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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4755件
CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMMERSION LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用液浸液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
Further, a directional pattern of the whole LED elements D is the same.例文帳に追加
さらに、全てのLED素子Dの指向特性は同一である。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING BARRIER FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CONDUCTIVE PATTERN FORMATION SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND INPUT DEVICE例文帳に追加
導電パターン形成基板およびその製造方法、入力装置 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST LOWER LAYER FILM MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM APPARATUS AND PATTERN EVALUATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電子線装置及び該電子線装置を用いたパターン評価方法 - 特許庁
GLASS FIBER PATTERN MATERIAL-ADDED RESIN MOLDED PRODUCT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
ガラス繊維模様材添加樹脂成型品および製造方法 - 特許庁
MEASURING APPARATUS OF DIMENSION OF PATTERN AND MEASURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
パターンの寸法の測定装置、及びこれを用いる測定方法 - 特許庁
LSI TESTER, AND DOWNLOAD METHOD OF PATTERN DATA IN THE SAME例文帳に追加
LSIテスタ及びLSIテスタにおけるパターンデータのダウンロード方法 - 特許庁
DEVELOPER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト用現像液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DENTAL CROWN AND TRAY PATTERN USED FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
歯冠の製造方法及びその製造に用いるトレ−パタ−ン - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING BARRIER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESISTIVE HEATING ELEMENT CIRCUIT PATTERN AND SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT USING THE SAME例文帳に追加
抵抗発熱体回路パターンとそれを用いた基板処理装置 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加
感光性ポリイミド組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TRANSFER SHEET HAVING METALLIC LUSTER PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
金属光沢模様を有する転写シート及びその製造方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いるパタ−ン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CEMENT BOARD HAVING IRREGULAR PATTERN AND TEMPLATE FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様を有するセメント系ボードおよびその製造用型板 - 特許庁
EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
露光装置及び露光装置を用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
PRINTED CIRCUIT BOARD HAVING FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
微細パターンを有する印刷回路基板及びその製造方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOMASK PATTERN CORRECTING METHOD AND PHOTOMASK CORRECTED BY THE SAME例文帳に追加
フォトマスクのパターン補正方法およびそれにより補正されたフォトマスク - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト組成物及びこれを用いるフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁
CYLINDRICAL MICRO PATTERN COIL AND CYLINDRICAL MICRO MOTOR USING THE SAME例文帳に追加
円筒状マイクロパターンコイル及びそれを用いた円筒型マイクロモータ - 特許庁
RAMP WAVEFORM GENERATING CIRCUIT AND CIRCUIT PATTERN DETECTOR USING THE SAME例文帳に追加
ランプ波形発生回路及びそれを用いた回路パターン検査装置 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING PATTERN OF THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびそのパターンを有する半導体装置 - 特許庁
CURED PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PHOTOMASK AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
硬化パターンおよびその製造方法、フォトマスク、ならびに露光装置 - 特許庁
It is considered that this part also seems to have the same kind of pattern. 例文帳に追加
このくだりについても同様の類型性が窺えるとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Consequently, a pattern 4 and a through hole 3 are formed at the same time.例文帳に追加
これによりパターン4とスルーホール3とが同時に形成される。 - 特許庁
DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁
FABRIC CAPABLE OF DEVELOPING PATTERN ON WATER INFILTRATION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
含水により図柄模様が発現する布帛とその製造方法 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING FINE PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加
微細パターンの製造方法およびそれを用いたプリント配線板 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
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