「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

PATTERN FORMING METHOD, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法、並びに半導体装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD OF CORRECTING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE PHOTOMASK例文帳に追加

フォトマスクの製造方法、フォトマスク、その修正方法、及びフォトマスクを用いたパターン転写方法 - 特許庁

SULFONIUM SALT, ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME, PHOTOMASK BLANK AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

スルホニウム塩、酸発生剤及びこれを用いたレジスト材料、フォトマスクブランク、並びにパターン形成方法 - 特許庁

GREEN SHEET WITH CONDUCTOR CIRCUIT PATTERN AND MANUFACTURE OF CERAMIC MULTILAYER WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

導電体回路パターン付グリーンシート及びそれを用いたセラミック多層配線基板の製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに化合物及びそれからなる酸発生剤 - 特許庁

The terminal pads, the high density conductor, and the dummy pattern are constituted of the same conductive layer.例文帳に追加

これら端子パッド、高密度導体部、ダミーパターンは同一の導電層によって構成されている。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、及び電子部品 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING ACCELERATION SENSOR AND ANGULAR VELOCITY SENSOR USING THE SAME例文帳に追加

マスクパターンの補正方法およびそれを用いた加速度センサと角速度センサの製造方法 - 特許庁

HIGH-RESOLUTION POSITIVE TYPE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COATING MATERIAL EXHIBITING DIAMOND GLOSS AND METHOD FOR DRAWING PICTURE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

金剛光沢を呈する塗装材料及びこの塗装材料を使用した絵模様の描出方法 - 特許庁

RING-OPENING METATHESIS POLYMER HYDROGENATED PRODUCT, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

開環メタセシス重合体水素添加物、それを含有するレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE PASTE, METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY例文帳に追加

ポジ型感光性ペースト、それを用いたパターンの形成方法およびプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁

RECORD CARRIER COMPRISING ADDITIONAL SYNC-COLOR PATTERN, AND METHOD AND DEVICE FOR USING THE SAME例文帳に追加

付加的同期カラーパターンを有する記録担体およびその記録担体を使用する方法と装置 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING THIN-FILM PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

薄膜パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

OFFSET PRINTER, METHOD FOR OFFSET PRINTING AND HIGHLY DEFINITE PATTERN BASE PLATE OBTAINED BY USING THE SAME例文帳に追加

オフセット印刷装置、オフセット印刷方法、およびそれを用いて得られる高精細パターン基板 - 特許庁

PROCESS FOR CASTING STEEL GRADE WHICH CANNOT BE CAST BY EVAPORATIVE PATTERN DEPRESSURIZATION CASTING PROCESS WITH USE OF SAME PROCESS例文帳に追加

消失模型減圧鋳造法で鋳造できない鋼種を、同工法で鋳造する方法。 - 特許庁

A normal circuit 1 and a circuit 2 to be inspected are controlled so that they output the same inspection pattern.例文帳に追加

正常回路１と被検査回路２が同じ検査パターン出力を出すように制御する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING THIN FILM PATTERN, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC-RAY OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

導電パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

FILM-PATTERN FORMING METHOD, DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

薄膜パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD USING DEVELOPER CONTAINING ORGANIC SOLVENT, AND RINSING SOLUTION FOR USE IN THE SAME例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びこれに用いるリンス液 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR REGISTERING ON FANCY PATTERN OF TRANSMISSION IMAGE AND METHOD AND APPARATUS FOR REPRODUCING THE SAME例文帳に追加

伝送画像の修飾パターンの登録方法および装置ならびに再生方法および装置 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER CONTAINING SILYLPHENYLENE POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

シリルフェニレン系ポリマー含有中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME例文帳に追加

感光性重合体組成物、並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法および半導体デバイス - 特許庁

COLORING CURABLE COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

着色硬化性組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶表示素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING CATHODE RAY TUBE例文帳に追加

感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び陰極線管の製造方法 - 特許庁

TWO LIQUID TYPE ACRYLIC ADHESIVE FOR MANUFACTURING PATTERN OF CASTING MOLD, AND BONDING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

鋳型模型製作用２液アクリル系接着剤、および該接着剤を用いた接着工法 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR TRANSFERRING MASK PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法及びそれを用いたマスクパターン転写方法 - 特許庁

PRINTING METHOD WITH TEST PATTERN INSERTED IN MASS PRINTING JOB, AND PRINTER USING THE SAME例文帳に追加

大量印刷ジョブにおけるテストパターンを挿入する印刷方法及びそれを用いたプリンタ - 特許庁

ARRAY ANTENNA FEEDER, ARRAY ANTENNA SYSTEM USING SAME, AND VARIABLE BEAM PATTERN BROADCASTING SATELLITE例文帳に追加

アレーアンテナ給電装置及びそれを用いたアレーアンテナシステム並びに可変ビームパターン放送衛星 - 特許庁

It is preferable to use the same test pattern for the 1st simulation and the 2nd simulation.例文帳に追加

前記第１のシミュレーションと第２のシミュレーションとは同一のテストパターンによるものが好ましい。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING LAYOUT PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

レイアウトパターン生成のための装置と方法、及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN GROOVE AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS WAVEGUIDE TYPE OPTICAL CIRCUIT USING THE SAME例文帳に追加

パターン溝の形成方法及びそれを用いたガラス導波路型光回路の製造方法 - 特許庁

COMPOSITION OF IRREGULAR REFLECTION PREVENTING FILM, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

乱反射防止膜組成物、これを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ITS PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

感光性樹脂組成物とそのパターン形成方法およびそれを用いた半導体素子とその製法 - 特許庁