「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

INK JET RECORDING SHEET HAVING ERASABLE PRINT PATTERN AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

消去可能な印刷パターンをもつインクジェット用記録シート及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁

STRATIFIED ORIENTED PATTERN IN PARALLEL TO SURFACE AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

表面に平行な層状配向パターンとその製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING DEVICE, ITS MANUFACTURE, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING PROCESS AND PATTERN SURFACE COATING MATERIAL FOR USE IN SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びこれに用いるパターン表面コート材 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

LEATHER PATTERN SHEET AND STRUCTURE OF BALL FOR BALL GAME MADE OF THE SAME例文帳に追加

皮革様シートおよびそれからなる球技ボール用構造物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS BY USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パタ—ンの製造法及び電子部品 - 特許庁

LENTICULAR LENS SHEET WITH LIGHT SHIELDING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

遮光パターン付きレンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

BOARD HAVING PLANAR PATTERN AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

平面パターンを有する基板およびそれを用いた表示装置 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

半導体製造装置及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、金属パターン及びその形成方法 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL PATTERN HAVING ADHESIVENESS AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

接着性を有する３次元パターンおよびその形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性組成物とこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁

GAME MACHINE AND PATTERN VARIATION DISPLAY CONTROL METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

遊技機及び遊技機における図柄変動表示制御方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE AND BAKED SUBSTANCE PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加

感光性ペースト及びそれを用いて形成した焼成物パターン - 特許庁

POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SOLDER PASTE AND CONDUCTOR PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加

はんだペースト及びそれを用いて形成した導電体パターン - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CONDUCIVE PASTE AND CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

導電性ペーストとそれを用いた導電パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING SALIVARY DRIED PATTERN FOR PRACTICE, AND ACCESSORY OF THE SAME例文帳に追加

練習用唾液乾燥模様の形成方法とその付属品。 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物およびこれを使用したパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMING BODY AND PHOTOMASK USED FOR THE SAME例文帳に追加

パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク - 特許庁

MULTI-GRADATION PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

多階調フォトマスク、その製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND TWO-LAYER STRUCTURE MICROLENS USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法およびこれを用いた２層構造マイクロレンズ - 特許庁

HIDDEN PATTERN BY OPTICAL DIFFRACTION STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

光回折構造による隠しパターン及びその作製方法 - 特許庁

RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE USING SAME例文帳に追加

パターン評価方法および該方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF FINE PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

微細パターンの製造方法及びそれを用いたプリント配線板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性エレメント、及びこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁