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lithographingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
METHOD OF CONVERTING LITHOGRAPHING DATA AND LITHOGRAPHING METHOD IN LASER BEAM LITHOGRAPHING APPARATUS例文帳に追加
レーザビーム描画装置における描画データ変換方法および描画方法 - 特許庁
LIQUID COMPOSITE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, LITHOGRAPHING METHOD USING THE SAME, IMMERSION LITHOGRAPHING EQUIPMENT, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
イマージョンリソグラフィー用液体組成物及びこれを利用したリソグラフィー方法、イマージョンリソグラフィー装置、半導体素子及び半導体素子の製造方法 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL STEREO LITHOGRAPHY AND OPTICAL STEREO LITHOGRAPHING METHOD例文帳に追加
光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法 - 特許庁
Lithographing method and system using this immersion liquid is also provided.例文帳に追加
また、この液浸液を使用したリソグラフィ方法およびリソグラフィシステムが提供される。 - 特許庁
To provide an electron beam lithography apparatus or lithographing method capable of discriminating during lithographing whether or not an electron beam is emitted onto a test piece, the electron beam lithography apparatus emitting an electron beam to the test piece to lithograph thereon a pattern circuit or the like.例文帳に追加
試料に電子線を照射してパターン回路等を描画する電子線描画装置において、電子線が試料に照射されているかどうかを描画中に判定できる電子線描画装置または描画方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an electron beam lithography system which confirms a state of electron beams in a lithography region in real time before lithographing work.例文帳に追加
描画領域の電子線の状態を、描画前にリアルタイムで確認することができる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁
A type of irradiated substance is discriminated by measuring an X-ray stimulated from the test piece for receiving electron beam irradiation during lithographing by the electron beam lithography apparatus.例文帳に追加
電子線描画装置の描画中に、電子線照射を受けた試料が放出するＸ線を測定して、照射物質の種類を判別する。 - 特許庁
The interference fringe and the diffraction grating pattern are plotted by an electron beam lithographing device based on an image data generated by calculation by a computer.例文帳に追加
干渉縞や回折格子パターンは、コンピュータによる演算に基いて生成された画像データに基き、電子線描画装置によって描画される。 - 特許庁
To provide a system in which outputs of as many drive systems as possible can be used when a lithographing position moves from one target to next target on a substrate.例文帳に追加
基板上で１つのターゲットから次のターゲットへと移動する場合に、可能な限り多くの駆動システムの出力を使用できるようにするシステムを提供する。 - 特許庁
To provide a coated base film, used in the lithographing process using thin resist film, when manufacturing semiconductors and is especially useful for processing the substrate directly under the base film.例文帳に追加
半導体装置製造の中で薄膜レジストを用いる多層系リソグラフィー工程において使用される塗布型下層膜を提供するものであって、該下層膜の直下に存在する基板の加工に有用である。 - 特許庁
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