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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加
感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
To provide a roll with pattern which solves the problem of side etching and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER CONTAINING SILYLPHENYLENE POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
シリルフェニレン系ポリマー含有中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME例文帳に追加
感光性重合体組成物、並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法および半導体デバイス - 特許庁
MASTER RECORDING MEDIUM FOR MAGNETICALLY TRANSFERRING SERVO PATTERN TO MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
サーボパターンを磁気記録媒体に磁気転写するためのマスター記録媒体及びその製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COATING LIQUID FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMATION, TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加
透明導電膜形成用感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法 - 特許庁
FLUORINE CONTAINING COMPOUND, FLUORINE CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
NOVEL POLYIMIDE SILICONE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加
新規ポリイミドシリコーン及びこれを含有する感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁
The color smear detection patterns 709-712 and the chromaticity detection pattern 705 are formed at the same time.例文帳に追加
色ずれ検出パターン709〜712と色度検出パターン705とを同時に画像形成する。 - 特許庁
A pattern for the same purpose as the first means can be formed on the rear side of the Fresnel screen.例文帳に追加
また、前記フレネルスクリーンの背面に前記第1手段と同じ目的のパターンが形成されうる。 - 特許庁
SULFONIUM SALT, ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME, PHOTOMASK BLANK AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
スルホニウム塩、酸発生剤及びこれを用いたレジスト材料、フォトマスクブランク、並びにパターン形成方法 - 特許庁
It is preferable to use the same test pattern for the 1st simulation and the 2nd simulation.例文帳に追加
前記第1のシミュレーションと第2のシミュレーションとは同一のテストパターンによるものが好ましい。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING LAYOUT PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
レイアウトパターン生成のための装置と方法、及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
The M types of reference signals are multiplexed into first and second resource blocks in the same arrangement pattern.例文帳に追加
M種類のリファレンス信号は、同じ配置パターンで第1及び第2のリソースブロックに多重される。 - 特許庁
ARRAY ANTENNA FEEDER, ARRAY ANTENNA SYSTEM USING SAME, AND VARIABLE BEAM PATTERN BROADCASTING SATELLITE例文帳に追加
アレーアンテナ給電装置及びそれを用いたアレーアンテナシステム並びに可変ビームパターン放送衛星 - 特許庁
METHOD FOR DETERMINING LAYOUT OF DUMMY PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ダミーパターンのレイアウト決定方法、それを用いた半導体装置およびその製造方法 - 特許庁
TAPE WITH ADHESIVE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD AND PATTERN PROCESSING TAPE USING THE SAME例文帳に追加
半導体装置用接着剤付きテープおよびその製造方法、それを用いたパターン加工テープ - 特許庁
MANUFACTURE OF GREEN SHEET WITH CONDUCTOR CIRCUIT PATTERN AND CERAMIC MULTILAYER INTERCONNECTING BOARD USING THE SAME例文帳に追加
導体回路パターン付グリーンシート及びそれを用いたセラミック多層配線基板の製造方法 - 特許庁
FLUORINE-CONTAINING SULFONIC ACID SALT, PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
含フッ素スルホン酸塩類、光酸発生剤、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD OF CORRECTING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスクの製造方法、フォトマスク、その修正方法、及びフォトマスクを用いたパターン転写方法 - 特許庁
POLYMERIZABLE MONOMER, POLYMER, RESIST MATERIAL USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD THEREFOR例文帳に追加
重合性単量体、重合体およびそれを用いたレジスト材料およびそのパターン形成方法 - 特許庁
GREEN SHEET WITH CONDUCTOR CIRCUIT PATTERN AND MANUFACTURE OF CERAMIC MULTILAYER WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加
導電体回路パターン付グリーンシート及びそれを用いたセラミック多層配線基板の製造方法 - 特許庁
HYDROPHILIC MONOMER, HYDROPHILIC PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
親水性モノマー、それを含有する親水性フォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURED BY USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法及びこれを利用して製造された半導体素子 - 特許庁
ANTIREFLECTION FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
反射防止膜、これを用いたレジストパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
CAD SYSTEM FOR EDITING SEMICONDUCTOR MASK PATTERN, DESIGNING METHOD USING THE SAME AND RECORDING MEDIUM THEREFOR例文帳に追加
半導体マスクパターン編集用のCADシステム、これを用いた設計方法及びその記録媒体 - 特許庁
METHOD OF FORMING THIN-FILM PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
薄膜パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁
On the surface of the undercoating layer 15, a masking member having the same shape as a N-shape pattern 13 is pasted.例文帳に追加
アンダーコート層15の表面にN字模様13と同じ形状のマスク部材を貼り付ける。 - 特許庁
SEAL DISPENSER OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND METHOD FOR DETECTING DISCONNECTION OF SEAL PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加
液晶表示パネルのシールディスペンサ及びこれを利用したシールパターンの断線検出方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING PATTERN OF PHASE INVERSION MASK AND PHASE INVERSION MASK CORRECTED BY USING THE SAME例文帳に追加
位相反転マスクのパターン校正方法及びこれを利用して校正された位相反転マスク - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER-LAYER FILM, METHOD OF FORMING THE RESIST LOWER-LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁
TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加
上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
COPOLYMER FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法 - 特許庁
PROCESS FOR CASTING STEEL GRADE WHICH CANNOT BE CAST BY EVAPORATIVE PATTERN DEPRESSURIZATION CASTING PROCESS WITH USE OF SAME PROCESS例文帳に追加
消失模型減圧鋳造法で鋳造できない鋼種を、同工法で鋳造する方法。 - 特許庁
OFFSET PRINTER, METHOD FOR OFFSET PRINTING AND HIGHLY DEFINITE PATTERN BASE PLATE OBTAINED BY USING THE SAME例文帳に追加
オフセット印刷装置、オフセット印刷方法、およびそれを用いて得られる高精細パターン基板 - 特許庁
ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
A normal circuit 1 and a circuit 2 to be inspected are controlled so that they output the same inspection pattern.例文帳に追加
正常回路1と被検査回路2が同じ検査パターン出力を出すように制御する。 - 特許庁
METHOD OF FORMING THIN FILM PATTERN, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
薄膜パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁
COLORING CURABLE COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加
着色硬化性組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶表示素子 - 特許庁
ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
FILM-PATTERN FORMING METHOD, DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
薄膜パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR REGISTERING ON FANCY PATTERN OF TRANSMISSION IMAGE AND METHOD AND APPARATUS FOR REPRODUCING THE SAME例文帳に追加
伝送画像の修飾パターンの登録方法および装置ならびに再生方法および装置 - 特許庁
RESIN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION EMPLOYING IT, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
導電パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁
ACTINIC-RAY OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線または感放射線樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
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