| 例文 |
same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
露光装置及び露光装置を用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
PRINTED CIRCUIT BOARD HAVING FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
微細パターンを有する印刷回路基板及びその製造方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOMASK PATTERN CORRECTING METHOD AND PHOTOMASK CORRECTED BY THE SAME例文帳に追加
フォトマスクのパターン補正方法およびそれにより補正されたフォトマスク - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト組成物及びこれを用いるフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PAPER PATTERN OF GARMENT FOR PET AND GARMENT FOR PET USING THE SAME例文帳に追加
ペット用の服の型紙及びこの型紙を用いるペット用の服。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE AND BAKED OBJECT PATTERN FORMED BY USING THE SAME例文帳に追加
感光性ペースト及びそれを用いて形成した焼成物パターン - 特許庁
WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
水溶性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CURABLE SILICONE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
MIST LIKE VARIABLE DENSITY PATTERN SHEET MATERIAL AND METHOD AND APPARATUS FOR CONTINUOUSLY PRODUCING THE SAME例文帳に追加
霞状濃淡模様シート材、その連続製造方法、装置 - 特許庁
PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
Further, a directional pattern of the whole LED elements D is the same.例文帳に追加
さらに、全てのLED素子Dの指向特性は同一である。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ALUMINUM STOCK WITH GRANITE FACE PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
御影石面模様を有するアルミニウム素材およびその製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESISTIVE HEATING ELEMENT CIRCUIT PATTERN AND SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT USING THE SAME例文帳に追加
抵抗発熱体回路パターンとそれを用いた基板処理装置 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING BARRIER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
DEVELOPER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト用現像液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DENTAL CROWN AND TRAY PATTERN USED FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
歯冠の製造方法及びその製造に用いるトレ−パタ−ン - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
LSI TESTER, AND DOWNLOAD METHOD OF PATTERN DATA IN THE SAME例文帳に追加
LSIテスタ及びLSIテスタにおけるパターンデータのダウンロード方法 - 特許庁
PATTERN-ARRAYED CARBON NANO-SUBSTANCE STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
パターン配列化カーボンナノ物質構成体およびその製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁
BARRIER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
バリア膜形成用材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN USING SAME, AND COLOR FILTER例文帳に追加
感光性樹脂組成物ならびにこれを用いたパターンおよびカラーフィルタ - 特許庁
THIN FILM FLUORESCENT MATERIAL ON WHICH PATTERN IS FORMED AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
パターン形成された薄膜蛍光体及びその製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR USING SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた半導体の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性積層体及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
SERVO PATTERN WRITING SYSTEM AND MAGNETIC DISK DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
サーボパターン書き込み方式及びこの方式を用いた磁気ディスク装置 - 特許庁
ANTENNA PATTERN FRAME, METHOD AND MOLD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
アンテナパターンフレーム、その製造方法及び製造金型、電子装置 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMMERSION LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用液浸液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
It is considered that this part also seems to have the same kind of pattern. 例文帳に追加
このくだりについても同様の類型性が窺えるとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
METHOD OF PRODUCING FINE PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加
微細パターンの製造方法およびそれを用いたプリント配線板 - 特許庁
Consequently, a pattern 4 and a through hole 3 are formed at the same time.例文帳に追加
これによりパターン4とスルーホール3とが同時に形成される。 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 - 特許庁
DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁
FABRIC CAPABLE OF DEVELOPING PATTERN ON WATER INFILTRATION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
含水により図柄模様が発現する布帛とその製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。 |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|