「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC FILM AND METHOD FOR FORMING DIELECTRIC FILM OR DIELECTRIC FILM PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物及びこれを用いた絶縁膜または絶縁膜パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOTOOL FOR SOLDER RESIST EXPOSURE AND SOLDER RESIST PATTERN FORMING METHOD IN WHICH EXPOSURE PROCESSING IS PERFORMED USING THE SAME例文帳に追加

ソルダーレジスト露光用フォトツール及びそれを用いて露光処理されるソルダーレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO ACTIVE ENERGY RADIATION AND POLYMER PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、及び、該樹脂組成物を用いてなる高分子パターンの形成方法 - 特許庁

SHEET FOR LASER DECORATION, SHEET WITH LASER DECORATIVE PATTERN USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING LASER DECORATIVE ARTICLE例文帳に追加

レーザー加飾用シートとこれを用いたレーザー加飾柄付きシート及びレーザー加飾品の製造方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE ESTER COMPOUND HAVING SULFONAMIDE STRUCTURE, POLYMER OF THE SAME, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

スルホンアミド構造を有する重合性エステル化合物、その重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

LIQUID DROP EJECTION PRODUCTION APPARATUS, AND PATTERN WIRING BOARD TO BE PRODUCED BY SAME, AS WELL AS DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

液滴噴射製造装置、およびそれにより製造されるパターン配線基板、ならびにデバイス基板 - 特許庁

OPTICAL ELEMENT WITH THIN RESIN FILM HAVING MICRO-RUGGED PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子、該光学素子の製造方法及び装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE MEMBER PATTERN, ELECTRON SOURCE USING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

導電性部材パターンの製造方法、これを用いた電子源及び画像表示装置の製造方法 - 特許庁

In a surface of a mask 3, holes 3a are formed in the same planar pattern as that of the surface of the intaglio 1.例文帳に追加

マスク版３の表面には、凹版１表面と同じ平面パターンで孔３ａが形成されている。 - 特許庁

The high frequency signal pattern is erased by writing a signal having a reversed phase and the same frequency.例文帳に追加

さらに、上記高周波信号パターンを、位相が逆転した同周期の信号書き込みで消去する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST PATTERN BY INTERFERENCE EXPOSURE METHOD, METHOD FOR FORMING THE SAME AND OPTICAL COMPONENT PRODUCED USING THOSE例文帳に追加

干渉露光法によるフォトレジストパターン、その形成方法およびそれらを用いて作製した光学部品 - 特許庁

SERVO MASTER WHICH PERFORMS MAGNETIC TRANSFER OF SERVO PATTERN TO MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するサーボマスター及びこれを利用した磁気転写方法 - 特許庁

The external light shielding pattern and the electromagnetic wave shielding layer may be formed on the same surface of the substrate.例文帳に追加

この外光遮蔽パターン及び電磁波遮蔽層は、基材の同一面に形成してもかまわない。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which patterns differing in width can be easily formed at the same time.例文帳に追加

幅の異なるパターンを同時に容易に形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびそれを用いた半導体装置の製造方法、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND RESIST SURFACE LAYER TREATING AGENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法とそれを用いた半導体装置の製造方法およびレジスト表層処理剤 - 特許庁

Thus, the nitride film thickness on the upper surface and that on the side surface of the wiring pattern are made the same.例文帳に追加

このようにして、配線パターンの上面と側面の窒化シリコン膜の厚さが同一になるようにする。 - 特許庁

ETCHANT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THEM例文帳に追加

エッチング液及びそれを用いたパターン形成方法とそれらを用いた液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

To provide a top coating composition for a photoresist, and a method of forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

フォトレジスト用のトップコーティング組成物、及びそれを用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Sipes 6 are formed in blocks 4 of pattern elements 5L, 5M, and 5S positioned in the same block line.例文帳に追加

同じブロック列に位置する各パターン要素５Ｌ，５Ｍ，５Ｓのブロック４にサイプ６が設けられている。 - 特許庁

ULTRAVIOLET-CURABLE RESIN MATERIAL FOR PATTERN TRANSFER AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

SOLVENT FOR REMOVING RESIST PROTECTION FILM USED IN IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING NEW MICRO PATTERN POLARIZING ELEMENT AND THREE DIMENSIONAL LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

新規なマイクロパターン偏光素子の製造方法及びこれを用いる立体表示液晶表示装置 - 特許庁

SOLVENT FOR REMOVING LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS-USE RESIST PROTECTION FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER INCLUDING SILYLPHENYLENE-BASED POLYMER, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

シリルフェニレン系ポリマーを含有する中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

When the user wants to specify himself or herself to the device, he or she claps his or her hands in the same way as when the handclapping pattern is registered.例文帳に追加

ユーザは、機器に対して自身を特定させるときには、登録時と同様に手拍子を打つ。 - 特許庁

NEW SULFONYLDIAZOMETHANE COMPOUND, PHOTO ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, AND PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜 - 特許庁

On a die pad region, conductor pads 32 made of the same conductor is laid similar to the conductor pattern.例文帳に追加

ダイパッド領域には、導体パターンと同じ導体で形成された導体パッド３２が延在している。 - 特許庁

HEXAARYLBIIMIDAZOLE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ヘキサアリールビイミダゾール化合物、これを用いた感光性組成物及びパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAYER OF PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性樹脂組成物の層及びレジストパターンの製造法 - 特許庁

METHOD OF ALIGNING FOR CHARGED PARTICLE BEAM, PATTERN ALIGNING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

荷電粒子線調整方法、パターン転写方法及びこれらの方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD OF FORMING SAME例文帳に追加

感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフイルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

The pattern 50 belongs to the same net with test lands 44 and 46, and common electric signals flow through it.例文帳に追加

パターン部５０はテストランド４４，４６と同一ネットに属しており、共通の電気信号が流れる。 - 特許庁

The hierarchical barcode stamp is printed as a gray background pattern on the front side of the same sheet of the printed document.例文帳に追加

階層的バーコードスタンプは、印刷文書の同じ紙の表面にグレー背景パターンとして印刷される。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

Ni MASTER HAVING FINE UNEVEN PATTERN ON SURFACE AND METHOD OF MANUFACTURING Ni REPLICATION USING THE SAME例文帳に追加

微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤、およびそれを用いたＮｉ複盤の製造方法 - 特許庁