「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR FORMING INTERNAL ELECTRODE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATED CERAMIC ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME例文帳に追加

内部電極パターンの形成方法とこれを用いた積層セラミック電子部品の製造方法 - 特許庁

The up-control channel is mapped in the same hopping pattern even with or without a user data channel.例文帳に追加

上り制御チャネルは、ユーザデータチャネルに同伴してもしなくても同じホッピングパターンでマッピングされる。 - 特許庁

RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE例文帳に追加

レジストパターン、レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

The material of the heat radiation pattern 4 is same as the material for forming an array of the liquid crystal panel 1.例文帳に追加

放熱パターン４の材料を液晶パネル１のアレーを形成する材料と同一とする。 - 特許庁

ETCHANT, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチング液及びこれを用いたパターン形成方法並びに液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY SUBSTRATE USING SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法、並びに半導体装置 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD USING DEVELOPER CONTAINING ORGANIC SOLVENT, AND RINSING SOLUTION FOR USE IN THE SAME例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びこれに用いるリンス液 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR REGISTERING ON FANCY PATTERN OF TRANSMISSION IMAGE AND METHOD AND APPARATUS FOR REPRODUCING THE SAME例文帳に追加

伝送画像の修飾パターンの登録方法および装置ならびに再生方法および装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法および半導体デバイス - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC-RAY OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

導電パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

Even when the length of the re-drawing period is different, respective operation patterns in a variation pattern are the same.例文帳に追加

再抽選期間の長さが異なっても、変動パターン中の各動作パターンは同じである。 - 特許庁

FILM-PATTERN FORMING METHOD, DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

薄膜パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁

SEAL DISPENSER OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND METHOD FOR DETECTING DISCONNECTION OF SEAL PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加

液晶表示パネルのシールディスペンサ及びこれを利用したシールパターンの断線検出方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PATTERN OF PHASE INVERSION MASK AND PHASE INVERSION MASK CORRECTED BY USING THE SAME例文帳に追加

位相反転マスクのパターン校正方法及びこれを利用して校正された位相反転マスク - 特許庁

On the surface of the undercoating layer 15, a masking member having the same shape as a N-shape pattern 13 is pasted.例文帳に追加

アンダーコート層１５の表面にＮ字模様１３と同じ形状のマスク部材を貼り付ける。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND RESIN USABLE THEREFOR, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

HIGH-POLYMER COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

高分子化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND INSPECTION METHOD AND PREPARING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、ネガ型レジスト組成物の検査方法及び調製方法 - 特許庁

To provide a plated substrate in which a fine pattern is formed with good precision and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

微細パターンを精度良く形成するめっき基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A second placement pattern II uses the LEDs of approximately the same color to illuminate the dial 6 and the pointer 7.例文帳に追加

第２の配置パターンIIは文字板６と指針７とを略同系色のＬＥＤで照明する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MAKING CURED RELIEF PATTERN USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING ENCAPSULATED PARTICLE AND CONDUCTIVE WIRING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

静電荷像現像用カプセル化粒子及びそれを用いた導電性配線パターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに化合物及びそれからなる酸発生剤 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 - 特許庁

The terminal pads, the high density conductor, and the dummy pattern are constituted of the same conductive layer.例文帳に追加

これら端子パッド、高密度導体部、ダミーパターンは同一の導電層によって構成されている。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD OF CORRECTING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE PHOTOMASK例文帳に追加

フォトマスクの製造方法、フォトマスク、その修正方法、及びフォトマスクを用いたパターン転写方法 - 特許庁

GREEN SHEET WITH CONDUCTOR CIRCUIT PATTERN AND MANUFACTURE OF CERAMIC MULTILAYER WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

導電体回路パターン付グリーンシート及びそれを用いたセラミック多層配線基板の製造方法 - 特許庁

SULFONIUM SALT, ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME, PHOTOMASK BLANK AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

スルホニウム塩、酸発生剤及びこれを用いたレジスト材料、フォトマスクブランク、並びにパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN GROOVE AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS WAVEGUIDE TYPE OPTICAL CIRCUIT USING THE SAME例文帳に追加

パターン溝の形成方法及びそれを用いたガラス導波路型光回路の製造方法 - 特許庁

COMPOSITION OF IRREGULAR REFLECTION PREVENTING FILM, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

乱反射防止膜組成物、これを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ITS PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

感光性樹脂組成物とそのパターン形成方法およびそれを用いた半導体素子とその製法 - 特許庁

ESTER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, MACROMOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

エステル化合物とその製造方法、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION COMPRISING IONIC LIQUID AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PRINTING METHOD WITH TEST PATTERN INSERTED IN MASS PRINTING JOB, AND PRINTER USING THE SAME例文帳に追加

大量印刷ジョブにおけるテストパターンを挿入する印刷方法及びそれを用いたプリンタ - 特許庁

ARRAY ANTENNA FEEDER, ARRAY ANTENNA SYSTEM USING SAME, AND VARIABLE BEAM PATTERN BROADCASTING SATELLITE例文帳に追加

アレーアンテナ給電装置及びそれを用いたアレーアンテナシステム並びに可変ビームパターン放送衛星 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターン形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミド前駆体組成物、パターンの製造方法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

COATING COMPOSITION FOR PROTECTIVE LAYER OF PHOTORESIST FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁