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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
To provide a code pattern with a crossed localization pattern and an image processing device that processes the same.例文帳に追加
十字型定位パターンを備えるコードパターン及ぶ処理該コードパターンのイメージ処理装置の提供。 - 特許庁
Even when the lengths of the periods of re-lottery are different, each pattern of motion in the pattern of changing is the same.例文帳に追加
再抽選期間の長さが異なっても、変動パターン中の各動作パターンは同じである。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR FORMATION OF THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
三次元パターン形成用感光性組成物、及びそれを用いた三次元パターン形成方法 - 特許庁
TREATING AGENT FOR DECREASING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST PATTERN DEFECT AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅型レジストパターンディフェクト低減用処理剤及びそれを用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁
PULSE PATTERN GENERATING DEVICE, ERROR RATIO MEASURING SYSTEM USING THE SAME, AND PULSE PATTERN GENERATING METHOD例文帳に追加
パルスパターン発生装置及び該装置を用いた誤り率測定システム並びにパルスパターン発生方法 - 特許庁
DEVELOPMENT PRETREATMENT AGENT FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING PATTERN AND PATTERN FORMING MATERIAL USING THE SAME,例文帳に追加
リソグラフィー用現像前処理剤、それを用いたパターン形成方法及びパターン形成材料 - 特許庁
WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁
PATTERN EVALUATION METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE USING SAME例文帳に追加
パターン評価方法および該方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF FINE PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加
微細パターンの製造方法及びそれを用いたプリント配線板 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS BY USING SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、パタ—ンの製造法及び電子部品 - 特許庁
LENTICULAR LENS SHEET WITH LIGHT SHIELDING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
遮光パターン付きレンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
THREE-DIMENSIONAL PATTERN HAVING ADHESIVENESS AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
接着性を有する３次元パターンおよびその形成方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
半導体製造装置及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、金属パターン及びその形成方法 - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト組成物およびこれを使用したパターンの形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING SALIVARY DRIED PATTERN FOR PRACTICE, AND ACCESSORY OF THE SAME例文帳に追加
練習用唾液乾燥模様の形成方法とその付属品。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMING BODY AND PHOTOMASK USED FOR THE SAME例文帳に追加
パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク - 特許庁
MULTI-GRADATION PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
多階調フォトマスク、その製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND TWO-LAYER STRUCTURE MICROLENS USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびこれを用いた２層構造マイクロレンズ - 特許庁
HIDDEN PATTERN BY OPTICAL DIFFRACTION STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
光回折構造による隠しパターン及びその作製方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST PATTERN, ELECTRODE FORMING METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
レジストパターン、それを用いた電極形成方法及び電子部品 - 特許庁
HOT PLATE OVEN AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加
熱板オーブン及びこれを利用するフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
GAME MACHINE AND PATTERN VARIATION DISPLAY CONTROL METHOD FOR THE SAME例文帳に追加
遊技機及び遊技機における図柄変動表示制御方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE AND BAKED SUBSTANCE PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加
感光性ペースト及びそれを用いて形成した焼成物パターン - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CONDUCIVE PASTE AND CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
導電性ペーストとそれを用いた導電パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
IMAGE CORRECTING METHOD AND PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD USING SAME例文帳に追加
画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SOLDER PASTE AND CONDUCTOR PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加
はんだペースト及びそれを用いて形成した導電体パターン - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ネガ型感光性組成物とこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁
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