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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4755件
DEVELOPMENT PRETREATMENT AGENT FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING PATTERN AND PATTERN FORMING MATERIAL USING THE SAME,例文帳に追加
リソグラフィー用現像前処理剤、それを用いたパターン形成方法及びパターン形成材料 - 特許庁
SURFACE TREATING AGENT FOR RESIST PATTERN FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
Even when the lengths of the periods of re-lottery are different, each pattern of motion in the pattern of changing is the same.例文帳に追加
再抽選期間の長さが異なっても、変動パターン中の各動作パターンは同じである。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR FORMATION OF THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
三次元パターン形成用感光性組成物、及びそれを用いた三次元パターン形成方法 - 特許庁
ELECTROMAGNETIC BANDGAP PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SECURITY PRODUCT USING ELECTROMAGNETIC BANDGAP PATTERN例文帳に追加
電磁気バンドギャップパターン及びその製造方法、並びに電磁気バンドパターンを利用した保安製品 - 特許庁
INK JET RECORDING SHEET HAVING ERASABLE PRINT PATTERN AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
消去可能な印刷パターンをもつインクジェット用記録シート及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁
LENTICULAR LENS SHEET WITH LIGHT SHIELDING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
遮光パターン付きレンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS BY USING SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、パタ—ンの製造法及び電子部品 - 特許庁
RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
IMAGE CORRECTING METHOD AND PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD USING SAME例文帳に追加
画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法 - 特許庁
CONDUCIVE PASTE AND CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
導電性ペーストとそれを用いた導電パターンの形成方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
半導体製造装置及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、金属パターン及びその形成方法 - 特許庁
THREE-DIMENSIONAL PATTERN HAVING ADHESIVENESS AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
接着性を有する3次元パターンおよびその形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING SALIVARY DRIED PATTERN FOR PRACTICE, AND ACCESSORY OF THE SAME例文帳に追加
練習用唾液乾燥模様の形成方法とその付属品。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
LEATHER PATTERN SHEET AND STRUCTURE OF BALL FOR BALL GAME MADE OF THE SAME例文帳に追加
皮革様シートおよびそれからなる球技ボール用構造物 - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト組成物およびこれを使用したパターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMING BODY AND PHOTOMASK USED FOR THE SAME例文帳に追加
パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
感光性フイルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
INTAGLIO PRINTING MACHINE PATTERN ROLLER AND INKING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
凹版印刷機用パターンローラ及びそれを用いた着肉装置 - 特許庁
RESIST UNDERLAY FILM MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTO MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMED BODY USING THE SAME例文帳に追加
フォトマスク及びこれを用いたパターン形成体の製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND TWO-LAYER STRUCTURE MICROLENS USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびこれを用いた2層構造マイクロレンズ - 特許庁
MULTI-GRADATION PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
多階調フォトマスク、その製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁
HIDDEN PATTERN BY OPTICAL DIFFRACTION STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
光回折構造による隠しパターン及びその作製方法 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION MASK AND THIN FILM PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
蒸着マスクおよびそれを用いた薄膜パターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN-LIKE PHOSPHOR MICROPARTICLE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
パターン状の蛍光体微粒子膜およびその製造方法。 - 特許庁
STRATIFIED ORIENTED PATTERN IN PARALLEL TO SURFACE AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
表面に平行な層状配向パターンとその製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
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