「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM AND NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND PROCESS FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターンの形成方法 - 特許庁

LIQUID FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST-PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURED USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法および装置並びにそれを用いて製造した電子デバイス - 特許庁

METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, WIRING CIRCUIT BOARD, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

導電性パターンの形成方法、配線板の製造方法及び配線板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PANEL HAVING PATTERN CALCINED BY USING SAME例文帳に追加

感光性ペースト組成物及びそれを用いて焼成物パターンを形成したパネル - 特許庁

DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いたパターン製造法 - 特許庁

PHOTORESIST FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

近接場露光用フォトレジスト、及びこれを用いた微細パターンの作製方法 - 特許庁

RESIST UPPER LAYER FILM FORMING MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト上層膜形成材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

CLEANING LIQUID AND METHOD FOR FORMING METALLIC PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

洗浄液及びこれを用いた半導体素子の金属パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING MINIATURIZED PATTERN AND RESIST SUBSTRATE PROCESSING LIQUID USED FOR THE SAME例文帳に追加

微細化されたパターンの形成方法およびそれに用いるレジスト基板処理液 - 特許庁

TEG PATTERN AND RELIABILITY EVALUATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

ＴＥＧパターンおよびそれを用いた半導体装置の信頼性評価方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING REFLECTION PREVENTION FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, MATERIAL FOR MASK, AND PATTERN FILM FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR DIPPING EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

OPTICAL FILM WITH RUGGED PATTERN AND PLANAR LIGHT SOURCE ELEMENT MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

凹凸パターンを備えた光学フィルムおよびそれを用いた面光源素子部材 - 特許庁

COMPOSITION FOR TOP FACE ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

上面反射防止膜用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

TATAMI MAT AND STRAW MAT USED AS SURFACE OF TATAMI MAT PRINTED WITH PATTERN AND DESIGN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

絵柄図柄を印刷した畳および畳表、ならびにその製法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY USING THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成方法およびそれを使用して製造される半導体装置 - 特許庁

CONDUCTIVE INK FOR OFFSET PRINTING, AND CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

オフセット印刷用導電性インクおよびそれを用いた回路パターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK STRUCTURE AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

マスク構造物の形成方法及びこれを利用した微細パターン形成方法 - 特許庁

CONCRETE DECORATIVE FORM AND IRREGULAR-PATTERN FORMING METHOD FOR CONCRETE SURFACE USING THE SAME例文帳に追加

コンクリート化粧型枠とそれを用いたコンクリート面の凹凸模様形成方法 - 特許庁

ELECTRONIC APPARATUS WITH CASE EMBEDDED WITH TRANSMISSION LINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法 - 特許庁

LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

FABRICATION METHOD OF LIQUID CRYSTAL PANEL AND SEAL PATTERN FORMING DEVICE TO BE USED FOR SAME例文帳に追加

液晶パネルの製造方法及びこれに使用されるシールパターン形成装置 - 特許庁

To enable usage of a pattern of the wiring layer of the same design for variety of specifications.例文帳に追加

多様な仕様に対して同一設計の配線層のパターンを使用する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

IMAGE PATTERN MATCHING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM OF THE SAME例文帳に追加

画像パターンマッチング装置、画像パターンマッチング方法および画像パターンマッチング用プログラム - 特許庁

RESIST MATERIAL, CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト用材料、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SYNTHETIC RESIN VESSEL WITH CRACK PATTERN ON OUTER SURFACE OF VESSEL BODY, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ひび割れ模様を有する合成樹脂製容器及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PANEL WITH FIRED BODY PATTERN FORMED USING SAME例文帳に追加

感光性ペースト組成物及びそれを用いて焼成物パターンを形成したパネル - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF PATTERN FORMED ON SUBSTRATE, AND INSPECTION APPARATUS FOR IMPLEMENTING SAME例文帳に追加

基板に形成されたパターンの検査方法、及びこれを行うための検査装置 - 特許庁

RESIST PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型感光性樹脂のパターン形成法 - 特許庁

POSITIONING PATTERN PAPER AND METHOD FOR ATTACHING INSTALLATION AND FIXATION TOOL USING THE SAME例文帳に追加

位置決め用型紙およびそれを用いた設置固定用治具の取り付け方法 - 特許庁

LIQUID FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD OF FORMING RESIST-PATTERN USING SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

NANO CARBON MATERIAL COMPLEX PASTE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ナノ炭素材料複合体ペーストおよびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

レジスト保護膜形成用材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-CURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加

感放射線硬化型樹脂組成物およびこれを利用したパターン形成方法 - 特許庁