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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
CIRCUIT PATTERN LAYOUT METHOD AND REGISTER CIRCUIT USING THE SAME例文帳に追加
回路パターンの配置方法及び本配置方法を適用したレジスタ回路 - 特許庁
DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄剤及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
The pattern P2 is formed on the same layer as a gate electrode G and the pattern P3 is formed on the same layer as an element separation area ST1.例文帳に追加
さらに、パターンP2は、ゲート電極Gと同層で形成されており、パターンP3は素子分離領域STIと同層で形成される。 - 特許庁
LETTERPRESS FOR PATTERN FORMATION AND ORGANIC EL ELEMENT MANUFACTURED USING SAME例文帳に追加
パターン形成用凸版及びそれを用いて製造した有機EL素子 - 特許庁
SUEDE-LIKE ARTIFICIAL LEATHER HAVING UNEVEN PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
凹凸柄を有するスエード調人工皮革及びその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SELF-ALIGNED PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
自己整合パターンの製造方法およびそれを用いた半導体装置 - 特許庁
CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
SIMULATED WIRING PATTERN AND EVALUATION TEST METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
模擬配線パターンとこれを用いた半導体素子の評価試験方法 - 特許庁
CRIMPING STRUCTURE OF CRIMPING MACHINE FOR MASK PATTERN FILM AND CRIMPING METHOD OF THE SAME例文帳に追加
マスクパターンフィルム圧着機の圧着構造及びその圧着方法 - 特許庁
COATING SINTERING AUXILIARY MATERIAL AND METHOD FOR FORMING ELECTRODE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
被覆焼結助材及びそれを用いた電極パターン形成方法 - 特許庁
FORMING METHOD FOR WIRING PATTERN AND WIRING BOARD FORMED WITH THE SAME例文帳に追加
配線パターンの形成方法とそれにより形成された配線基板 - 特許庁
PAPER PATTERN FOR LAYING MEMBER AND LAYING METHOD FOR LAYING MEMBER BY USE THE SAME例文帳に追加
敷設部材用型紙及びこれを用いた敷設部材の敷設方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
DOUP WEAVE HAVING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
立体感のある柄模様を有するカラミ織物及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物の製造方法、及びそれを用いたレリーフパターン - 特許庁
MULTILEVEL GRADATION PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
ELECTRODE PATTERN FORMING METHOD AND OFFSET PRESS USING THE SAME例文帳に追加
電極パターンの形成方法及びその方法に用いるオフセット印刷機 - 特許庁
INK FOR ETCHING RESIST AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
エッチングレジスト用インクおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁
LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
レーザー分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁
ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD AND SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
反射防止膜材料、及びこれを用いたパターン形成方法、基板 - 特許庁
SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND PATTERN DIMENSION MEASUREMENT METHOD USING THE SAME例文帳に追加
走査型電子顕微鏡及びこれを用いたパターン寸法計測方法 - 特許庁
TOPCOAT COMPOSITION FOR RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト膜用トップコート組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR USE IN LASER DECOMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
レーザー分解用組成物およびそれを用いたパターン形成材料 - 特許庁
FIGURE PATTERN PARTITIONING METHOD, AND LITHOGRAPHY APPARATUS AND PHOTOMASK USING SAME例文帳に追加
図形パターン分割方法及びその方法を用いた描画装置、フォトマスク - 特許庁
PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAME例文帳に追加
フォトマスク及びそれを用いた半導体素子の配線パターン形成方法 - 特許庁
SILOXANE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
シロキサン化合物、これを含むフォトレジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁
MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD AND PATTERN LAYOUT METHOD FOR THE SAME例文帳に追加
多層プリント配線板および多層プリント配線板のパターンレイアウト方法 - 特許庁
NANO/MICROFIBER NONWOVEN FABRIC HAVING MICRO PATTERN STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
マイクロパターン構造を持つナノ・マイクロファイバー不織布とその製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
フォトマスク及びこれを用いた半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁
EATABLE PATTERN-PRINTED SHEET AND MICROWAVE OVEN- PROCESSABLE FOOD USING THE SAME例文帳に追加
可食性図柄印刷シートと同シートを用いた電子レンジ加工食品 - 特許庁
MULTI-COLOR PATTERN COATING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PIGMENT DISPERSION例文帳に追加
多彩模様塗料及びその製造方法並びに顔料分散液 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
BELT WITH SCALE PATTERN, CONVEYING DEVICE USING THE SAME AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加
スケールパターン付きベルト、これを用いた搬送装置及び画像形成装置 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを用いたレリーフパターンの製造法 - 特許庁
PICTURE PATTERN-PRINTED COATING FILM AND PAINT COMPOSITION FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
絵柄印刷塗膜及び絵柄印刷塗膜形成用塗料組成物 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
STRIPE-SHAPED COLOR PATTERN MOUNTING MATERIAL AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
縞状色模様表装材とその製造方法及び製造装置 - 特許庁
ARTIFICIAL LEATHER WITH BRAND-FASHIONED STAMP PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
焼印風刻印模様を有する人工皮革及びその製造方法 - 特許庁
LIQUID IMMERSION SOLUTION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用液浸液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびそれを用いた回路材料の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを利用したパターンの形成方法 - 特許庁
NONWOVEN STRUCTURE WITH EMBOSSED PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様が付与されてなる不織構造体およびその製造方法 - 特許庁
LAMINATED MATERIAL WITH PHOSPHORESCENT OR FLUORESCENT PATTERN AND WALL FLOOR MATERIAL WITH THE SAME例文帳に追加
蓄光性又は蛍光性模様を施した積層材及び壁床材 - 特許庁
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