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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4755件
MAGNETIC PATTERN-FORMING COATING MATERIAL AND METHOD FOR FORMING COATING FILM USING THE SAME例文帳に追加
磁性模様形成塗料、及びこれを用いた塗膜の形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびそれを用いた回路材料の製造方法 - 特許庁
ARTIFICIAL LEATHER WITH BRAND-FASHIONED STAMP PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
焼印風刻印模様を有する人工皮革及びその製造方法 - 特許庁
LIQUID IMMERSION SOLUTION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用液浸液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SUEDE-LIKE ARTIFICIAL LEATHER HAVING UNEVEN PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
凹凸柄を有するスエード調人工皮革及びその製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE WITH WIRING PATTERN AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
配線パターンを有する基板及びそれを用いた液晶表示装置 - 特許庁
DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄剤及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
The pattern P2 is formed on the same layer as a gate electrode G and the pattern P3 is formed on the same layer as an element separation area ST1.例文帳に追加
さらに、パターンP2は、ゲート電極Gと同層で形成されており、パターンP3は素子分離領域STIと同層で形成される。 - 特許庁
INK ACCEPTABLE BASE MATERIAL AND METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
インク受容基材及びそれを用いた導電性パターン形成方法 - 特許庁
RESIN FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
EATABLE PATTERN-PRINTED SHEET AND MICROWAVE OVEN- PROCESSABLE FOOD USING THE SAME例文帳に追加
可食性図柄印刷シートと同シートを用いた電子レンジ加工食品 - 特許庁
MULTI-COLOR PATTERN COATING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PIGMENT DISPERSION例文帳に追加
多彩模様塗料及びその製造方法並びに顔料分散液 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを利用したパターンの形成方法 - 特許庁
NONWOVEN STRUCTURE WITH EMBOSSED PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様が付与されてなる不織構造体およびその製造方法 - 特許庁
LAMINATED MATERIAL WITH PHOSPHORESCENT OR FLUORESCENT PATTERN AND WALL FLOOR MATERIAL WITH THE SAME例文帳に追加
蓄光性又は蛍光性模様を施した積層材及び壁床材 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN OF ORGANIC MATERIAL AND DISPLAY APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
有機材料のパターン形成方法及びそれを用いた表示装置 - 特許庁
BELT WITH SCALE PATTERN, CONVEYING DEVICE USING THE SAME AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
スケールパターン付きベルト、これを用いた搬送装置及び画像形成装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SELF-ALIGNED PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
自己整合パターンの製造方法およびそれを用いた半導体装置 - 特許庁
DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性ポリイミド用現像液およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
LETTERPRESS FOR PATTERN FORMATION AND ORGANIC EL ELEMENT MANUFACTURED USING SAME例文帳に追加
パターン形成用凸版及びそれを用いて製造した有機EL素子 - 特許庁
CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
SIMULATED WIRING PATTERN AND EVALUATION TEST METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
模擬配線パターンとこれを用いた半導体素子の評価試験方法 - 特許庁
INK FOR ETCHING RESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
エッチングレジスト用インクおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PAPER PATTERN FOR LAYING MEMBER AND LAYING METHOD FOR LAYING MEMBER BY USE THE SAME例文帳に追加
敷設部材用型紙及びこれを用いた敷設部材の敷設方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
MOVING VIDEO ENCODING DEVICE USING SAME PATTERN INFORMATION AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
同一模様情報を用いる動映像符号化装置及びその方法 - 特許庁
METALLIC DIE FOR INJECTION MOLDING, AND METHOD FOR MANUFACTURING WAX PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
射出成形金型とそれを使用したワックス模型の製造方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを用いたレリーフパターンの製造法 - 特許庁
PICTURE PATTERN-PRINTED COATING FILM AND PAINT COMPOSITION FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
絵柄印刷塗膜及び絵柄印刷塗膜形成用塗料組成物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
SAMPLE CHAMBER FOR GAS EXHAUSTION AND CIRCUIT PATTERN FORMING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
気体排気用試料室及びそれを用いた回路パターン形成装置 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
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