「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

As the figure pattern is variably displayed in the left row in descending order, the general control CPU can inevitably grasp whether the ready-to-win figure pattern after the increase includes the same figure pattern as the subject figure pattern when which figure pattern is decided as the ready-to-win figure pattern before the increase.例文帳に追加

左列では、降順で図柄が変動表示されるため、統括制御用ＣＰＵは、どの図柄を増加前リーチ図柄として決定すると、増加後リーチ図柄の中に課題図柄と同一の図柄を含んでしまうかということを必然的に把握することができる。 - 特許庁

In respective production methods, the mat varnish is applied synchronously with the pattern from above it with the glass varnish applied on the whole surface, the form plate for applying the mat varnish and one of the formes of the pattern are the form plate of the same pattern, and the printing pattern is a grain pattern and applied on the conduit part of the pattern.例文帳に追加

さらに全面にグロスニスが施された上から絵柄と同調してマットニスを施す、マットニスを施すための版と絵柄の印刷版の一つが同じ絵柄の版である、印刷絵柄が木目柄でマットニスが絵柄の導管部分の上に施されている、それぞれの製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of obtaining high sensitivity and a satisfactory resist pattern shape, superior in insulation reliability, and capable forming a high-definition pattern, and to provide a pattern forming method employing the same and a printed board on which a permanent pattern is formed by the pattern forming method.例文帳に追加

感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、絶縁信頼性に優れ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

After a pattern adjusting layer 1 is partly formed on a base material B, a pattern layer 2 through which the pattern adjusting layer can be seen and with the same pattern over a formed region Pa and an unformed region Pb of the pattern adjusting layer is formed on the forming region Pa and the unformed region Pb of the pattern adjusting layer.例文帳に追加

基材Ｂ上に、部分的に絵柄調整層１を形成した後に、絵柄調整層の形成領域Ｐａ及び未形成領域Ｐｂの上に、絵柄調整層が透視可能で形成領域及び未形成領域上にわたって同一柄の絵柄層２を形成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント、感光性エレメントの製造法、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

COPOLYMER, COMPOSITION FOR BUFFER MEMBRANE, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING CAPACITOR BY USING THE SAME例文帳に追加

共重合体、バッファ膜用組成物、それを用いたパターン形成方法及びそれを用いたキャパシタの製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING RESIN, RESIN USING THE SAME, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED FOR THE SAME例文帳に追加

樹脂の製造方法、それを用いた樹脂、ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法、それに用いられる化合物 - 特許庁

To provide a cooking tool, producing the same pattern in slicing food material with consideration of both tastes and decoration at the same time.例文帳に追加

食材料の味の融合と装飾を同時に施しスライスしても同じ模様ができる味革メーカーを提供する。 - 特許庁

The positioning speed is set in the same or almost the same as a high speed D, and the pattern can be positioned in a short time.例文帳に追加

なお、位置合わせ速度は高速Ｄと同一または略同一とされ、短時間で位置合わせが可能である。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE USING THE SAME AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMERIZABLE COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POLYMERIC COMPOUND OBTAINED FROM THE SAME, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素重合性化合物、その製造方法、この化合物から得られる高分子化合物、レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.例文帳に追加

マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁

When the same pattern can not be detected, a pattern most close to the pattern constituting the focused area is detected from plural patterns stored in the area pattern table part (S28, S32) and a code corresponding to the detected pattern is read out (S33).例文帳に追加

同一のパターンを検出できない場合、合焦エリアが構成するパターンに最も近いパターンを、エリアパターンテーブル部に格納された複数のパターンの中から検出し（Ｓ２８，Ｓ３２）、該検出されたパターンに対応するコードを読み出す（Ｓ３３）。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

BOWL-LIKE DISH WITH PATTERN LAYER BY HEAT-SHRINKABLE FILM AND PRODUCTION METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

熱収縮性フィルムによる模様層を設けた碗状食器およびその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE MADE BY USING THE SAME AND METHOD OF FORMING NEGATIVE-TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

HIGH POLYMER AND POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The strip conductor 22 is formed by extending a strip conductor 12 at the same pattern width.例文帳に追加

ストリップ導体２２は、ストリップ導体１２を同一パターン幅で延設されたものである。 - 特許庁

The SiH_4 base silicon oxide film 30 is etched into the same pattern as that of the metal wiring 20.例文帳に追加

SiH_４系シリコン酸化膜３０を金属配線２０と同じ形状にパターニングする。 - 特許庁

VISIBLE LIGHT SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法および該パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

HIGH MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SOLUTION MATERIAL FOR UNDERLAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

下層膜溶液材料及びこの下層膜溶液材料を用いたパターン形成方法 - 特許庁

EDDY CURRENT MAGNETIC FIELD DETECTION TYPE PATTERN FOR MEASURING FILM THICKNESS AND METHOD OF MEASURING FILM THICKNESS OF THE SAME例文帳に追加

渦電流磁界検出型の膜厚測定用パターン、及び、その膜厚測定方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD AND CERAMIC MULTILAYERED SUBSTRATE BY USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法、それを用いた回路基板及びセラミック多層基板の製造方法 - 特許庁

The light-shielding film is provided with pin holes of the same arrangement and number with the effective σ evaluating pattern.例文帳に追加

遮光膜には、実効σ評価パターンと同じ配置で、同じ数のピンホールがある。 - 特許庁

ANSWER PATTERN INSTRUCTION CHART PREPARATION DEVICE AND SELECTIVE EXAMINATION OPERATION SUPPORT SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

解答パターン指示表作成装置及びそれを用いた選抜試験運営支援システム - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁

PATTERN COMBINATION GAME MACHINE, CONTROL METHOD FOR THE SAME, AND RECORDING MEDIUM HAVING CONTROL PROGRAM RECORDED THEREON例文帳に追加

絵柄組合せ遊技機、その制御方法、及び制御プログラムが記録された記録媒体 - 特許庁

METHYLENEDIOXOLANE COMPOUND, ACTINIC RAY COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

メチレンジオキソラン化合物、それを用いた活性エネルギー線組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BAKED MATTER PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁

LOST PATTERN CASTING METHOD FOR STEEL TYPE WHICH CANNOT TRADITIONALLY BE CAST BY THE SAME例文帳に追加

消失模型鋳造法では鋳造できない鋼種を、同工法で鋳造する方法。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

TRENCH FORMATION METHOD, PATTERN OF FILLER, METHOD FOR FORMING THE SAME AND DEVICE例文帳に追加

トレンチの形成方法、充填材のパターンの形成方法、充填材のパターン及びデバイス - 特許庁

FORMING METHOD OF CONDUCTIVE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC TRANSISTOR EMPLOYING THE SAME例文帳に追加

導電性パターンの形成方法、およびそれを用いた有機トランジスタの製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

微細パターンの形成方法及びこれを用いた半導体発光素子の製造方法 - 特許庁

SILICONE RUBBER COMPOSITION AND ORIGINAL PLATE OF DIRECT PATTERN FORMING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME例文帳に追加

シリコーンゴム組成物およびこれを用いた直描型水なし平版印刷版原版 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an antenna pattern frame, a case of an electronic device and a mold for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明はアンテナパターンフレーム、電子装置のケース及びその製造金型に関する。 - 特許庁