並びにナビゲーション装置 - 特許庁
INFORMATION PROCESSING APPARATUS, CONTROL METHOD THEREFOR, AND CONTROL PROGRAM例文帳に追加
情報処理装置、その制御方法及び制御プログラム - 特許庁
IMAGE PROCESSOR, IMAGE PROCESSING METHOD, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
画像処理装置、画像処理方法および記録媒体 - 特許庁
INSULATION COATING AGENT EXCELLENT IN HEAT REMOVAL PROPERTY, AND ITS PROCESSING METHOD例文帳に追加
抜熱性の優れる絶縁被膜剤とその処理方法 - 特許庁
TICKET PROCESSING DEVICE, SEASON TICKET ISSUING MACHINE, AND FARE ADJUSTING MACHINE例文帳に追加
券類処理装置、定期券発行機、及び精算機 - 特許庁
VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND SYSTEM例文帳に追加
映像信号処理装置および映像信号処理システム - 特許庁
ERROR CORRECTION PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加
誤り訂正処理装置及び誤り訂正処理方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING IMAGE, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
画像処理装置及び画像処理方法、記憶媒体 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR DAMASCENE PROCESSING, AND DAMASCENE STRUCTURE例文帳に追加
ダマシン処理方法、ダマシン処理装置および、ダマシン構造 - 特許庁
DATA STREAM PROCESSING METHOD, DECODER, AND METHOD FOR USING THE SAME例文帳に追加
データストリーム処理方法およびデコーダとその使用方法 - 特許庁
IMAGE PROCESSING APPARATUS, AND CONTROL METHOD THEREOF例文帳に追加
画像処理装置、及び、画像処理装置の制御方法 - 特許庁
DISPLAY CONTROL METHOD, INFORMATION DISPLAY PROCESSING SYSTEM, AND PROGRAM例文帳に追加
表示制御方法、情報表示処理システム、プログラム - 特許庁
COLOR EXTRACTING IMAGE PROCESSING DEVICE AND COLOR EXTRACTING METHOD例文帳に追加
色抽出画像処理装置および色抽出方法 - 特許庁
ULTRASONOGRAPH AND NOISE ELIMINATION PROCESSING METHOD例文帳に追加
超音波画像診断装置、及びノイズ除去処理方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR VERIFYING RESULTS OF PROCESSING OF NEW AND OLD SYSTEM例文帳に追加
新旧システムの処理結果の検証装置と方法 - 特許庁
METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加
基板加工方法及び発光素子の製造方法 - 特許庁
TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT AND FREQUENCY BAND PROCESSING METHOD例文帳に追加
試験測定装置及び周波数帯域処理方法 - 特許庁
WAKE-UP CALL SERVICE SYSTEM, ITS PROCESSING METHOD AND ITS PROGRAM例文帳に追加
モーニングコールサービスシステム、その処理方法及びそのプログラム - 特許庁
To provide technology for achieving high-speed communication data processing.例文帳に追加
通信データを高速に処理する技術を提供する。 - 特許庁
STEREOPHONIC PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加
立体音響処理装置および立体音響処理方法 - 特許庁
IMAGE PROCESSING APPARATUS AND ITS METHOD, AS WELL AS IMAGING APPARATUS例文帳に追加
画像処理装置及びその方法並びに撮像装置 - 特許庁
AIR INTAKE DEVICE AND WASTE WATER PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
吸気装置及びそれを用いる廃水処理方法 - 特許庁
The image processing means 20 acquires processed image signals Rout, Gout, Bout by arithmetic processing g(Ropn, Rcls), g(Gopn, Gcls), g(Bopn, Bcls) of every picture element to which the picture elements of both processing image signals correspond, on the basis of the extracted opening processing image signals and closing processing image signals.例文帳に追加
信号処理手段20が、抽出されたオープニング処理画像信号およびクロージング処理画像信号に基づいて、両処理画像信号の画素を対応させた画素ごとの演算処理g(Ropn ,Rcls ),g(Gopn ,Gcls ),g(Bopn ,Bcls )により処理済画像信号Rout ,Gout ,Bout を取得する。 - 特許庁
OPTICAL DISK DEVICE AND DEFECT PROCESSING METHOD OF OPTICAL DISK例文帳に追加
光ディスク装置及び光ディスクの欠陥処理方法 - 特許庁
IMAGE-FORMING METHOD, IMAGE-PROCESSING UNIT AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
画像形成方法、画像処理装置及び記憶媒体 - 特許庁
To perform the resolution conversion processing of a picture only by arithmetic addition.例文帳に追加
画像の解像度変換処理を加算のみで行う。 - 特許庁
PAPER FEEDER, IMAGE FORMATION APPARATUS AND POST- PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
紙搬送装置、画像形成装置及び後処理装置 - 特許庁
MULTI-CORE GEOMETRY PROCESSING IN TILE BASED RENDERING SYSTEM例文帳に追加
タイルベース・レンダリング・システムにおけるマルチコアの形状処理 - 特許庁
To uniformalize a plasma processing condition in a wafer surface.例文帳に追加
ウエハ面内でのプラズマ処理状況を均一化する。 - 特許庁
In the method for processing a substrate, including steps of: a liquid chemical processing step of processing a substrate W with a liquid chemical; and then a drying processing step of drying the substrate W, humidity around the substrate W is adjusted depending on type of the liquid chemical used in the liquid chemical processing step.例文帳に追加
薬液を用いて基板Wを処理する薬液処理工程を行った後,基板Wを乾燥させる乾燥処理工程を行う基板処理方法であって,前記薬液処理工程で使用される薬液の種類に応じて,基板Wの周囲の湿度を調節する。 - 特許庁
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