| 例文 |
same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4755件
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE MADE BY USING THE SAME AND METHOD OF FORMING NEGATIVE-TYPE PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁
LIGHT SOURCE DEVICE, INSPECTION DEVICE USING THE SAME, INSPECTION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
光源装置及びそれを用いた検査装置、検査方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN AND COLOR FILTER FORMED USING THE SAME例文帳に追加
着色感光性樹脂組成物ならびにそれを用いて形成されたパターン及びカラーフィルタ - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE BY USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた反射型液晶表示装置の製造方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加
液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR SUBSTRATE ALIGNMENT, AND METHOD AND DEVICE FOR PATTERN INSPECTION USING THE SAME例文帳に追加
基板整列方法及び装置、これを用いた基板のパターン検査方法及び装置 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁
ELECTROOPTICAL ELEMENT, AND DEVICE AND METHOD FOR DETECTING CIRCUIT PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
電気光学素子及びそれを用いた回路パターンの検出装置および検出方法 - 特許庁
TRANSFER PRINT PATTERNING METHOD AND GLASS WITH PRINT PATTERN FORMED THEREON USING THE SAME例文帳に追加
転写式印刷パタ—ン形成方法及びこれにより印刷パタ—ンが形成されたガラス - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁
EVALUATION PATTERN OF OCCURRENCE STATUS OF HILLOCK, SUBSTRATE PROVIDED WITH THE SAME, AND EVALUATION METHOD例文帳に追加
ヒロックの発生状況の評価パターン及びそれを備えた基板、並びに評価方法 - 特許庁
PACKAGE ON PACKAGE TO PREVENT CIRCUIT PATTERN LIFT DEFECT AND METHOD OF FABRICATING THE SAME例文帳に追加
回路パターンの浮き上がり現象を抑制するパッケージオンパッケージ及びその製造方法 - 特許庁
WIRING PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME, WIRING BOARD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
配線パターンの形成方法、配線パターン、配線基板、及び電気光学装置、電子機器 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD, POLYMER AND COMPOUND OF THE SAME例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法 - 特許庁
HIGH MOLECULAR COMPOUND AND POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CONDUCTIVE PATTERN MEMBER, FORMING METHOD THEREOF, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加
導電性パターン部材、その形成方法、及び、それを備える有機EL表示装置 - 特許庁
To prevent players from getting bored with the same pattern of game images that appears each time.例文帳に追加
本発明はゲーム画像が毎回同じパターンであると飽きてしまうことを課題とする。 - 特許庁
HMM GENERATING DEVICE, LIKELIHOOD CALCULATING DEVICE USING SAME, AND TIME-SERIES PATTERN RECOGNIZING DEVICE例文帳に追加
HMM作成装置およびそれを用いた尤度計算装置、時系列パタン認識装置 - 特許庁
FORMATION MATERIAL OF ORIGINAL PLATE FOR FINE PATTERN TRANSFER, ORIGINAL PLATE FOR TRANSFER, AND METHOD FOR MAKING THE SAME例文帳に追加
微細パターン転写用原版の形成材料、転写用原版及びその作製方法 - 特許庁
FINE APERIODIC PATTERN PROJECTION DEVICE AND METHOD AND THREE-DIMENSIONAL MEASURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
微細非周期パターン投影装置および方法とそれを用いた三次元計測装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING UNIT INCLUDING THREE-DIMENSIONAL SURFACE PATTERN, AND USE OF THE SAME例文帳に追加
三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法および同方法の使用 - 特許庁
HIGH MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SOLUTION MATERIAL FOR UNDERLAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
下層膜溶液材料及びこの下層膜溶液材料を用いたパターン形成方法 - 特許庁
EDDY CURRENT MAGNETIC FIELD DETECTION TYPE PATTERN FOR MEASURING FILM THICKNESS AND METHOD OF MEASURING FILM THICKNESS OF THE SAME例文帳に追加
渦電流磁界検出型の膜厚測定用パターン、及び、その膜厚測定方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD AND CERAMIC MULTILAYERED SUBSTRATE BY USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法、それを用いた回路基板及びセラミック多層基板の製造方法 - 特許庁
INSPECTING DEVICE AND INSPECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN SUBSTRATE USING SAME INSPECTING METHOD例文帳に追加
検査装置及び検査方法とその検査方法を用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁
METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN DATA FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND METHOD FOR VERIFYING THE SAME例文帳に追加
半導体集積回路製造用マスクパターンデータ生成方法およびその検証方法 - 特許庁
FORM FOR TRANSFERRING UNEVEN PATTERN, AND MOLDING MOLDED BY USING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様転写用型枠、及びこの凹凸模様転写用型枠で成形した成形体 - 特許庁
DEVELOPING SOLUTION FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物用現像液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR ACCELERATING ALIGNMENT OF OPTICAL APPEARANCE INSPECTION APPARATUS, AND PATTERN INSPECTION APPARATUS USING SAME例文帳に追加
光学式外観検査装置のアライメント高速化法、これを用いたパターン検査装置 - 特許庁
CHEMICAL COMPOUND FOR PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
光酸発生剤用化合物及びそれを用いたレジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING STRIPE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME例文帳に追加
ストライプ状パターンの形成方法及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁
BLANKET AND METHOD FOR FORMING MINUTE ELECTRODE PATTERN BY OFFSET PRINTING BY USING THE SAME例文帳に追加
ブランケット及びそれを用いたオフセット印刷による微細電極パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク、その製造方法、パターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
COMPOSITION OF INTERMEDIATE LAYER MATERIAL FOR MULTILAYER RESIST PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
多層レジストプロセス用中間層材料組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSENSITIVE ORGANIC ANTIREFLECTION FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感光性有機反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CARBON NANOTUBE GATE FIELD-EFFECT TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND FINE-PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
カーボンナノチューブゲート電界効果トランジスタとその製造方法、及び微細パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING CONCRETE PRODUCT HAVING PATTERN SHAPE ON SURFACE SIDE AND MOLD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
面側に模様形状を有するコンクリート製品の製造方法及びその製造用型 - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION, ITS PREPARATION AND SEMICONDUCTOR PATTERN FORMING METHOD UTILIZING SAME例文帳に追加
フォトレジスト組成物、その製造方法及びそれを利用した半導体パターンの形成方法 - 特許庁
ELECTRON MICROSCOPE, CONTROL METHOD OF THE SAME, AND METHOD FOR OBTAINING DIFFRACTION PATTERN例文帳に追加
電子顕微鏡及び電子顕微鏡の制御方法並びに回折パターン取得方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN AND POLYMERIZABLE COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TOP COATING COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト用のトップコーティング組成物及びそれを利用したフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|