意味 | 例文 (999件) |
SILICON-NITRIDEの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4108件
Onto the amorphous silicon film 404, a silicon nitride film 405 is formed.例文帳に追加
アモルファスシリコン膜404上にシリコン窒化膜405を形成する。 - 特許庁
To reduce the wet etching rate of silicon nitride lower than the silicon oxide.例文帳に追加
窒化ケイ素のエッチング率を酸化ケイ素のエッチング率よりも低くする。 - 特許庁
A silicon nitride film 16 is formed on a silicon oxide film 10.例文帳に追加
シリコン酸化膜10にシリコン窒化膜16が形成されている。 - 特許庁
Then, the silicon oxide film is removed leaving the silicon nitride film 16 unremoved.例文帳に追加
その後に、シリコン窒化膜16を残置しつつシリコン酸化膜を除去する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NITRIDE-COUPLED SILICON CARBIDE HONEYCOMB FILTER例文帳に追加
窒化ケイ素結合炭化ケイ素ハニカムフィルタの製造方法 - 特許庁
The second silicon oxide film and the silicon nitride film are etched.例文帳に追加
第2酸化シリコン膜と窒化シリコン膜をエッチングする。 - 特許庁
The second material is a silicon oxide or silicon oxy-nitride.例文帳に追加
第2の材料は、酸化シリコンまたは酸化窒化シリコンである。 - 特許庁
A silicon oxide film 48 is formed on the surface of this silicon nitride film 42.例文帳に追加
このシリコン窒化膜42の表面にシリコン酸化膜48を成膜する。 - 特許庁
SILICON NITRIDE-SILICON CARBIDE-BASED COMPOSITE SINTERED COMPACT AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
窒化珪素−炭化珪素質複合焼結体およびその製造方法 - 特許庁
The mixing ratio (silicon carbide to silicon nitride) ranges from 90:10 to 99.5:0.5.例文帳に追加
その割合は、90対10から99.5対0.5の範囲である。 - 特許庁
To provide a low-heat-contraction silicon-rich silicon-nitride film.例文帳に追加
低熱収支シリコンリッチ窒化ケイ素膜を提供すること。 - 特許庁
There is provided the silicon nitride sintered product prepared by sintering an aggregate of a silicon nitride ceramic spherical powder comprising a silicon nitride raw material powder in the core of which boron nitride particles are concentatedly located, boron nitride particles, and an auxiliaries.例文帳に追加
中心部に窒化硼素粒子を偏在させた窒化珪素質原料粉末、窒化硼素粒子、助剤からなる窒化珪素質セラミック球状粉の集合体を焼結したことを特徴とする窒化珪素質焼結体。 - 特許庁
CERIUM ION ACTIVATED-LANTHANUM SILICON NITRIDE FLUORESCENT SUBSTANCE例文帳に追加
セリウムイオンの付活したランタン窒化ケイ素蛍光体 - 特許庁
SILICON NITRIDE (Si3N4) NANOROD AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化硅素(Si3N4)ナノロッドとその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE POWDER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND TONER EXTERNAL ADDITIVE例文帳に追加
窒化珪素質粉末、その製造方法及びトナー外添材 - 特許庁
SILICON NITRIDE MADE DISC SPRING MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD AND ITS USE例文帳に追加
窒化珪素製板バネ材、その製造方法及び用途 - 特許庁
SILICON NITRIDE CIRCUIT BOARD AND SEMICONDUCTOR MODULE例文帳に追加
窒化珪素配線基板および半導体モジュール - 特許庁
COLORED SILICON NITRIDE SINGLE CRYSTAL AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
窒化ケイ素有色単結晶及びその製造方法 - 特許庁
POROUS SILICON NITRIDE CERAMIC AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
多孔質窒化ケイ素セラミックスおよびその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE FILM, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化珪素膜、並びに半導体装置及びその作製方法 - 特許庁
TRANSPARENT ARTICLE HAVING SILICON NITRIDE FILM FORMED FOR PROTECTION例文帳に追加
保護用窒化ケイ素フィルムを有する透明物品 - 特許庁
SILICON NITRIDE/ALUMINUM COMPOSITE MATERIAL AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
窒化ケイ素/アルミニウム複合材料とその製法 - 特許庁
IN-SITU SILICON AND TITANIUM NITRIDE DEPOSITION例文帳に追加
シリコン及びチタン窒化物のインサイチュ蒸着 - 特許庁
WEAR RESISTANT MEMBER MADE OF SILICON NITRIDE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加
窒化けい素製耐摩耗性部材およびその製造方法 - 特許庁
CUTTING TOOL MADE OF SILICON NITRIDE SINTERED BODY例文帳に追加
窒化珪素質焼結体製切削工具 - 特許庁
REACTION SYNTHESIS OF SILICON CARBIDE-BORON NITRIDE COMPOSITE MATERIAL例文帳に追加
炭化ケイ素−窒化ホウ素複合材料の反応合成 - 特許庁
SILICON NITRIDE CIRCUIT BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化ケイ素回路基板およびその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SINGLE-CRYSTAL α-SILICON NITRIDE NANO-RIBBON例文帳に追加
単結晶のα型窒化珪素ナノリボンの製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE POROUS BODY AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化珪素多孔体及びその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE WIRING BOARD AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加
窒化珪素配線基板及びその製造方法 - 特許庁
SINGLE CRYSTAL SILICON NITRIDE NANOSHEET AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加
単結晶窒化ケイ素ナノシートとその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE SUBSTRATE, CIRCUIT BOARD AND MODULE USING THE SAME例文帳に追加
窒化珪素基板およびそれを用いた回路基板、モジュール。 - 特許庁
METHOD FOR SYNTHESIZING α-SILICON NITRIDE SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
α−窒化ケイ素単結晶の合成方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE CERAMIC HEATER AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
窒化ケイ素製セラミックヒータおよびその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE CIRCUIT BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化珪素質回路基板及びその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE BASE POROUS COMPACT AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化ケイ素質多孔体およびその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE FILM, AND NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE例文帳に追加
窒化珪素膜および不揮発性半導体メモリ装置 - 特許庁
AMORPHOUS SILICON NITRIDE OXIDE POROUS MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
非晶質酸窒化珪素多孔体およびその製造方法 - 特許庁
VALVE MADE OF SILICON NITRIDE-BASED CERAMIC AND PRODUCTION OF THE SAME VALVE例文帳に追加
窒化珪素質セラミック製バルブ及びその製造方法 - 特許庁
SILICON NITRIDE/TUNGSTEN CARBIDE COMPOSITE SINTERED COMPACT例文帳に追加
窒化珪素/炭化タングステン複合焼結体 - 特許庁
SILICON NITRIDE-BASED POWDER, ITS PRODUCING METHOD, AND TONER EXTERNAL ADDITIVE例文帳に追加
窒化珪素質粉末、その製造方法、トナー外添材 - 特許庁
SILICON NITRIDE POWDER AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
窒化ケイ素粉末及びその製造方法 - 特許庁
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