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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4755件
To provide a production method of a froth method rigid polyurethane foam, using carbon dioxide as the foaming agent, easy in keeping and adjusting blow pattern by spray at the same level as the case using a conventional flon, stable since the time soon after construction beginning, and excellent in workability, and to provide a construction method of a rigid polyurethane foam insulating layer.例文帳に追加
二酸化炭素を発泡剤として使用し、スプレーによる吹き付けのパターンの維持並びに調整が従来のフロンを使用した場合と同程度に容易であって施工開始直後から安定しており、施工性が良好なフロス法硬質ポリウレタンフォームの製造方法並びに硬質ポリウレタンフォーム断熱層の施工方法を提供する。 - 特許庁
Also, in the case of constitution for the purpose of band widening for instance, by turning the substrate of the dielectric to the same size as the power feeding patch and making the dielectric forming a non power feeding patch individual for each antenna element, the generation of the surface wave mode which is the problem in a conventional technique is suppressed and the structure forming the excellent radiation pattern is attained.例文帳に追加
また、例えば広帯域化を目的とした構成の場合では、誘電体の基板を給電パッチと同じ大きさとし、無給電パッチを形成する誘電体を各アンテナ素子毎に個別にすることで、従来の技術で課題となっていた表面波モードの発生をおさえ、良好な放射パターンを形成する構造としている。 - 特許庁
In order to know the characteristic of this device, a reference toner adhering pattern is produced by an image writing and developing means 4 under the same condition where a default value is obtained according to the LD light quantity table having the default value, the image density is detected by a condition amount detecting means 5 or the image reading means 3 of a copying machine, and measured as the toner adhering amount.例文帳に追加
本装置の特性を知るために、デフォルト値を持つLD光量テーブルに従い、デフォルト値を得たと同条件で画像書き込み・現像手段4で基準のトナー付着パターンを生成し、その画像濃度を状態量検出手段5又は複写機の画像読み込み手段3により検出、トナー付着量として測定する。 - 特許庁
To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.例文帳に追加
電極材料としてPtを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたPt電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加
複数の微細パターン(ゲートフィンガ部)と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン(シフタ)と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁
Moreover, as the recessed part is formed at a part other than terminal parts with terminal connection holes 3, cross-section areas of the terminal parts without the recessed part formed is relatively large to have electric resistance smaller and prevent heat generation, so that the heater as a whole including the terminal parts can be formed nearly in the same width, enabling free designing of a heater pattern.例文帳に追加
さらに、端子接続穴3を有する端子部以外の部分に凹部が形成されることで、凹部が形成されない端子部の断面積が相対的に大きくなり、電気抵抗が小さくなって発熱が防止されるので、端子部を含めてヒータ全体を略同幅に形成することができ、ヒータパターンを自在に設計することが可能となる。 - 特許庁
To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
250nm以下、特にF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には157nmの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In the electronic equipment in which a plurality of electronic parts (121 and 126) in each of which surge resistance is required are mounted, the plurality of electronic parts (121 and 126) are mounted adjacently on one and the same circuit board (111), and the circuit board has a ground pattern (141) made to be common with the plurality of electronic parts (121 and 126).例文帳に追加
本発明は、耐サージが要求される複数の電子部品(121、126)が搭載される電子機器において、複数の電子部品(121、126)を同じ回路基板(111)上に隣接して搭載し、回路基板(111)に複数の電子部品(121、126)で共通化されたグランドパターン(141)を設けたことを特徴とする。 - 特許庁
A 1st likeness picture is generated by combining a plurality of partial pictures stored in montage RAMs 39, 40 by key operations, displayed on a display section and a transmission reception section 27 transmits designation data (parts pattern Nos.) of the partial images being components of the 1st likeness to an external electronic device of the same configuration to generate a 2nd likeness picture.例文帳に追加
モンタージュRAM39,40に記憶された複数の部分画像をキー操作で組み合わせて第1の似顔絵画像を作成し表示部に表示させ、この第1の似顔絵画像を構成している部分画像それぞれの指定データ(パーツパターンNo.)を、第2の似顔絵画像を作成する外部の同一電子機器に向けて送受信部27から送信する。 - 特許庁
In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.例文帳に追加
隣接する発光単位160において、少なくとも1つ以上の同一色の色要素92に与える振動の周波数170を異なるようにすべく、発光層90の各色要素92と、正孔輸送層54の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数170とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁
With use of this specified pattern information, an output data generater 20 detects difference information between the data read out from the register 50 and the data read out at the last time, and speeds up a clock signal for writing generated from a frequency control circuit 11 in a section in which it is determined that the difference information is the same with each other.例文帳に追加
この特定したパターン情報を用いて、データ保持レジスタ50から読み出されるデータについて、出力データ生成部20において、直前に読み出されたデータとの差分情報を検出し、差分情報が同じであると判別した区間において、周波数制御回路11において生成する書き込みのためのクロック信号を高速化する。 - 特許庁
Buffer Patterns 206 and 208 are formed of the same material as a lower metal wiring 202, corresponding to crossing portions of the metal wirings that mutually intersect while being configured on different layers; especially, while extending from the lower metal wiring 202 and formed of an alternative pattern that is located so as to come close to/separate from the lower metal wiring 202.例文帳に追加
本発明におけるバッファパターン206、208は、相互に異なる層に構成され交差するメタル配線の交差部に対応して下部のメタル配線202と同一な物質で形成されて、特に、下部のメタル配線202から延長して形成したり、下部のメタル配線202と近接離隔して位置する別途のパターンで形成することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same.例文帳に追加
銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加
ドライエッチング装置を用いて石英製の基板10をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板10に凹凸パターンを有したエッチングマスク20を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク20の側壁への保護膜30の形成と基板10のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁
In the case of generating the simulation test bench of a digital LSI circuit with plural input signal lines, test patterns are generated for every input signal line (a step 10), the test patterns with the same input timing are connected by bit connection for at least two or more input lines and the test pattern file to which the data compression is performed is generated (a step 11).例文帳に追加
複数の入力信号線を持つデジタルLSI回路のシミュレーションテストベンチを生成する場合において、各入力信号線ごとにテストパターンを作成し(ステップ10)、それらを少なくとも2本以上の入力信号線について、入力するタイミングが同じものをビット連接により接合し、データ圧縮したテストパターンファイルを生成する(ステップ11)。 - 特許庁
When a nitride film using element isolation by the LOCOS method is to be eliminated in a method for manufacturing a semiconductor device for forming a gate oxide film with different film thickness on the same silicon substrate, first, only a nitride film at a part where the gate oxide film is provided thickly is eliminated selectively by a resist pattern, and the gate oxide film is formed at that part.例文帳に追加
同一シリコン基板上に異なる膜厚のゲート酸化膜を形成する半導体装置の製造方法において、LOCOS法による素子分離に用いた窒化膜を除去する際に、先ずゲート酸化膜を厚く設ける部分の窒化膜のみをレジストパターンにより選択的に除去し、その部分にゲート酸化膜を形成する。 - 特許庁
In work pattern in which work items whose contents are similar or the same are performed in parallel by a plurality of work departments, work item information constituted of information on a work department, progress situation, knowledge or experiences required for each work, inputted man-hours and work schedules are stored in a work process data base(at present) 4.例文帳に追加
類似または同一内容の作業項目を複数の作業部署で並行して行う作業形態における各作業項目毎の作業部署、進捗状況、作業を行うに際に必要な知識や経験などの情報、投入されている工数、作業の日程からなる作業項目情報を、作業工程データベース(現在)4に格納する。 - 特許庁
The drawing position control system for a drawing apparatus having a circular pattern generator 21 comprises controlling the generator 21 so as to deviate the drawing start position of a circle from the drawing start position of another circle in proximity to the above circle in drawing a plurality of the circles having the same center and different radii by using the generator 21.例文帳に追加
この発明は、円パターン発生装置21を有する描画装置の描画位置制御方式において、円パターン発生装置21を用いて、同一の中心を持ち半径の異なる複数の円を描画する際に、円の描画開始位置を該円に近接する別の円の描画開始位置からずらすように円パターン発生装置21を制御するものである。 - 特許庁
When the lines 95a and 95b cross the area 92 at the same speed, they have equal covering area per unit time from starting covering the area 92 until perfectly covering it up, and detection output from the sensor becomes trapezoidal waveform and a boundary between a belt surface and a pattern surface is sharp, whereby detecting accuracy is improved.例文帳に追加
直線95a、95bが同一速度で検出領域92を横切った場合、いずれも、検出領域を覆い始めてから覆い尽くすまでの間、単位時間当たりの覆い隠す面積は等しくなり、センサーからの検出出力は台形の波形となり、ベルト面とパターン面の境界線が鮮明で、検出精度が向上する。 - 特許庁
To omit one part of preparation work for an image display component, by selecting a plurality of color display images on the same image selection dialogue, as to an image of the image displaying component, and by selecting simultaneously an optional monochromated pattern out of the plurality of kinds of optional monochromated patterns prepared corresponding to the selected color display images.例文帳に追加
画像表示用部品の画像を同一の画像選択ダイアログ上で、複数のカラー表示画像を選択すること、その選択したカラー表示画像に対応して準備した複数種類のモノクロ化パターンから任意のモノクロ化パターンを選択することを同時に実施可能として画像表示用部品の作成作業の一部を省略可能とすること。 - 特許庁
To provide a data transfer device and a data transfer method for, when a signal column whose pattern is the same as that of a control signal column for showing the end position of a packet exists in data to be transferred, suppressing the decrease of a transfer processing speed as much as possible when converting the signal column into another signal column.例文帳に追加
転送の対象となるデータにパケットの終了位置を表すための制御信号列と同じパターンの信号列が存在する場合にはその信号列を他の信号列に変換する処理を行う場合に、転送処理速度の低下をできるだけ抑えることが可能なデータ転送装置およびデータ転送方法を得ること。 - 特許庁
Three semiconductor wafers A1, A2, and A3 are pulled out of a wafer carrier A set at the setting part 10, distributed across three range-finding SEMs 11, 12, and 13 through the transportation system 14, and the line thickness of resist pattern formed on the semiconductor wafers A1, A2, and A3 are automatically measured, concurrently, using the same recipe.例文帳に追加
そして、セッティング部10にセットしたウェーハキャリアAから3枚の半導体ウェーハA1、A2、A3を抜き取り、搬送系14を介して3台の測長SEM11、12、13に振り分け、それぞれ半導体ウェーハA1、A2、A3上に形成されたレジストパターンの線幅を同一のレシピを使用して同時並行的に自動測長する。 - 特許庁
This stacked reaction chip is a stacked body having at least a reaction layer comprising a plurality of layers containing a reactive material and a piece of sheet, each reaction layer is formed with a pattern having one or a plurality of reaction parts, and the end surface of each reaction part exposed to the side surface is the same direction of the stacked body is used as a detecting surface.例文帳に追加
反応性物質を含む複数層の反応層と一枚のシート材とを少なくとも有する積層体であって、上記各反応層が一つ又は複数の反応部を有するパターンで形成され、上記積層体の同一方向の側面に向かって露出される上記各反応部の端面を検出面とする積層型反応チップ。 - 特許庁
According to the service ratio of a logical computer, a time-slice time allotted to each time is made variable to equalize the scheduling frequency in a fixed time which is different with the service ratio of the logical computer, and thus the scheduling pattern of the logical computer always has the same interval, thereby carrying out the scheduling on a first-in first-out (FIFO) basis.例文帳に追加
論理計算機のサービス比によって、一回に割り当てるタイムスライス時間を可変的な値とし、論理計算機のサービス比によって異なっていた一定時間におけるスケジューリング回数を同一とし、論理計算機のスケジューリングパターンが常に同一間隔となるように制御し、先入れ先出し(FIFO)によりスケジューリングする。 - 特許庁
The droplet discharge device that discharges droplets to a plurality of section areas arrayed in a vertical scanning direction at constant intervals while repeatedly making a main scan and a vertical scan discharges the droplets in invariably the same discharge pattern in all main scans while a movement quantity of a droplet discharge head in a vertical scan is set to an integral multiple of arrangement intervals of the section areas.例文帳に追加
主走査と副走査を繰り返しながら、副走査方向に一定間隔で配列された複数の区画領域に液滴を吐出する液滴吐出装置において、液滴吐出ヘッドの副走査の移動量を区画領域の配置間隔の整数倍とし、全ての主走査において常に同じ吐出パターンで液滴を吐出する。 - 特許庁
After detaching the support layer 2, etching treatment is performed to the metal layer 3 to form outer surface side line patterns 13a, and at the same time, side section line patterns 13c which connect inner surface side line patterns 13b and outer surface side line patterns 13a are formed to compose an inductor pattern which surrounds the ambient of the high permeability layer 14 in a multiple coiled fashion.例文帳に追加
支持体層2を剥離した後、金属層3にエッチング処理を施して外面側ラインパターン13aを形成すると共に、内面側ラインパターン13bと外面側ラインパターン13aとを接続する側部ラインパターン13cを形成して、高透磁率層14の周囲をコイル状に多数巻に囲むインダクタパターンを構成する。 - 特許庁
As a main control part 200 transmits a command to a special pattern displaying apparatus 100 side by the timing of transmission set in accordance with a value determined by drawing a lot again (a step S1830) when e.g. lots with the same values are continued, it is possible to improve randomness of the timing of transmission when the timing of transmission is determined by lot.例文帳に追加
主制御部200は、例えば同一値の抽選が連続した場合等に再抽選(ステップS1830)された値に応じて設定されている送信タイミングでコマンドを特別図柄表示装置100側に送信するので、送信タイミングを抽選によって決定するに際して送信タイミングのランダム性を高めることができる。 - 特許庁
When a ball extraction switch 21 arranged on a rear surface of the pachinko machine 11 is operated by a specified operation pattern in this state, the ball extraction control circuit 19 makes a ball discharging device 15 continuously perform a discharging operation and extracts pachinko balls within the machine by discharging the balls within a ball tray through the same ball flow-down path 16 as that when prize balls flows down.例文帳に追加
この状態で、パチンコ機11の裏面に配置された球抜きスイッチ21を特定の操作パターンで操作すると、球抜き制御回路19は、球排出装置15を連続的に排出動作させて、機内のパチンコ球を、賞球が流下するのと同じ球流下路16を通して球皿内へ排出して球抜きする。 - 特許庁
By reading the internal test pattern output result for each of outputting printers 14a-14c again from an image input part (scanner part) 11 of the copying machine 10, the copying machine 10 grasps the gray level characteristics of each printer and control is performed by an incorporated gray level control means to present the same gray level characteristics even in the output from any printer.例文帳に追加
複写機10は、出力したプリンタ14a〜14c毎の内部テストパタン出力結果を、再度複写機10の画像入力部(スキャナ部)11から読み込むことにより、各プリンタの濃度特性を把握し、内蔵する濃度調整手段によって、どのプリンタから出力しても同じ濃度特性を示すように調整を行う。 - 特許庁
In a color filter arrangement pattern of an image pickup means, a Cy is placed at four corners of a square grid 62, Mg and G are placed as a diagonal set of a square grid 64 deviated in horizontal and vertical directions relative to the square grid 62 by a half pitch in which any Cy is placed in the middle, and the same color is adjacently placed in the horizontal direction.例文帳に追加
一方の撮像手段の色フィルタ配置パターンを、正方格子62の4隅にCyを配置し、何れかのCyを中心に配置すると共に正方格子62に対して水平及び垂直方向に半ピッチずれた正方格子64の対角の組がMgとGとなるように配置し、それぞれ水平方向に隣接して同色を配置する。 - 特許庁
This biometric collating device for deciding whether or not a figure is the principal by using a face image is configured so that when the face region of an input image is positioned and sized suitably for collation, a circular pattern in green can be displayed in the same size as the size of the face image so as to be overlapped with the face region of the input image.例文帳に追加
顔画像を用いて当該人物が本人であるか否かを判定する生体照合装置において、入力画像の顔領域が照合に適した位置、大きさになったときに、顔領域の大きさと同じ大きさで緑色の円状パターンを、このときの入力画像の顔領域に重ね合わせて表示する。 - 特許庁
A first dispenser head 12 incorporating a first nozzle 20, and a second dispenser head 14 incorporating a second nozzle 22 are provided, pattern of the bonding pad is recognized using an optical system 18, and then adhesive is dispensed onto a dispense target position in the same columnar section of the substrate by driving the first nozzle 20 and the second nozzle 22 simultaneously.例文帳に追加
第一ノズル20を組み込んでいる第一ディスペンスヘッド12と、第二ノズル22を組み込んでいる第二ディスペンスヘッド14とが設けられ、光学システム18を用いて接合パッドのパターン認識を行い、第一ノズル20及び第二ノズル22を同時に駆動して基板の同一の列状セクションにおけるディスペンス目標位置上へ、接着剤をディスペンスする。 - 特許庁
To provide a decorative film which can be embossed with an irregular pattern to the same extent as or beyond a decorative sheet using a polyvinyl chloride resin film and also exhibits outstanding surface physical properties such as design, contamination resistance and solvent resistance and further, is soft enough to permit a vacuum molding process or a lapping process with superb mar resistance, and a decorative sheet on which the decorative sheet is laminated.例文帳に追加
ポリ塩化ビニル樹脂フィルムを用いた化粧シートと同等以上のエンボス加工による凹凸模様を付与することが可能で、意匠性、耐汚染性、耐溶剤性などの優れた表面物性を有し、さらに真空成形やラッピング加工が可能な程度に軟質で、かつ耐疵付き性にも優れた化粧フィルム、およびその化粧フィルムを積層した化粧板を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition solution which allows fine pattern printing by an inkjet system, is curable by active energy beams and low-temperature heating (250°C or below), and has low viscosity despite not containing organic solvents, and to provide a coating film of the photosensitive resin composition obtained from the solution and having good physical properties, and to provide a method for utilizing the same.例文帳に追加
本発明の課題は、インクジェット方式で微細パターンの印刷が可能であり、活性エネルギー線及び低温(250℃以下)の加熱で硬化可能であって、有機溶媒を含有しないにもかかわらず、低粘度である感光性樹脂組成物溶液及びそれから得られる良好な物性を有する感光性樹脂組成物塗膜、並びに、その利用方法を提供することにある。 - 特許庁
In a method of manufacturing the layered capacitor, recessed sections produced by an electrical insulating section are flattened by etching a dielectric layer by performing a step of forming a dielectric, a step of treating the surface of the dielectric, a step of forming a pattern on a metallic electrode, a step of forming the metallic electrode, and a step of treating the surface of the metallic electrode in the same vacuum tank.例文帳に追加
同一真空槽内で、誘電体を形成する工程と、誘電体の表面を処理する工程と、金属電極にパターンを形成する工程と、金属電極を形成する工程と、金属電極表面を処理する工程を有し、誘電体層を蝕刻して電気絶縁部により生ずる凹部を平坦化することを特徴とする積層コンデンサの製造方法。 - 特許庁
Also, a medium 62 for test being the same as the slave 2 is supplied and adhered closely for the master carrier 3 held at the prescribed position, magnetic transfer is performed for the medium 62 for test, and a supply position of the slave 2 is verified by testing a transfer position of a transfer pattern in a magnetically transferred medium 62' by the transfer position test means 66.例文帳に追加
また、所定位置に保持されたマスター担体3に対してスレーブ媒体2と同一の検査用媒体62を供給密着させて、該検査用媒体62に磁気転写を行い、磁気転写がなされた検査用媒体62’における転写パターンの転写位置を転写位置検査手段66により検査することによりスレーブ媒体2の供給位置を検証する。 - 特許庁
In the multiplex computer system comprising computers 10 and 20 which have the same function and an operation managing device 30 which totally manages those computers, the operation managing device 30 is provided with an operation simulation part 35, which simulates the operation of the operation managing device 30 according to a predetermined operation pattern to test the computer system.例文帳に追加
同一機能を有する複数台の計算機10、20と、これら各々の計算機を統括して管理する運転管理装置30からなる多重化計算機システムであって、運転管理装置30に操作模擬部35を設け、この操作模擬部35によりあらかじめ決められた操作パターンで運転管理装置30の操作の模擬を行い、計算機システムの試験を行うようにしたものである。 - 特許庁
The eyeball model having the same shape as an eyeball portion of a human body structure is in such a structure that: each component is molded of a ductile resin such as flexible silicon; each of the components is transparent or colored or provided with a pattern, and attachably/detachably formed in an independent shape or in a sheet shape, and can be deformed by external pressure.例文帳に追加
人体構造の眼球部位と形状を同じくする眼球模型であって、軟質なシリコン等の延性樹脂製により成型された各構成部位からなり、該構成部位が透明または着色ならびに模様を施し、個体もしくはシート状に形成して着脱可能とし、さらに外部圧力によって形状を変形させることができる構造を採用する。 - 特許庁
The semiconductor integrated circuit device includes a semiconductor substrate; a transistor including gate wiring 220 extending in one direction and formed on the semiconductor substrate, and a source/drain region formed in the semiconductor substrate so as to be aligned to the gate wiring 220; and a diffusion preventing metal pattern 432a extending in the same direction as that of the gate wiring and formed on the gate wiring, and shielding the ions diffused on the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体集積回路装置は、半導体基板、半導体基板上に一方向に延びて形成されたゲート配線220とゲート配線に整列して半導体基板内に形成されたソース/ドレーン領域を含むトランジスタ、ゲート配線上にゲート配線と同一方向に延びて形成され、半導体基板に拡散されるイオンを遮断する拡散防止メタルパターン432aを含む。 - 特許庁
The second lighting fixture unit 20B is provided with a second projection lens 34 which has a focusing distance more backward and a diameter smaller than the first projection lens 24 and a second reflector 36 converging and reflecting the light from a second semiconductor light emitting element 32 having the same structure as the first semiconductor light emitting element 22, and a second shade 31 forming a cut-off line of the light distribution pattern.例文帳に追加
第2の灯具ユニット20Bは、第1投影レンズ24よりも後方焦点距離及びレンズ径が小さい第2投影レンズ34と、第1半導体発光素子22と同じ構成の第2半導体発光素子32からの光を前方に向けて集光反射させる第2リフレクタ36と、配光パターンのカットオフラインを形成する第2シェード31と、を備える。 - 特許庁
To execute black/white discrimination and decoding on the same micro processor with software, to simplify hardware much more than the case that black/white discrimination is executed by hardware, to correspond to the signals of various states and to prevent a bar code from missing in reading when a character and a pattern, which are not the bar codes, are adjacent on a paper face to be read and both data are scanned.例文帳に追加
白黒判別とデコードを同一のマイクロプロセッサ上でソフトウエアにより実行し、白黒判別をハードウエアにより行う場合よりもハードウエアを簡略化して様々な状態の信号に対応でき、且つ読み取る紙面にバーコードでない文字や模様がバーコードと隣り合っていて両方を走査してしまったときにもバーコードを読み落とすことのないようにする。 - 特許庁
A dummy pattern part is arranged same as the circuit for driving at the outside of the arrangement of the circuit for driving the piezoelectric element and in the peripheral region within the piezoelectric element region.例文帳に追加
FPCの圧電素子駆動用の回路側を圧電素子側にして、異方導電性接着層を介して、FPCと圧電素子とを圧着して、FPCと圧電素子とを電気的に接続して一体的に積層しているものであり、FPCには、前記圧電素子駆動用の回路の配列の外側、かつ、圧電素子領域内の周辺領域に、前記駆動用の回路と同じくして、ダミーパターン部を配設している。 - 特許庁
The electron beam lithography device includes: a mode selection means for selecting a mask drawing mode for superposition exposure as a drawing mode; and a shape selection means for selecting substrates having the same shape from a plurality of substrates used by the mask drawing for superposition exposure in the registration of a drawing pattern when the superposition exposure mode is selected.例文帳に追加
描画モードとして、前記重ね合わせ露光用マスク描画モードを選択するモード選択手段と、この重ね合わせ露光モードが選択されると、描画パターンの登録時に、この重ね合わせ露光用マスク描画で使用される複数の基板のうち、同種の形状を有するものを選定する形状選定手段とを備えた電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
An operator selects a third image 1803 area of the same size as a template from a predetermined first image called a template for pattern matching, a second image larger than the template (or an image of a subject), performs the template matching of the first image with the third image while translucently displaying the template, and displays the similarity difference information thereof.例文帳に追加
パターンマッチングのためのテンプレートと呼ぶ予め定められた第一の画像と、そのテンプレートより大きい第二の画像(即ち、被検体の画像)の中からオペレータが、テンプレートと同じ大きさの第三の画像1803領域を選択し、第一の画像と第三の画像とのテンプレートマッチングをテンプレートを半透明表示しながら行い、その類似度差分情報を表示する。 - 特許庁
To provide a printed circuit board with a high-density fine circuit pattern, by forming a high-density circuit by forming circuits in a portion where lands occupy to form a larger number of circuits in an insulating substrate with the same area, and a method capable of manufacturing the printed circuit board at low cost which makes signal transformation between layers smooth without requiring a complicated step.例文帳に追加
ランドが占める部分に回路を形成することができるようにして高密度の回路形成を可能とし、同一の面積の絶縁基板にさらに多い回路を形成して密集度の高い微細回路パターンの印刷回路基板を提供すること、層間の信号伝逹を円滑にし、複雑な工程を要せず安価な費用で印刷回路基板を生産できる製造方法を提供する。 - 特許庁
The control means is configured to extract the adjacent divided images in a predetermined order from one specified image, detect images in the same pattern formation area included in the overlapping area for each of the two adjacent divided images as a synthetic reference image, then, synthesize the two adjacent divided images based on the synthetic reference image, and then, form an SEM image in the entire observation area.例文帳に追加
制御手段は、指定された一つの分割画像から所定の順序で隣接する分割画像を抽出し、隣接する2つの分割画像毎に重複領域に含まれる同一のパターン形成領域の画像を検出して合成基準画像とし、合成基準画像を基に隣接する2つの分割画像を合成して、観察領域の全体のSEM画像を形成する。 - 特許庁
The printed circuit board 10 includes an insulating substrate 11, circuit patterns 12 formed on the insulating substrate, and connection terminal patterns 13 connected to the circuit patterns and formed at a connection 14 on the insulating substrate, wherein a reinforcing pattern 15 made of the same material with the connection terminal patterns is formed between the connection terminal patterns on the insulating substrate.例文帳に追加
絶縁基板11と、前記絶縁基板上に形成された回路パターン12と、前記回路パターンに接続され前記絶縁基板上の接続部14に形成された接続端子パターン13と、を備えるプリント配線基板10において、前記接続端子パターンと同材質の補強パターン15が、前記絶縁基板上の当該接続端子パターンの間に形成されている。 - 特許庁
To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.例文帳に追加
本発明は、EUV光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのEUV露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるEUV光反射率の低下に対し、EUV光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
To provide a weak alkaline developable photosensitive resin composition which enables formation of a solder resist having sufficiently high heat resistance and thermal shock resistance and formation of a dry film showing sufficiently excellent storage stability, a photosensitive film for a permanent resist using the composition, a resist pattern forming method, a printed wiring board and a method for producing the same, a surface protective film, and an interlayer insulating film.例文帳に追加
充分に高い耐熱性及び耐熱衝撃性を備えたソルダーレジストを形成でき、かつ、充分に優れた貯蔵安定性を示すドライフィルムを形成できる、弱アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びこれを用いた永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法、表面保護膜、層間絶縁膜を提供する。 - 特許庁
To provide a colored curing composition for a solid image pickup device capable of forming a cured film of high chroma saturation which is restrained in the precipitation of needle crystal of the cured film even if it contains polyhalogenated zinc phthalocyanine as a coloring agent, a color filter for a solid image pickup device restrained in the generation of needle-like foreign matter and equipped with a good rectangle color pattern, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
着色剤としてポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含有する場合であっても、硬化膜の針状結晶の析出が抑制された高彩度の硬化膜を形成しうる固体撮像素子用着色硬化性組成物、針状異物の発生が抑制され、良好な矩形状の着色パターンを備える固体撮像素子用カラーフィルタ、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁
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