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layout techniquesの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
To provide layout techniques for read-only memories and the like.例文帳に追加
読み取り専用メモリおよびそれに類するメモリのためのレイアウト技術を提供すること。 - 特許庁
To facilitate revision comparison in three-dimensional layout adjustment CAD techniques by integrally managing layout and specifications in common databases, and extracting differences.例文帳に追加
三次元配置調整ＣＡＤの技術において、共通データベースでの配置と仕様の統合管理ならびに差異抽出により、レビジョン比較を容易にする。 - 特許庁
In contrast to conventional techniques which apply global design rules, the disclosed IC design system and the method partition the original design layout (201) into a desired level of granularity based on a specified layout and integrated circuit properties (203).例文帳に追加
大域的設計ルールを適用する従来の技法とは対照的に、開示するＩＣ設計システムおよび方法は、元の設計レイアウト２０１を、指定のレイアウトおよび集積回路特性に基づいて、所望の粒度に区分２０３する。 - 特許庁
To provide a method of calculating process conditions for performing optical correction and process correction (OPC) or other resolution enhancement techniques on a layout design.例文帳に追加
レイアウト設計に対して、光学補正およびプロセス補正（ＯＰＣ）または他の解像度向上技術を行うために、プロセス条件を計算する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide photomask data correction techniques to extract a defective portion of a wafer process on a design layout and to compensate resolution failure of a resist pattern in a lithography process for manufacturing a semiconductor.例文帳に追加
設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能とするとともに、半導体製造リソグラフィ工程におけるレジストパタン解像不良を補うフォトマスクデータ補正技術を提供する。 - 特許庁
To solve the problem of conventional techniques: that, in designing the layout of a semiconductor integrated circuit using copper wirings, excessive losses of areas result from meeting design limitations, that is, the need to keep the upper limits of wiring width and wiring occupation rate where two broad wirings intersect.例文帳に追加
銅配線を採用した半導体集積回路のレイアウト設計を行う際、設計制約として配線幅、配線占有率の上限を守る必要があるが、２つの幅広配線が交差する部分でこれらの制約を満たすためには、従来技術では過剰な面積的損失が発生する。 - 特許庁
To provide a device and a method for processing document image improved in operability and capable of easily preparing a document easy to read by easily performing addition or correction by suitably locating images to be synthesized inside an inputted document image when working the document image while using layout analysis techniques.例文帳に追加
本発明はレイアウト解析技術を用いて文書画像を加工する際に、合成すべき画像を入力された文書画像中に適切に配置して、追加、訂正等を簡単に行うことのできる、操作性がよく、読み易い文書を容易に作成できる文書画像処理装置及び文書画像処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
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