「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

PATTERN FORMING BODY AND DUPLICATION METHOD USING SAME例文帳に追加

パターン形成体及びパターン形成体を用いた複製方法 - 特許庁

PATTERN PAPER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND COUNTERFEIT-PROOF PAPER例文帳に追加

模様紙およびその製造方法、並びに偽造防止用紙 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION UNIT AND SEMICONDUCTOR INSPECTION SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

パターン検査装置およびそれを用いた半導体検査システム - 特許庁

PRINTED WIRING PATTERN DISPLAY DEVICE, AND SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

プリント配線パターン表示装置及びそれを用いたシステム - 特許庁

HAND ROLLER AND FORMATION METHOD OF JOINT PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ハンドローラおよびそれを用いた目地模様の形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The reinforcement pattern 93 is made of the same material as the coil pattern 92, and has substantially the same height from the insulation substrate 90.例文帳に追加

補強用パターン９３は、コイルパターン９２と同材質であり、絶縁基板９０からの高さが略同一である。 - 特許庁

RESIST INK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジストインキおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PLUSH FABRIC HAVING UNEVEN PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

凹凸柄を有する立毛布帛及びその製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びそれを用いるデバイス製造方法 - 特許庁

TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加

テンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN PRINTING SHEET AND MULTIFUNCTIONAL PROJECTION SCREEN USING THE SAME例文帳に追加

パターン印刷シート及びそれを用いた多機能映写スクリーン - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク及び、それを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びその方法を用いた表示装置 - 特許庁

ALIGNER AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

露光装置、及び該露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁

MASK, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスク、それを用いたパターン形成方法およびリソグラフィ方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL, FINE PLATING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成材料並びにこれを用いた微細めっきパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

樹脂組成物、それを用いたレリーフパターンの形成方法 - 特許庁

On the walls, the holds have been arranged in exactly the same pattern.例文帳に追加

壁にはホールドがまったく同じパターンで配置されます。 - 浜島書店 Catch a Wave

PATTERN ARRANGEMENT SHEET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE CHIP AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

パターン配列シート、その製造方法、電子デバイスチップ及びその製造方法 - 特許庁

To give a feeling of unity by forming a temple portion and a wraparound endpiece portion in the same color and the same pattern.例文帳に追加

テンプル部分とヨロイ部分を同じ色や模様にして統一感を出す事。 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL COLOR PATTERN FORMING MEMBER, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND METHOD OF STICKING THE SAME例文帳に追加

立体色模様形成部材、その製造方法、及びその貼り付け施工方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN LAMINATED SUBSTRATE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン及びレジストパターン積層基板 - 特許庁

To form a film pattern right below a resist pattern with high size precision, in the same shape as that of the resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの直下の膜パターンを、寸法精度を高精度にレジストパターンと同形状の膜パターンとして形成する。 - 特許庁

The anchor pattern region AA has each anchor pattern with dimensions same as the depth of at least one fine pattern formed at the fine pattern region FA.例文帳に追加

アンカーパターン領域ＡＡは、微細パターン領域ＦＡに形成された少なくとも１つの微細パターンの深さと同一の寸法のアンカーパターンを有する。 - 特許庁

BASE WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

導体層パターン付き基材、その製造法及びそれを用いた電磁波遮蔽部材 - 特許庁

RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

RESIN MOLDED ARTICLE HAVING IRREGULAR PATTERN AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

不規則模様を有する樹脂成形品およびその製造装置と製造方法 - 特許庁

POLYMER, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合体、およびそれを含むレジスト材料、ならびにそれを用いるパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND THIN FILM TRANSISTOR USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

導電パターンの形成方法とそれを利用した薄膜トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁

THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

薄膜トランジスタ及びその製造方法並びに導電性パターン及びその形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The photomask is provided with a device pattern having an opening part and a mask pattern and a focus monitor pattern or an exposure monitor pattern which has the opening part and the mask pattern and has the same plane pattern shape with at least one part of region of the device pattern on a photomask.例文帳に追加

フォトマスク上に、開口部とマスク部を有するデバイスパターンと、開口部とマスク部を有し、デバイスパターンの少なくとも一部の領域と同じ平面パターン形状を持つフォーカスモニターパターンまたは露光量モニターパターンを有する。 - 特許庁

SURFACE TREATMENT AGENT FOR FORMING RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

SURFACE TREATING AGENT FOR RESIST PATTERN FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

The first pattern image and the second pattern image are formed on the same surface of the recording paper.例文帳に追加

第１のパターン画像と第２のパターン画像とは、記録紙の同一面上に形成される。 - 特許庁

Thus, the mask pattern 4a in the same shape as the mask pattern 2a is formed on the dry film 4.例文帳に追加

これによって、ドライフィルム４にマスクパターン２ａと同一形状のマスクパターン４ａを形成する。 - 特許庁

RESIST PATTERN THICKENING MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

ELECTROMAGNETIC BANDGAP PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SECURITY PRODUCT USING ELECTROMAGNETIC BANDGAP PATTERN例文帳に追加

電磁気バンドギャップパターン及びその製造方法、並びに電磁気バンドパターンを利用した保安製品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM FOR PERMANENT PATTERN FORMATION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

永久パターン形成用感光性フィルム、その製造方法、及び永久パターンの形成方法 - 特許庁

INK JET RECORDING SHEET HAVING ERASABLE PRINT PATTERN AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

消去可能な印刷パターンをもつインクジェット用記録シート及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁