「block processing」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The substrate processing apparatus includes an indexer block, a processing block for a reflection preventing film, a processing block for a resist film, a developing processing block, a processing block for a resist cover film, a resist cover film removing block, and an interface block.例文帳に追加

基板処理装置は、インデクサブロック、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロック、現像処理ブロック、レジストカバー膜用処理ブロック、レジストカバー膜除去ブロックおよびインターフェースブロックを含む。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING INFORMATION BLOCK例文帳に追加

情報ブロックを処理する方法 - 特許庁

This electronic equipment is provided with an AV processing block 200, a telephone processing block 300, and a common processing block 400.例文帳に追加

ＡＶ処理ブロック２００、電話処理ブロック３００および共通処理ブロック４００を備えている。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

PARALLEL IMAGE PROCESSING FOR EVERY COLOR BLOCK例文帳に追加

色ブロック毎の並列画像処理 - 特許庁

APPARATUS FOR PROCESSING FROZEN FISH MEAT BLOCK例文帳に追加

冷凍魚肉ブロックの処理装置 - 特許庁

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate treating device is mechanically divided into each processing block of an indexer block 1, a bake block 2, a resist coating block 3, a development processing block 4, an interface block 5, and an inspection block IB.例文帳に追加

基板処理装置は、インデクサブロック１、バークブロック２、レジスト塗布ブロック３、現像処理ブロック４、インターフェイスブロック５、検査ブロックＩＢに各処理ブロックに機械的に区分される。 - 特許庁

BLOCK FOR PROCESSING SUBSTRATE AND DEVICE FOR PROCESSING SUBSTRATE例文帳に追加

基板処理装置用ブロック及び基板処理装置 - 特許庁

A substrate processing apparatus 100 includes: an indexer block 11; a first processing block 12; a second processing block 13; and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置１００は、インデクサブロック１１、第１の処理ブロック１２、第２の処理ブロック１３およびインターフェイスブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、液浸露光用処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

In an information processing system 10, a demultiplex-processing block 103, a multiplex-processing block 108, a decode-processing block 40, and an encode-processing block 50 are defined as object processing blocks, and each object processing block uses a memory area of a memory block 102 to execute processing.例文帳に追加

情報処理システム１０において逆多重化処理部１０３、多重化処理部１０８、復号処理部４０及び符号化処理部５０を対象処理部とし、夫々の対象処理部はメモリ部１０２のメモリ領域を利用して夫々の処理を実行する。 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING CYLINDER BLOCK, CYLINDER BLOCK, AND ENGINE STRUCTURE例文帳に追加

シリンダブロックの加工方法、及びシリンダブロック、及びエンジン構造 - 特許庁

CODE BLOCK PROCESSING DEVICE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

符号ブロック処理装置および方法 - 特許庁

DEVELOPMENT PROCESSING EQUIPMENT AND LIQUID REDUCING BLOCK例文帳に追加

現像処理装置及び減液ブロック - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for an antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a development processing block 12, a processing block 13 for a resist cover film, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying processing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises: an indexer block 9; a processing block 10 for an antireflection film; a processing block 11 for a resist film; a development processing block 12; a processing block 13 for a resist cover film; a resist cover film removing block 14; a cleaning/drying processing block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The above processing is performed for each block.例文帳に追加

以上の処理をブロックごとに行なう。 - 特許庁

According to a confirmation result, format processing is not executed for the block for which the write processing is already executed but executed only for the block for which the write processing is not executed.例文帳に追加

書き込み処理済みではないブロックのみに対してフォーマット処理を実行する。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a drying/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a cleaning/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、洗浄／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 300 comprises an indexer block 9, an antireflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and a first interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置３００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４および第１のインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

CYLINDER BLOCK AND ITS PROCESSING METHOD例文帳に追加

シリンダブロックの加工方法およびシリンダブロック - 特許庁

PROCESSING BLADE CHANGEOVER DEVICE FOR BLOCK BREAKING APPARATUS例文帳に追加

ブロック破断装置用加工刃切換装置 - 特許庁

The substrate processing apparatus 100 has an indexer block 10 and a processing block 11.例文帳に追加

基板処理装置１００は、インデクサブロック１０および処理ブロック１１を有する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus comprising an indexer block and a processing block, a substrate W is conveyed with an indexer robot IR between the indexer block and the processing block.例文帳に追加

インデクサブロックおよび処理ブロックからなる基板処理装置において、インデクサブロックと処理ブロックとの間で、基板ＷがインデクサロボットＩＲにより搬送される。 - 特許庁

The substrate processor 500 is provided with an indexer block 9, a reflection preventing film processing block 10, a resist film processing block 11, a resist cover film processing block 12, an inspection block 13, a development processing block 14, a resist cover film removing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、検査ブロック１３、現像処理ブロック１４、レジストカバー膜除去ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for antireflection film, a processing block 11 for resist film, a developing block 12, a processing block 13 for resist cover film, a block 14 for removing resist cover film and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

PROCESSING DEVICE FOR CYLINDER BLOCK FOR V-SHAPED ENGINE例文帳に追加

Ｖ型エンジン用シリンダブロックの処理装置 - 特許庁

Namely, signal processing is performed block-sequentially.例文帳に追加

すなわち、ブロック順次で信号処理される。 - 特許庁

PROCESSING BLOCK AGGREGATING DEVICE, METHOD AND RECORDING MEDIUM WITH PROCESSING BLOCK AGGREGATING PROGRAM RECORDED THEREIN例文帳に追加

処理ブロック集約装置、方法、および、処理ブロック集約プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a processing block 12 for resist cover films, a developing block 13, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING BLOCK-BASED WMA STREAM例文帳に追加

ブロックベースのＷＭＡストリームの処理方法 - 特許庁

SPECIALIZED PROCESSING BLOCK FOR PROGRAMMABLE LOGIC DEVICE例文帳に追加

プログラマブルロジックデバイスのための特殊処理ブロック - 特許庁

PROCESSING TECHNIQUE OF FILLING TYPE BIOLOGICAL ENVIRONMENT BLOCK例文帳に追加

充填式バイオ環境ブロックの加工技術 - 特許庁

That is, signal processing is performed in block sequence.例文帳に追加

すなわち、ブロック順次で信号処理される。 - 特許庁

HIGH SPEED PROCESSING METHOD AND PROCESSING APPARATUS AT BLOCK COMPRESSION PRIORITY例文帳に追加

ブロック圧縮優先時における高速処理方法・処理装置 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像／洗浄／乾燥処理ブロック１２、洗浄／乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を含む。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING TOP END OF BLOCK, AND HOLE FILLING MEMBER AND BLOCK THEREFOR例文帳に追加

ブロック天端処理における方法及び、その穴埋め部材及びブロック - 特許庁

This BOT device includes a signal processing block, an output selection block and a signal control block.例文帳に追加

ＢＯＴ装置は信号処理ブロック、出力選択ブロック及び信号制御ブロックを含む。 - 特許庁

A substrate processing device 100 comprises an indexer block 10, a first processing block 11, and a second processing block 12 which are provided mutually in parallel.例文帳に追加

基板処理装置１００は、互いに並列に設けられたインデクサブロック１０、第１の処理ブロック１１および第２の処理ブロック１２からなる。 - 特許庁