「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

下層膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

DOUP WEAVE HAVING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

立体感のある柄模様を有するカラミ織物及びその製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性ポリイミド用現像液およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

LETTERPRESS FOR PATTERN FORMATION AND ORGANIC EL ELEMENT MANUFACTURED USING SAME例文帳に追加

パターン形成用凸版及びそれを用いて製造した有機ＥＬ素子 - 特許庁

CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

LIQUID IMMERSION SOLUTION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用液浸液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PAPER PATTERN FOR LAYING MEMBER AND LAYING METHOD FOR LAYING MEMBER BY USE THE SAME例文帳に追加

敷設部材用型紙及びこれを用いた敷設部材の敷設方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法およびそれを用いた回路材料の製造方法 - 特許庁

STRIPE-SHAPED COLOR PATTERN MOUNTING MATERIAL AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

縞状色模様表装材とその製造方法及び製造装置 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ARTIFICIAL LEATHER WITH BRAND-FASHIONED STAMP PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

焼印風刻印模様を有する人工皮革及びその製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

SAMPLE CHAMBER FOR GAS EXHAUSTION AND CIRCUIT PATTERN FORMING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

気体排気用試料室及びそれを用いた回路パターン形成装置 - 特許庁

SIMULATED WIRING PATTERN AND EVALUATION TEST METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

模擬配線パターンとこれを用いた半導体素子の評価試験方法 - 特許庁

FORMING METHOD FOR WIRING PATTERN AND WIRING BOARD FORMED WITH THE SAME例文帳に追加

配線パターンの形成方法とそれにより形成された配線基板 - 特許庁

operator is like the same operator in C. If the first pattern is true 例文帳に追加

演算子は C 言語のものと同様です。 もし、最初のパターンが真なら、 - JM

MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD AND PATTERN LAYOUT METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

多層プリント配線板および多層プリント配線板のパターンレイアウト方法 - 特許庁

PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAME例文帳に追加

フォトマスク及びそれを用いた半導体素子の配線パターン形成方法 - 特許庁

The pattern of marker lights (the headcode of marker lights) for the express is the same as that of Kintetsu Railways. 例文帳に追加

急行の点灯パターンは近畿日本鉄道と同じである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

SILICON-CONTAINING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ケイ素含有レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びそれを用いた表示装置の製造方法 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION USED IN THE SAME AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、これに用いられる組成物及びレジスト膜 - 特許庁

MESH PATTERN-ADDED HEAT SEAL PAPER FOR FILTERING LIQUID AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

メッシュパターン付き液体ろ過用ヒートシール紙およびその製造方法 - 特許庁

CRYSTALLIZATION PATTERN AND METHOD OF CRYSTALLIZING AMORPHOUS SILICON USING THE SAME例文帳に追加

結晶化パターンおよびこれを用いた非晶質シリコンの結晶化方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを利用したパターンの形成方法 - 特許庁

NONWOVEN STRUCTURE WITH EMBOSSED PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

凹凸模様が付与されてなる不織構造体およびその製造方法 - 特許庁

LAMINATED MATERIAL WITH PHOSPHORESCENT OR FLUORESCENT PATTERN AND WALL FLOOR MATERIAL WITH THE SAME例文帳に追加

蓄光性又は蛍光性模様を施した積層材及び壁床材 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN OF ORGANIC MATERIAL AND DISPLAY APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

有機材料のパターン形成方法及びそれを用いた表示装置 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME METHOD例文帳に追加

パターン形成方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

MOVING VIDEO ENCODING DEVICE USING SAME PATTERN INFORMATION AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

同一模様情報を用いる動映像符号化装置及びその方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PATTERN AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁