「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

HAND ROLLER AND FORMATION METHOD OF JOINT PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ハンドローラおよびそれを用いた目地模様の形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

LENS SHEET HAVING LIGHT SHIELDING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

遮光パターンを有するレンズシート及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING CONVEX PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトマスク及びそれを使用した凸状パターン形成方法 - 特許庁

RESIST SUBSTRATE, PATTERN FORMING METHOD FOR THE SAME AND RESIST MASTER DISK例文帳に追加

レジスト基板、そのパターン形成方法およびレジスト原盤 - 特許庁

PATTERN INSPECTION UNIT AND SEMICONDUCTOR INSPECTION SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

パターン検査装置およびそれを用いた半導体検査システム - 特許庁

ANTENNA PATTERN AND ELECTROMAGNETIC WAVE ENERGY PROCESSING DEVICE HAVING SAME例文帳に追加

アンテナパターンおよびそれを有する電磁波エネルギー処理装置 - 特許庁

The family's kamon (crest) was hidari mitsudomoe (a counter-clockwise pattern comprising three comma-shaped figures in a circle) (the same as that of the Saionji family). 例文帳に追加

家紋は左三つ巴（西園寺家と同じ）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

PATTERN FOR EVALUATION, AND PHOTOMASK FOR FORMING SAME例文帳に追加

評価用パターンおよび評価用パターンを形成したフォトマスク - 特許庁

SHEET HAVING MARBLE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

大理石模様を有するシート及びそれを製造する方法 - 特許庁

ELECTRODE BODY HAVING CIRCUIT PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

回路パターンを有する電極体およびその製造方法 - 特許庁

PHOTORESIST FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジストフィルム及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN PRINTING SHEET AND MULTIFUNCTIONAL PROJECTION SCREEN USING THE SAME例文帳に追加

パターン印刷シート及びそれを用いた多機能映写スクリーン - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びその方法を用いた表示装置 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク及び、それを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁

TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加

テンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁

ALIGNER AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

露光装置、及び該露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL, FINE PLATING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成材料並びにこれを用いた微細めっきパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスク、それを用いたパターン形成方法およびリソグラフィ方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

樹脂組成物、それを用いたレリーフパターンの形成方法 - 特許庁

On the walls, the holds have been arranged in exactly the same pattern.例文帳に追加

壁にはホールドがまったく同じパターンで配置されます。 - 浜島書店 Catch a Wave

THREE-DIMENSIONAL COLOR PATTERN FORMING MEMBER, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND METHOD OF STICKING THE SAME例文帳に追加

立体色模様形成部材、その製造方法、及びその貼り付け施工方法 - 特許庁

PATTERN ARRANGEMENT SHEET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE CHIP AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

パターン配列シート、その製造方法、電子デバイスチップ及びその製造方法 - 特許庁

To give a feeling of unity by forming a temple portion and a wraparound endpiece portion in the same color and the same pattern.例文帳に追加

テンプル部分とヨロイ部分を同じ色や模様にして統一感を出す事。 - 特許庁

To form a film pattern right below a resist pattern with high size precision, in the same shape as that of the resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの直下の膜パターンを、寸法精度を高精度にレジストパターンと同形状の膜パターンとして形成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN LAMINATED SUBSTRATE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン及びレジストパターン積層基板 - 特許庁

The anchor pattern region AA has each anchor pattern with dimensions same as the depth of at least one fine pattern formed at the fine pattern region FA.例文帳に追加

アンカーパターン領域ＡＡは、微細パターン領域ＦＡに形成された少なくとも１つの微細パターンの深さと同一の寸法のアンカーパターンを有する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

BASE WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

導体層パターン付き基材、その製造法及びそれを用いた電磁波遮蔽部材 - 特許庁

RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

POLYMER, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合体、およびそれを含むレジスト材料、ならびにそれを用いるパターン形成方法 - 特許庁

RESIN MOLDED ARTICLE HAVING IRREGULAR PATTERN AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

不規則模様を有する樹脂成形品およびその製造装置と製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND THIN FILM TRANSISTOR USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

導電パターンの形成方法とそれを利用した薄膜トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁

THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

薄膜トランジスタ及びその製造方法並びに導電性パターン及びその形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The photomask is provided with a device pattern having an opening part and a mask pattern and a focus monitor pattern or an exposure monitor pattern which has the opening part and the mask pattern and has the same plane pattern shape with at least one part of region of the device pattern on a photomask.例文帳に追加

フォトマスク上に、開口部とマスク部を有するデバイスパターンと、開口部とマスク部を有し、デバイスパターンの少なくとも一部の領域と同じ平面パターン形状を持つフォーカスモニターパターンまたは露光量モニターパターンを有する。 - 特許庁

PULSE PATTERN GENERATING DEVICE, ERROR RATIO MEASURING SYSTEM USING THE SAME, AND PULSE PATTERN GENERATING METHOD例文帳に追加

パルスパターン発生装置及び該装置を用いた誤り率測定システム並びにパルスパターン発生方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM FOR PERMANENT PATTERN FORMATION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

永久パターン形成用感光性フィルム、その製造方法、及び永久パターンの形成方法 - 特許庁

The first pattern image and the second pattern image are formed on the same surface of the recording paper.例文帳に追加

第１のパターン画像と第２のパターン画像とは、記録紙の同一面上に形成される。 - 特許庁

Thus, the mask pattern 4a in the same shape as the mask pattern 2a is formed on the dry film 4.例文帳に追加

これによって、ドライフィルム４にマスクパターン２ａと同一形状のマスクパターン４ａを形成する。 - 特許庁

SURFACE TREATMENT AGENT FOR FORMING RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

DEVELOPMENT PRETREATMENT AGENT FOR LITHOGRAPHY, METHOD FOR FORMING PATTERN AND PATTERN FORMING MATERIAL USING THE SAME,例文帳に追加

リソグラフィー用現像前処理剤、それを用いたパターン形成方法及びパターン形成材料 - 特許庁

SURFACE TREATING AGENT FOR RESIST PATTERN FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

Even when the lengths of the periods of re-lottery are different, each pattern of motion in the pattern of changing is the same.例文帳に追加

再抽選期間の長さが異なっても、変動パターン中の各動作パターンは同じである。 - 特許庁