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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
SKIN MATERIAL FOR SEAT OF VEHICLE HAVING UNEVEN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様を有する車輌の座席用表皮材及びその製造方法。 - 特許庁
DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いたパターン製造法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING THE SAME例文帳に追加
マスクパターン設計方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN OBTAINED USING THE SAME AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
導電性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン及びその製造方法 - 特許庁
MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加
メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁
APPARATUS FOR PROJECTING PATTERN ON SUBSTRATE FROM EUV MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加
パターンをEUVマスクから基板に投影するための装置およびその方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターンの形成方法およびそれを用いたパターン化基板の製造方法 - 特許庁
INK FOR INK JET, PATTERN-FORMING SOLUTION AND PRINTED MATTER OBTAINED BY USING SAME例文帳に追加
インクジェット用インク、パターン形成液およびこれらを用いて得られた印刷物 - 特許庁
DESIGN SHEET HAVING METALLIC-LUSTER-FINISHED WINDOW FRAME PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
金属光沢調窓枠柄を有する意匠シートおよびその製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM AND NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁
RESIN FOR RESIST, AND CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE RESIST, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR EUV EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
EUV露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING MINIATURIZED PATTERN AND RESIST SUBSTRATE PROCESSING LIQUID USED FOR THE SAME例文帳に追加
微細化されたパターンの形成方法およびそれに用いるレジスト基板処理液 - 特許庁
PHOTORESIST FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
近接場露光用フォトレジスト、及びこれを用いた微細パターンの作製方法 - 特許庁
CLEANING LIQUID AND METHOD FOR FORMING METALLIC PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
洗浄液及びこれを用いた半導体素子の金属パターンの形成方法 - 特許庁
RESIST UPPER LAYER FILM FORMING MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト上層膜形成材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
TEG PATTERN AND RELIABILITY EVALUATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
TEGパターンおよびそれを用いた半導体装置の信頼性評価方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターン形成方法およびそれを使用して製造される半導体装置 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
CONDUCTIVE INK FOR OFFSET PRINTING, AND CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
オフセット印刷用導電性インクおよびそれを用いた回路パターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR TOP FACE ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
上面反射防止膜用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TATAMI MAT AND STRAW MAT USED AS SURFACE OF TATAMI MAT PRINTED WITH PATTERN AND DESIGN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
絵柄図柄を印刷した畳および畳表、ならびにその製法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND PROCESS FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加
感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターンの形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
LIQUID FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST-PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
多層レジスト用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
STAINLESS STEEL ROLL SHEET FOR DECORATION HAVING EMBOSS PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
エンボスパターンを有する装飾用ステンレス鋼ロールシートおよびその製造方法 - 特許庁
PLATE FOR ELECTRODEPOSITION METAL PATTERN TRANSFER AND WIRING BOARD FABRICATED BY USING THE SAME例文帳に追加
電着金属パターン転写用版およびこれを使用して作製した配線板 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加
感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
TOP LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
上層膜形成組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMAGING ELEMENT HAVING MICRO LENS PROTECTION PATTERN, CAMERA MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加
マイクロレンズ保護パターンを有する撮像素子、カメラモジュール、及びその製造方法 - 特許庁
SULFONIUM SLAT, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RADIATION-CURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加
感放射線硬化型樹脂組成物およびこれを利用したパターン形成方法 - 特許庁
The same process is repeated to a test pattern set of merged test patterns.例文帳に追加
テストパタンの併合されたテストパタンセットに対しても、同様の処理を繰り返す。 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加
ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁
POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
FABRICATION METHOD OF LIQUID CRYSTAL PANEL AND SEAL PATTERN FORMING DEVICE TO BE USED FOR SAME例文帳に追加
液晶パネルの製造方法及びこれに使用されるシールパターン形成装置 - 特許庁
To enable usage of a pattern of the wiring layer of the same design for variety of specifications.例文帳に追加
多様な仕様に対して同一設計の配線層のパターンを使用する。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
高分子化合物並びにレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TRANSFER MEMBER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, ELECTRONIC PARTS AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
転写部材及びその製造方法及び電子部品及びパターン形成方法 - 特許庁
RESIST MATERIAL, CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト用材料、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURED USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法および装置並びにそれを用いて製造した電子デバイス - 特許庁
METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, WIRING CIRCUIT BOARD, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
導電性パターンの形成方法、配線板の製造方法及び配線板 - 特許庁
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