「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To realize a plurality of pattern recognition processings by using the same hardware element.例文帳に追加

複数のパターン認識処理を同じハードウェア要素を用いて実現する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING LCD DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD, DETECTING ELEMENT USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

パターン形成方法およびそれを用いた検知素子およびその製造方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE TRANSFER SHEET, AND METHOD OF FORMING IMPRINT PATTERN USING SAME例文帳に追加

光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びそれを用いたアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁

INK ACCEPTABLE BASE MATERIAL, AND METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

インク受容基材及びそれを用いた導電性パターンの作製方法 - 特許庁

SOLVENT FOR REMOVING PROTECTIVE FILM, AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

保護膜除去用溶剤およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE HAVING LIGHT-EMITTING PATTERN, AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

発光パターンを有する有機発光素子、その製造方法および装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, PATTERN FORMING METHOD AND MASK USED FOR THE SAME例文帳に追加

電子装置の製造方法、パターン形成方法、及びそれに用いるマスク - 特許庁

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE WITH EVALUATION PATTERN DISPOSED THEREON, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

評価パターンを配置した液晶表示装置およびその製造方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE TRANSFER SHEET, AND METHOD OF FORMING AN UNEVEN PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

LAYERED PRODUCT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PATTERN FORMATION DEVICE, AND TRANSFERRING APPARATUS例文帳に追加

積層品及びその製造方法、パターン形成装置並びに転写装置 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD AND THREE-DIMENSIONAL MOLD USING THE SAME例文帳に追加

膜形成組成物、これを用いたパターン形成方法及び三次元モールド - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION FOR CALCINATION AND CALCINED PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

焼成用感光性ペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン - 特許庁

INTERFERENCE PATTERN PREVENTING TRANSFER FOIL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND TRANSFER MATERIAL例文帳に追加

干渉模様防止転写箔、及びその製造方法、並びに転写体 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, EVALUATION MARK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

パターン評価方法、評価マーク、それを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE ENERGY BEAM SENSITIVE PASTE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型感エネルギー線性ペースト及びそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁

PRINTING APPARATUS, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME例文帳に追加

印刷装置及びこれを用いた液晶表示素子のパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

ELECTRICALLY CONDUCTIVE BASE MATERIAL FOR PLATING, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING CONDUCTOR LAYER PATTERN-FITTED BASE MATERIAL, CONDUCTOR LAYER PATTERN-FITTED BASE MATERIAL AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

めっき用導電性基材、その製造法、導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材及びそれを用いた電磁波遮蔽部材 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN SIMULATION METHOD, ITS APPARATUS, ITS PROGRAM, AND MEDIUM RECORDING THE SAME例文帳に追加

パターンシミュレーション方法、その装置、そのプログラムおよびこれを記録した媒体 - 特許庁

OFFSET PRINTING BLANKET AND PRINTING METHOD FOR ELECTRODE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

オフセット印刷用ブランケットおよびそれを用いた電極パターンの印刷方法 - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING PHOTOMASK PATTERN, VERIFICATION APPARATUS AND CORRECTION METHOD USING SAME例文帳に追加

フォトマスクパターン検証方法、検証装置およびこれを用いた補正方法 - 特許庁

METAL TONER FOR FORMATION OF CONDUCTIVE PATTERN, CARRIER, AND DEVELOPER COMPRISING THE SAME例文帳に追加

導体パターン形成用金属トナー、キャリアおよびこれらからなる現像剤 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD USING SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOMASK FOR NEGATIVE EXPOSURE AND PHOTOCURING TYPE PATTERN PRODUCED USING THE SAME例文帳に追加

ネガ露光用フォトマスク及びこれを用いて製造される光硬化型パターン - 特許庁

THIN FILM PATTERN OF Eu-DOPED YTTRIUM OXIDE NANOPARTICLE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME例文帳に追加

Ｅｕドープ酸化イットリウムナノ粒子薄膜パターン及びその作成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR LASER DECOMPOSITION, AND PATTERN-FORMING MATERIAL BY USING THE SAME例文帳に追加

レーザー分解用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁

ETCHANT FOR THIN SILVER ALLOY FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

銀合金薄膜用エッチング液およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

TUBE HAVING GEOMETRIC FOLDING PATTERN ON SURFACE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

幾何学的な折り目模様を表面に有する管及びその製造方法 - 特許庁

MULTILAYER RESIST TYPE PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

多層レジスト型感光材料及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターン形成方法 - 特許庁

SURFACE MODIFIER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加

レジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR COATING FILM FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a test pattern for measuring line contact resistance and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ラインコンタクト抵抗測定用テストパターン及びその製造方法の提供。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CONTINUOUSLY TRANSFERRING PHOTOMASK PATTERN TO LONG-SIZED BLANK AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加

長尺素材上へのフォトマスクパターンの連続転写方法及び装置 - 特許庁

SPOT PATTERN MOLDING, COLORED RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

斑点模様成形品及び着色樹脂組成物とその製造方法 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION FOR PRINTING AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

印刷用硬化性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ORGANIC MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

有機マスクの形成方法及び該有機マスクを利用したパターン形成方法 - 特許庁

BLACK MATRIX COMPOSITION AND METHOD OF FORMING BLACK MATRIX PATTERN USING SAME例文帳に追加

ブラックマトリクス用組成物及びこれを用いたブラックマトリクスパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いた微細パターンの製造方法 - 特許庁