| 例文 |
same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR EUV EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
EUV露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
FIGURED YUKATA WITH LARGE PATTERN AT BACK BODY PART, AND METHOD FOR MAKING THE SAME例文帳に追加
後身頃に大柄模様をあしらった絵羽ゆかた及びその製造方法 - 特許庁
APPARATUS FOR PROJECTING PATTERN ON SUBSTRATE FROM EUV MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加
パターンをEUVマスクから基板に投影するための装置およびその方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターンの形成方法およびそれを用いたパターン化基板の製造方法 - 特許庁
INK FOR INK JET, PATTERN-FORMING SOLUTION AND PRINTED MATTER OBTAINED BY USING SAME例文帳に追加
インクジェット用インク、パターン形成液およびこれらを用いて得られた印刷物 - 特許庁
MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加
メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁
DESIGN SHEET HAVING METALLIC-LUSTER-FINISHED WINDOW FRAME PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
金属光沢調窓枠柄を有する意匠シートおよびその製造方法 - 特許庁
RESIN FOR RESIST, AND CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE RESIST, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING THE SAME例文帳に追加
マスクパターン設計方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN OBTAINED USING THE SAME AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
導電性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン及びその製造方法 - 特許庁
RADIATION-CURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加
感放射線硬化型樹脂組成物およびこれを利用したパターン形成方法 - 特許庁
The same process is repeated to a test pattern set of merged test patterns.例文帳に追加
テストパタンの併合されたテストパタンセットに対しても、同様の処理を繰り返す。 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
高分子化合物並びにレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TRANSFER MEMBER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, ELECTRONIC PARTS AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
転写部材及びその製造方法及び電子部品及びパターン形成方法 - 特許庁
FABRICATION METHOD OF LIQUID CRYSTAL PANEL AND SEAL PATTERN FORMING DEVICE TO BE USED FOR SAME例文帳に追加
液晶パネルの製造方法及びこれに使用されるシールパターン形成装置 - 特許庁
To enable usage of a pattern of the wiring layer of the same design for variety of specifications.例文帳に追加
多様な仕様に対して同一設計の配線層のパターンを使用する。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM AND NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁
DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いたパターン製造法 - 特許庁
PHOTORESIST FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
近接場露光用フォトレジスト、及びこれを用いた微細パターンの作製方法 - 特許庁
RESIST UPPER LAYER FILM FORMING MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト上層膜形成材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
CLEANING LIQUID AND METHOD FOR FORMING METALLIC PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
洗浄液及びこれを用いた半導体素子の金属パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING MINIATURIZED PATTERN AND RESIST SUBSTRATE PROCESSING LIQUID USED FOR THE SAME例文帳に追加
微細化されたパターンの形成方法およびそれに用いるレジスト基板処理液 - 特許庁
TEG PATTERN AND RELIABILITY EVALUATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
TEGパターンおよびそれを用いた半導体装置の信頼性評価方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターン形成方法およびそれを使用して製造される半導体装置 - 特許庁
PLATE FOR ELECTRODEPOSITION METAL PATTERN TRANSFER AND WIRING BOARD FABRICATED BY USING THE SAME例文帳に追加
電着金属パターン転写用版およびこれを使用して作製した配線板 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加
感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
CONDUCTIVE INK FOR OFFSET PRINTING, AND CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
オフセット印刷用導電性インクおよびそれを用いた回路パターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PANEL WITH FIRED BODY PATTERN FORMED USING SAME例文帳に追加
感光性ペースト組成物及びそれを用いて焼成物パターンを形成したパネル - 特許庁
INSPECTION METHOD OF PATTERN FORMED ON SUBSTRATE, AND INSPECTION APPARATUS FOR IMPLEMENTING SAME例文帳に追加
基板に形成されたパターンの検査方法、及びこれを行うための検査装置 - 特許庁
POSITIONING PATTERN PAPER AND METHOD FOR ATTACHING INSTALLATION AND FIXATION TOOL USING THE SAME例文帳に追加
位置決め用型紙およびそれを用いた設置固定用治具の取り付け方法 - 特許庁
LIQUID FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD OF FORMING RESIST-PATTERN USING SAME例文帳に追加
液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
NANO CARBON MATERIAL COMPLEX PASTE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
ナノ炭素材料複合体ペーストおよびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型感光性樹脂のパターン形成法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST MATERIAL, CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト用材料、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加
ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁
POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMAGE PATTERN MATCHING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM OF THE SAME例文帳に追加
画像パターンマッチング装置、画像パターンマッチング方法および画像パターンマッチング用プログラム - 特許庁
SYNTHETIC RESIN VESSEL WITH CRACK PATTERN ON OUTER SURFACE OF VESSEL BODY, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ひび割れ模様を有する合成樹脂製容器及びその製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF PATTERN FORMATION WITH THE SAME例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
MASK FORMING METHOD, MATERIAL FOR MASK, AND PATTERN FILM FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加
マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR DIPPING EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING REFLECTION PREVENTION FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
OPTICAL FILM WITH RUGGED PATTERN AND PLANAR LIGHT SOURCE ELEMENT MEMBER USING THE SAME例文帳に追加
凹凸パターンを備えた光学フィルムおよびそれを用いた面光源素子部材 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|