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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
PHOTOMASK FOR NEGATIVE EXPOSURE AND PHOTOCURING TYPE PATTERN PRODUCED USING THE SAME例文帳に追加
ネガ露光用フォトマスク及びこれを用いて製造される光硬化型パターン - 特許庁
THIN FILM PATTERN OF Eu-DOPED YTTRIUM OXIDE NANOPARTICLE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME例文帳に追加
Euドープ酸化イットリウムナノ粒子薄膜パターン及びその作成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
INTERFERENCE PATTERN PREVENTING TRANSFER FOIL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND TRANSFER MATERIAL例文帳に追加
干渉模様防止転写箔、及びその製造方法、並びに転写体 - 特許庁
NEGATIVE TYPE ENERGY BEAM SENSITIVE PASTE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型感エネルギー線性ペースト及びそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN EVALUATION METHOD, EVALUATION MARK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
パターン評価方法、評価マーク、それを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
PRINTING PATTERN FORMING MATERIAL, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加
印刷パターン形成材およびそれを用いた電子部品の製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE-TONE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
INK ACCEPTABLE BASE MATERIAL, AND METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
インク受容基材及びそれを用いた導電性パターンの作製方法 - 特許庁
PHOTOCURABLE TRANSFER SHEET, AND METHOD OF FORMING IMPRINT PATTERN USING SAME例文帳に追加
光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD, DETECTING ELEMENT USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
パターン形成方法およびそれを用いた検知素子およびその製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いたアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁
ELECTRICALLY CONDUCTIVE BASE MATERIAL FOR PLATING, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING CONDUCTOR LAYER PATTERN-FITTED BASE MATERIAL, CONDUCTOR LAYER PATTERN-FITTED BASE MATERIAL AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER USING THE SAME例文帳に追加
めっき用導電性基材、その製造法、導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材及びそれを用いた電磁波遮蔽部材 - 特許庁
ALGORITHM PATTERN GENERATOR FOR MEMORY ELEMENT TEST, AND MEMORY TESTER USING SAME例文帳に追加
メモリ素子テストのためのアルゴリズムパターン生成器及びこれを用いたメモリテスタ - 特許庁
POSITIVE THERMOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加
ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE WITH EVALUATION PATTERN DISPOSED THEREON, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
評価パターンを配置した液晶表示装置およびその製造方法 - 特許庁
DIFFERENT COLOR COMBINED CRIMPED FILAMENT YARN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND MULTICOLORED PATTERN CARPET例文帳に追加
異色混繊捲縮糸およびその製造方法ならびに多色柄カーペット - 特許庁
PATTERN PARTIALLY HAVING LOST FOAM, AND CASTING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
一部に消失模型を有する模型およびそれを用いる鋳造方法 - 特許庁
PHOTOCURABLE TRANSFER SHEET, AND METHOD OF FORMING AN UNEVEN PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法 - 特許庁
ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE HAVING LIGHT-EMITTING PATTERN, AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
発光パターンを有する有機発光素子、その製造方法および装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, PATTERN FORMING METHOD AND MASK USED FOR THE SAME例文帳に追加
電子装置の製造方法、パターン形成方法、及びそれに用いるマスク - 特許庁
SOLVENT FOR REMOVING PROTECTIVE FILM, AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
保護膜除去用溶剤およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
近接場露光用マスク及び該マスクを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE TYPE DEVELOPMENT, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PATTERN LAYOUT, APPARATUS THEREFOR AND RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM FOR THE SAME RECORDED THEREON例文帳に追加
パターンレイアウト方法、その装置およびパターンレイアウトプログラムを記憶した媒体 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、パターン製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE ELECTRICALLY CONDUCTIVE PASTE AND ELECTRIC CONDUCTOR PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加
感光性導電ペースト及びそれを用いて形成した導電体パターン - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR SOLID IMAGE-CAPTURING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびこれを用いた固体撮像素子の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND BAKED MATERIAL PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加
感光性ペースト組成物及びそれを用いて形成された焼成物パターン - 特許庁
METHOD FOR PATTERN-DYEING YARN LIKE MATERIAL AND CONJUGATED YARN LIKE MATERIAL USED FOR THE SAME例文帳に追加
糸状物の模様染め方法、およびそれに用いる複合糸状物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE CONDUCTIVE PASTE AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性導電ペーストおよびこれを用いた電極パターンの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING LCD DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 - 特許庁
To realize a plurality of pattern recognition processings by using the same hardware element.例文帳に追加
複数のパターン認識処理を同じハードウェア要素を用いて実現する。 - 特許庁
EXPOSURE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF FORMING TRANSFER PATTERN例文帳に追加
露光マスクおよびその製造方法、ならびに転写パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターン形成方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SURFACE MODIFIER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加
レジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅型ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a test pattern for measuring line contact resistance and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
ラインコンタクト抵抗測定用テストパターン及びその製造方法の提供。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いた微細パターンの製造方法 - 特許庁
SPOT PATTERN MOLDING, COLORED RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
斑点模様成形品及び着色樹脂組成物とその製造方法 - 特許庁
CURABLE RESIN COMPOSITION FOR PRINTING AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
印刷用硬化性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING ORGANIC MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
有機マスクの形成方法及び該有機マスクを利用したパターン形成方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR CONTINUOUSLY TRANSFERRING PHOTOMASK PATTERN TO LONG-SIZED BLANK AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加
長尺素材上へのフォトマスクパターンの連続転写方法及び装置 - 特許庁
BLACK MATRIX COMPOSITION AND METHOD OF FORMING BLACK MATRIX PATTERN USING SAME例文帳に追加
ブラックマトリクス用組成物及びこれを用いたブラックマトリクスパターンの形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR COATING FILM FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
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