「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物 - 特許庁

The external light shielding pattern and the electromagnetic wave shielding layer may be formed on the same surface of the substrate.例文帳に追加

この外光遮蔽パターン及び電磁波遮蔽層は、基材の同一面に形成してもかまわない。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTORESIST PATTERN BY INTERFERENCE EXPOSURE METHOD, METHOD FOR FORMING THE SAME AND OPTICAL COMPONENT PRODUCED USING THOSE例文帳に追加

干渉露光法によるフォトレジストパターン、その形成方法およびそれらを用いて作製した光学部品 - 特許庁

SERVO MASTER WHICH PERFORMS MAGNETIC TRANSFER OF SERVO PATTERN TO MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

磁気記録媒体にサーボパターンを磁気転写するサーボマスター及びこれを利用した磁気転写方法 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which patterns differing in width can be easily formed at the same time.例文帳に追加

幅の異なるパターンを同時に容易に形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびそれを用いた半導体装置の製造方法、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND RESIST SURFACE LAYER TREATING AGENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法とそれを用いた半導体装置の製造方法およびレジスト表層処理剤 - 特許庁

Thus, the nitride film thickness on the upper surface and that on the side surface of the wiring pattern are made the same.例文帳に追加

このようにして、配線パターンの上面と側面の窒化シリコン膜の厚さが同一になるようにする。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The pattern 50 belongs to the same net with test lands 44 and 46, and common electric signals flow through it.例文帳に追加

パターン部５０はテストランド４４，４６と同一ネットに属しており、共通の電気信号が流れる。 - 特許庁

In the seal region c, a second conductive pattern 132 made of the same layer with the pixel electrodes 118 is provided.例文帳に追加

シール領域ｃには画素電極１１８と同一層からなる第２導電パターン１３２を設ける。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING PHASE GRATING PATTERN PRESENTING DEFORMED ILLUMINATION AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BY USING THE SAME例文帳に追加

変形照明を提供する位相格子パターン設計方法及びこれを利用したフォトマスク製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV LIGHT OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ光又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYBENZOXAZOLE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体組成物、パターンの製造方法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

Sipes 6 are formed in blocks 4 of pattern elements 5L, 5M, and 5S positioned in the same block line.例文帳に追加

同じブロック列に位置する各パターン要素５Ｌ，５Ｍ，５Ｓのブロック４にサイプ６が設けられている。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

耐熱性感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法並びに電子部品 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN DATA, INFORMATION PROCESSING DEVICE, PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND IMAGING ELEMENT例文帳に追加

マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置、フォトマスク及びその作製システム並びに撮像素子 - 特許庁

A teacher signal generating part generates a teacher signal, having the same signal pattern as the training signal.例文帳に追加

教師信号生成部は、トレーニング信号と同じ信号パターンを有する教師信号を生成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PERMANENT RESIST USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びそれを用いた永久レジスト。 - 特許庁

NEW SULFONYLDIAZOMETHANE COMPOUND, PHOTO ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法。 - 特許庁

The hierarchical barcode stamp is printed as a gray background pattern on the front side of the same sheet of the printed document.例文帳に追加

階層的バーコードスタンプは、印刷文書の同じ紙の表面にグレー背景パターンとして印刷される。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

レジストパターン形成方法、それを用いた半導体装置の製造方法、および半導体製造装置 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM INCLUDING IONIC POLYMER AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

イオン性重合体を含むレジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING CYCLIC COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND AND RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素環状化合物、含フッ素高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性化合物、高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ETCHANT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THEM例文帳に追加

エッチング液及びそれを用いたパターン形成方法とそれらを用いた液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

To provide a top coating composition for a photoresist, and a method of forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

フォトレジスト用のトップコーティング組成物、及びそれを用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A recessed part 3 corresponding to the box pattern 1 and recessed parts 4 corresponding to the fringes 2A and 2B have the same depth.例文帳に追加

ボックスパターン１に対応する凹部３と、フリンジ２Ａ、２Ｂに対応する凹部４とは、同じ深さを有する。 - 特許庁

PHOTO-ACID GENERATING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOACID GENERATOR FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト用光酸発生剤及びそれを含有するレジスト材料並びにパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD FOR FORMING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

At supplying of the adhesive, the same adhesive for die bonding is also supplied to the empty space of the pattern 3 for soldering.例文帳に追加

また、このときに、半田付け用パターン３間にも同じダイボンディング用接着剤を供給する。 - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、半導体素子 - 特許庁

PHOTOMASK, APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND METHOD FOR ARRANGING PHOTOMASK PATTERN例文帳に追加

フォトマスクと、それを用いた半導体装置の製造装置および方法と、フォトマスクのパターン配置方法 - 特許庁

HIGH SENSITIVITY PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SOLUBLE FILM FORMING DENDRIMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁

CONDUCTIVE FILM PATTERN, AND METHOD OF FORMING THE SAME, WIRING BOARD, ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND CONTACTLESS CARD MEDIUM例文帳に追加

導電膜パターンとその形成方法、配線基板、電子デバイス、電子機器、並びに非接触型カード媒体 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND IMAGE PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST例文帳に追加

重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁

Defects are determined thereby at the same time in the pattern inspection, and a through-put of the inspection is enhanced thereby.例文帳に追加

これにより、パターン検査の欠陥判定を同時に行えるとともに、検査のスループットが向上する。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO ACTIVE ENERGY RADIATION AND POLYMER PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、及び、該樹脂組成物を用いてなる高分子パターンの形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁