「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

SERVO MASTER WHICH PERFORMS MAGNETIC TRANSFER OF SERVO PATTERN TO MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するサーボマスター及びこれを利用した磁気転写方法 - 特許庁

The external light shielding pattern and the electromagnetic wave shielding layer may be formed on the same surface of the substrate.例文帳に追加

この外光遮蔽パターン及び電磁波遮蔽層は、基材の同一面に形成してもかまわない。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which patterns differing in width can be easily formed at the same time.例文帳に追加

幅の異なるパターンを同時に容易に形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a case of an electronic device having an antenna pattern frame embedded therein, mold therefor and method of manufacturing the same.例文帳に追加

アンテナパターンフレームが埋め込まれる電子装置ケース、その製造金型及び製造方法を提供する。 - 特許庁

The hierarchical barcode stamp is printed as a gray background pattern on the front side of the same sheet of the printed document.例文帳に追加

階層的バーコードスタンプは、印刷文書の同じ紙の表面にグレー背景パターンとして印刷される。 - 特許庁

HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

耐熱性感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法並びに電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND RESIST SURFACE LAYER TREATING AGENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法とそれを用いた半導体装置の製造方法およびレジスト表層処理剤 - 特許庁

Thus, the nitride film thickness on the upper surface and that on the side surface of the wiring pattern are made the same.例文帳に追加

このようにして、配線パターンの上面と側面の窒化シリコン膜の厚さが同一になるようにする。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびそれを用いた半導体装置の製造方法、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

Sipes 6 are formed in blocks 4 of pattern elements 5L, 5M, and 5S positioned in the same block line.例文帳に追加

同じブロック列に位置する各パターン要素５Ｌ，５Ｍ，５Ｓのブロック４にサイプ６が設けられている。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The pattern 50 belongs to the same net with test lands 44 and 46, and common electric signals flow through it.例文帳に追加

パターン部５０はテストランド４４，４６と同一ネットに属しており、共通の電気信号が流れる。 - 特許庁

In summer it was worn without Onzo or worn with Hikihegi (a type of Hitoe and the pattern was same as Kinu) without lining. 例文帳に追加

夏は御衣を略したり、裏のない引陪木《単であるが、文様は衣に同じ》を用いたりする。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

HIGH SENSITIVITY PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SOLUBLE FILM FORMING DENDRIMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁

The express trains stop at stations with the same pattern as those that are operated during the daytime (stopping at Moriguchishi and Hirakata-koen). 例文帳に追加

なお急行は昼間時の運転と同じ停車駅パターンとなる（守口市・枚方公園に停車）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Ni MASTER HAVING FINE UNEVEN PATTERN ON SURFACE AND METHOD OF MANUFACTURING Ni REPLICATION USING THE SAME例文帳に追加

微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤、およびそれを用いたＮｉ複盤の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD OF FORMING SAME例文帳に追加

感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフイルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PERIODIC IMAGE PATTERN AND SHEET FOR DOT MANAGEMENT USING THE SAME AS WELL AS METHOD FOR MANAGEMENT OF DOT IMAGE例文帳に追加

周期的画像パターンおよびそれを用いた網点管理用シート、並びに網点画像の管理方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

FILM PATTERN, METHOD FOR FORMING SAME, DEVICE, ELECTRO-OPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE例文帳に追加

膜パターンとその形成方法、デバイス、電気光学装置、電子機器、及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

NOVEL COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a polymer resin composition, a method for forming pattern by using the same and a method for forming a capacitor.例文帳に追加

高分子樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法が開示される。 - 特許庁

PHOTOTOOL FOR SOLDER RESIST EXPOSURE AND SOLDER RESIST PATTERN FORMING METHOD IN WHICH EXPOSURE PROCESSING IS PERFORMED USING THE SAME例文帳に追加

ソルダーレジスト露光用フォトツール及びそれを用いて露光処理されるソルダーレジストパターンの形成方法 - 特許庁

LIQUID DROP EJECTION PRODUCTION APPARATUS, AND PATTERN WIRING BOARD TO BE PRODUCED BY SAME, AS WELL AS DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

液滴噴射製造装置、およびそれにより製造されるパターン配線基板、ならびにデバイス基板 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, AND PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜 - 特許庁

On a die pad region, conductor pads 32 made of the same conductor is laid similar to the conductor pattern.例文帳に追加

ダイパッド領域には、導体パターンと同じ導体で形成された導体パッド３２が延在している。 - 特許庁

HEXAARYLBIIMIDAZOLE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ヘキサアリールビイミダゾール化合物、これを用いた感光性組成物及びパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER INCLUDING SILYLPHENYLENE-BASED POLYMER, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

シリルフェニレン系ポリマーを含有する中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING NEW MICRO PATTERN POLARIZING ELEMENT AND THREE DIMENSIONAL LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

新規なマイクロパターン偏光素子の製造方法及びこれを用いる立体表示液晶表示装置 - 特許庁

SOLVENT FOR REMOVING LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS-USE RESIST PROTECTION FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

ULTRAVIOLET-CURABLE RESIN MATERIAL FOR PATTERN TRANSFER AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

SOLVENT FOR REMOVING RESIST PROTECTION FILM USED IN IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜除去用溶剤およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

When the user wants to specify himself or herself to the device, he or she claps his or her hands in the same way as when the handclapping pattern is registered.例文帳に追加

ユーザは、機器に対して自身を特定させるときには、登録時と同様に手拍子を打つ。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PERMANENT RESIST USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びそれを用いた永久レジスト。 - 特許庁

NEW SULFONYLDIAZOMETHANE COMPOUND, PHOTO ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an electronic apparatus with a case embedded with a transmission line pattern, and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁

Defects are determined thereby at the same time in the pattern inspection, and a through-put of the inspection is enhanced thereby.例文帳に追加

これにより、パターン検査の欠陥判定を同時に行えるとともに、検査のスループットが向上する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC FILM AND METHOD FOR FORMING DIELECTRIC FILM OR DIELECTRIC FILM PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物及びこれを用いた絶縁膜または絶縁膜パターンの形成方法 - 特許庁