「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTORESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

フォトレジスト組成物、及びこれを利用したパターンの形成方法、並びに薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

When the frame pieces 14, 15 are formed to have the same form, the right and left weight balances of the pattern frame become best.例文帳に追加

フレームピース１４；１５を同一形態に形成すれば、図柄フレームの左右の重量バランスが最良となる。 - 特許庁

(3) When the ECRC is already an error, an ECRC pattern with which the same error is reproduced is generated, and applied to a packet.例文帳に追加

(3) ECRCが既にエラーになっていた場合には、同じエラーを再現するようなECRCパターンを生成してパケットに付与する。 - 特許庁

CONDENSATE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

縮合物、感光性組成物およびその製造方法、およびそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME, AND RESIN例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び樹脂 - 特許庁

A divided margin band having the same width as the MSD pattern width is set on the outside of the unit lithography area.例文帳に追加

単位描画領域の外郭にその長辺方向のパターン幅と同じ幅の分割マージン帯を設定する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 - 特許庁

PATTERN TRANSFER METHOD USING ULTRAVIOLET CURABLE RESIN MATERIAL, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

紫外線硬化性樹脂材料を用いたパターン転写方法、及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いたレジストパターンの製造方法及びフレキシブル配線板の製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POLYMERIZABLE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

重合性組成物の製造方法、感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, MANUFACTURING OF THE SAME, AND FORMATION OF HIGH POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加

光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パタ—ン形成方法 - 特許庁

SPUN LACE NONWOVEN FABRIC WITH DESIGN PATTERN, AND MESH BELT FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING THE MESH BELT例文帳に追加

意匠模様入りスパンレース不織布、及び意匠模様入りスパンレース不織布製造用メッシュベルトとその製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE HAVING FILM PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, LIQUID CRYSTAL TELEVISION, AND EL TELEVISION例文帳に追加

膜パターン付基板及びその作製方法、半導体装置の作製方法、液晶テレビジョン、並びにＥＬテレビジョン - 特許庁

CIRCUIT PATTERN FOR PRINTED WIRING BOARD OR INTEGRATED CIRCUIT AND PRINTED WIRING BOARD HAVING THE SAME, INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

プリント配線基板又は集積回路における回路パターン及びこれを備えたプリント配線基板と集積回路 - 特許庁

Thereby, an evaluation chip and a substrate chip are made of the same mask pattern and the connection reliability can be evaluated.例文帳に追加

これにより、評価チップと基板チップとを同一のマスクパターンから作製して接続信頼性を評価できる。 - 特許庁

ANTIREFLECTION-COATING FORMING SOLUTION FOR FORMING RIB, RIB-FORMING LAMINATE COATED WITH SAME AND RIB PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

リブ加工用反射防止膜形成溶液、それを塗布したリブ形成用積層体およびリブパタ—ンの形成方法 - 特許庁

PROCESS FOR MAKING SYNTHETIC FIBER FABRIC WITH TRANSLUCENT PRINT (DYEING) PATTERN AND FABRIC OBTAINED IN THE SAME例文帳に追加

半透明なプリント（染色）パターンを有する合成繊維織物の製造方法およびこのように得られる織物 - 特許庁

COMPOSITION FORMING ANTIREFLECTIVE LIGHT ABSORBING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

反射防止用光吸収膜形成組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

ROTATING ANGLE DETECTION ERROR REDUCING METHOD FOR IMAGE PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING PROGRAM FOR THE SAME例文帳に追加

画像パターンの回転角度検出誤差低減方法及びこの方法の実行プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

GRAY TONE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクブランクとその製造方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR FORMING ELECTRIC WIRING CIRCUIT AND PRINTED TRANSISTOR USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法、並びに、これを用いた電気配線回路の形成方法および印刷トランジスタの形成方法 - 特許庁

RESIN FOR RADIATION SENSITIVE MATERIAL. ITS PRODUCTION METHOD, AND PATTERN FOR SEMICONDUCTOR USING THE SAME例文帳に追加

放射線感光材料用樹脂、その製造方法、及び放射線感光材料を用いた半導体用パターン - 特許庁

PATTERN DATA FORMING METHOD FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィ用パターンデータ生成方法、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 - 特許庁

Other wiring layer of the same layer is arranged in a relatively dense pattern on the periphery of upper layer wiring layer 13.例文帳に追加

上層配線層１３の周辺には同じ層の他の配線層が比較的密なパターンで配されている。 - 特許庁

NONCONTACT SINGLE SIDE PROBE, AND APPARATUS AND METHOD FOR TESTING BREAKAGE OF WIRE AND SHORT CIRCUIT OF PATTERN ELECTRODE USING THE SAME例文帳に追加

非接触シングルサイドプローブ及び、これを用いたパターン電極の断線・短絡検査装置及びその方法 - 特許庁

NEW SULFONYL DIAZOMETHANE, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION EACH USING THE SAME例文帳に追加

新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATES, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性含フッ素スルホン酸塩類、含フッ素スルホン酸塩樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

In this lenticular sheet, a light-shielding stripe pattern is formed at the same position (and line width) for all cylindrical lenses.例文帳に追加

全てのシリンドリカルレンズに対して等しい位置（および、線幅）に遮光ストライプパターンの形成されたレンチキュラーシート。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法ならびに半導体製造装置 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION FOR DEVELOPMENT WITH BASIC AQUEOUS SOLUTION AND PRODUCTION OF PATTERN USING SAME例文帳に追加

塩基性水溶液現像用ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

In the dimension measuring pattern 7, a plurality of same formation patterns are periodically arranged on a semiconductor substrate.例文帳に追加

寸法測定パターン７は、複数個の同一形状パターンが周期的に半導体基板上に配列されている。 - 特許庁

PHOTOACID GENERATOR FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND RESIST MATERIAL USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

Dummy pattern 44a, 44b are formed by the same material film with a first gate 120a of a peripheral circuit transistor.例文帳に追加

ダミーパターン４４ａ、４４ｂは周辺回路トランジスタの第１ゲート１２０ａと同一の物質膜で形成される。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND DISPLAY SUBSTRATE PRODUCTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにこれを用いたフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法 - 特許庁

LACTONE COMPOUND, LACTONE-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ラクトン化合物、ラクトン含有単量体、高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

This noise reducing method uses a stereo signal composed of two channel signals and the channels include the same pattern signal.例文帳に追加

ノイズ低減技法は、２つのチャネル信号から成るステレオ信号を用い、各チャネルは同じパターン信号を含む。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR SANDBLAST RESIST, SANDBLAST RESIST FILM USING THE SAME, AND SANDBLAST RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

サンドブラストレジスト用感光性組成物、及びこれを用いたサンドブラストレジストフィルム、並びにサンドブラストレジストパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMERIZABLE MONOMER, FLUORINE-CONTAINING MACROMOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物、これを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

A ko (repetision of the same pattern of offence and defense) appeared there led Shusai to making a situation advantageous, thus ending the game when Karigane ran out of time. 例文帳に追加

秀哉はここで発生したコウをきっかけに勝勢を確立、最後は雁金の時間切れ負けとなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

DISCHARGE PATTERN CREATION METHOD, INK DISCHARGE DEVICE, COLOR FILTER PRODUCED USING THE SAME, AND ORGANIC FUNCTIONAL ELEMENT例文帳に追加

吐出パターン生成方法及びインキ吐出装置及びそれを用いて製造するカラーフィルタ及び有機機能性素子 - 特許庁

CUTTER WITH PATTERN ON HANDLE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND FEMALE MOLD FOR SURFACE OF HANDLE USED THEREFOR例文帳に追加

柄に模様を施したカッター、前記カッタ−を製造する方法、および前記方法で使用する柄表面の雌型 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which cracks and disconnection are hard to occur on a wiring pattern and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

配線パターンに亀裂や断線が生じ難い半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Specifically, the common pattern 50 and the contact patterns 51, 52, 53, 54, 55 are disposed alternately on the same circumference.例文帳に追加

具体的には、コモンパターン５０と接点パターン５１・５２・５３・５４・５５を同一円周上に交互に配置する。 - 特許庁

To carry out the treatment of a grain pattern and an ear part of plural kinds of composite molded products by one and the same production equipment.例文帳に追加

一台の製造装置により複数種類の複合成形品の木目込みと耳部の処理を行う。 - 特許庁