「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

The outside diameter of an inner roll 20 is made slightly smaller than the inside diameter of a can barrel 10, and, on the outer circumferential face of the inner roll 20, unit emboss faces 22 by the number same as that of the unit emboss faces 11a in the circumferential direction of the emboss pattern 11 to be applied to the can barrel are engraved.例文帳に追加

内型ロール２０の外径を缶胴１０の内径より僅かに小さいものとし、該内型ロール２０の外周面に、缶胴に賦形しようとするエンボス模様１１の周方向の単位エンボス面１１ａと同数の単位エンボス面２２を刻設形成したものとする。 - 特許庁

A plurality of nozzles are provided to the nozzle headers in the inlet side of the rolling roll and the descaling water is injected so that respective injecting patterns of the descaling water to the steel slab from the nozzle are parallel and the proportion of the overlapping region of the injecting pattern is the same, viewing from the transfer direction of the steel slab.例文帳に追加

圧延ロール入側のノズルヘッダーにノズルを複数個配設し、ノズルから鋼スラブに噴射されるデスケーリング水のそれぞれの噴射パターンが平行で、かつ鋼スラブの搬送方向から見て噴射パターンの重複する領域の割合が同一となるようにデスケーリング水を噴射する。 - 特許庁

Further, the game machine has a liquid crystal display unit 5 displaying a timing screen 65 informing the operation timing of the stop button 7L/7C/7R stopping the fluctuating display of the pattern in a predetermined stop condition in operation indication display varying in an analog manner and informing the same by an operation indicating sound.例文帳に追加

そして、図柄の変動表示を所定の停止態様で停止させる停止ボタン７Ｌ・７Ｃ・７Ｒの操作タイミングを、アナログ的に変化する操作指示表示で報知すると共に、操作指示音で報知するタイミング画面６５を表示する液晶表示装置５を備える。 - 特許庁

To provide a printed circuit board and a manufacturing method of the same such that drilling processes for forming via holes may be omitted to increase the degree of freedom in designing circuits, the circuits can be made to have greater densities and a substrate can be made thinner, and the attachment areas between a circuit pattern and an insulation layer can be increased to allow greater adhesion.例文帳に追加

層間接続用のビアホールの形成のためのドリリング工程の省略、回路設計の自由度向上、回路の高密度化、基板の厚さ薄形化、回路パターンと絶縁層との接触面積増加と接着力に優れた印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A woven fabric obtained by arranging mudding yarn 1 and chemical dyeing yarn dyed in same color as the mudding yarn 1 by using a chemical dye in lattice-like state having one to three units and weaving these yarns is prepared and at least a part of chemical dyed yarn of the woven fabric is subjected to discharge printing and the discharge printed part finishes up as cloth with splashed pattern.例文帳に追加

泥染した泥染糸１と、化学染料を用いて該泥染糸１と同色に染色した化染糸２を、１〜３本単位の格子状に配置して製織した織物を準備し、該織物の少なくとも一部の化染糸２を抜染し、この抜染部分を絣状に仕上げる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度１２００ｄｐｉ以上の高画質記録で、干渉縞模様（モアレ）等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

A rod-shaped electrode group penetrates the rod-shaped electrode group support block, and an end group of the rod-shaped electrode group is exposed in a prescribed pattern from one face of the support block, and the one face of the support block and the end group of the rod-shaped electrode group exposed from the one face are positioned on the same plane.例文帳に追加

ロッド状電極群支持ブロックには、ロッド状電極群が貫通し、その支持ブロックの一面にロッド状電極群の端部群が所定のパターンで露出し、その支持ブロックのその一面とその一面に露出しているロッド状電極群の端部群は同一平面に位置している。 - 特許庁

To provide a game machine capable of improving a game effect given to a player by controlling a pattern display means so as to move the patterns onto a valid line and attain a big winning state in the case that one line other than the valid line is formed of the same patterns.例文帳に追加

有効ライン以外で同一の図柄により一つのラインが形成されている場合に、その図柄を有効ライン上に移動させて大当り状態となるように図柄表示手段を制御することで、遊技者に与える遊技効果を向上し得る遊技機を提供する - 特許庁

To provide a technology of preventing occurrence of void at an edge part when a controller and an image forming engine respectively provided from manufacturers between which a code system of an arrangement pattern of fine pixels used for promoting a high resolution of pixels cannot be shared with each other and are mounted and activated on one and same composite machine.例文帳に追加

画素の解像度化に用いる微画素の配列パターンのコード体系を共有化し得ていないメーカから夫々提供されるコントローラと画像形成エンジンとを同一の複合機に搭載させて稼動させる場合におけるエッジ部の白抜けの発生を防ぐこと。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A paper material 3 and a paper material 5 having a colored pattern layer 8 applied thereto are laminated at the same time so as to hold a heated and method low density polyethylene resin 4 by an extrusion lamination method to obtain a decorative material 6 which is, in turn, laminated to a substrate 1 by an adhesive 2.例文帳に追加

押し出しラミネート方法により加熱溶融した低密度ポリエチレン樹脂４を挟み込むようにして紙質材３と色、柄模様の層８を施した紙質材５とを同時に貼り合わせて化粧材６とし、このシートを接着剤２により基材１に貼り合わせる。 - 特許庁

This glass sheet is produced by applying a mixture of highly hard particles and low melting point glass ink on the surface of the cleaned and dried substrate glass sheet is a prescribed pattern (A), heating the same at the melting temperature of the low melting point glass ink and welding the highly hard particles on the surface of the glass sheet.例文帳に追加

このガラス板は、洗浄、乾燥した基材ガラス板の表面に、高硬度粒子と低融点ガラスインキの混合物を所定のパターンで塗布Ａし、低融点ガラスインキの溶融温度で加熱して、ガラス板表面に高硬度粒子を融着させることにより製造される。 - 特許庁

The method for successively writing the positioning patterns onto a disk surface by using the servo patterns written to its own disk is so constituted that a plurality of servo patterns strings on the same disk surface are read (a step 1) and that the positioning patterns are alternately written by using the read servo pattern strings (a step 2).例文帳に追加

自己のディスクに書き込まれたサーボパターンを用いて位置決めパターンをディスク面に順次書き込んでいく方法において、同一ディスク面上の複数のサーボパターン列を読み込み（ステップ１）、読み込んだサーボパターン列を用いて交互に位置決めパターンを書き込む（ステップ２）ように構成する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which exhibits sufficient transmissivity when an exposure light source for F_2 excimer laser light (157 nm) is used, has a fast etching speed, and improves roughness of a sample surface after dry etching, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、エッチング速度が速く、かつドライエッチングを実施した後のサンプル表面の荒れが改善された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Light intensities of reflective lights L_1, L_2 proceeding on the same direction from the surfaces of the stainless steel plate 1 and the clear coat film 2 are diminished by setting a refractive index of the clear coat film of the upper layer 2u lower than that of the clear coating film of the lower layer 2d so that a interference pattern caused by the interference of light is prevented.例文帳に追加

下層クリア塗膜２dよりも上層クリア塗膜２uの屈折率を下げることにより、ステンレス鋼板１，クリア塗膜２の表面から同じ方向に向かう反射光Ｌ_1，Ｌ_2の光量を減らし、光の干渉作用に起因した干渉模様を抑えている。 - 特許庁

With respect to the basic edge pattern, when adjacent blocks are in the same inclination direction as that of a target block, the CPU 160 executes edge connection processing of cumulatively adding burr widths (widths of a gradient of a change in a pixel value) of the blocks with each other, calculates a blur width of the target block and determines block burr.例文帳に追加

そして、この基本エッジパターンについて、注目ブロックと隣接するブロックが同じ傾き方向であれば、これらのブロック同士のぼやけ幅（画素値の変化の勾配の幅）を累積加算するエッジ連結処理を実行して、注目ブロックのぼやけ幅を算出し、ブロックぼやけ判定を行う。 - 特許庁

To provide a plating film with which the distinction of truth or falsehood, the prevention of forgery or the like, the control of a product, etc., can be performed by forming a pattern which can not be identified with eyes at the inside, to provide a plated member, to provide a method for producing the same, and to provide a method for identifying a plating film.例文帳に追加

内部に目視にて識別することができないパターンを形成することにより、真贋の判別、偽造等の防止、製品の管理等を行うことができるメッキ膜とメッキ部材及びその製造方法並びにメッキ膜の識別方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this method of manufacturing semiconductor device, the impurity ion implantation which is performed for forming a well, and the impurity ion implantation which is performed for adjusting the threshold of a transistor formed in the well, are performed on the active area of a silicon substrate by using the same resist pattern as a mask.例文帳に追加

シリコン基板の活性領域に、同一のレジストパターンをマスクとして、ウエル形成用の不純物イオン注入と、該ウエル内に形成されるトランジスタの閾値調整用の不純物イオン注入とを行うことを特徴とする半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a photosensitive element which is made higher in the density and higher in the resolution of printed wiring by not only improving resolution and pattern accuracy but suppressing the deformation in the resist shape of a photoset portion after photoirradiation and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.例文帳に追加

解像度及びパターン精度を向上させるだけでなく、光照射後における光硬化部のレジスト形状の変形を抑制し、プリント配線の高密度化および高解像度化を図った感光性エレメントおよびこれを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Although the silicon nitride film 4 is removed by wet etching after exfoliation of a first resist pattern 10 an etching amount is adjusted such that the film thickness of the gate insulating film in the first semiconductor device is substantially same film thickness with that in the second semiconductor device.例文帳に追加

第１のレジストパターン１０を剥離後に窒化シリコン膜４をウェットエッチングにより除去するが、第１の半導体装置におけるゲート絶縁膜の膜厚と、第２の半導体装置におけるゲート絶縁膜がほぼ同じ膜厚となるように、エッチング量を調整していることを特徴とする。 - 特許庁

The LED print head 22 comprises an LED array and a rod lens array; the density distributions of first and second toner images are obtained as first and second density distributions by density sensors 30a and 30b after the first and second toner images are formed in the same exposure pattern on a photoreceptor drum 21.例文帳に追加

ＬＥＤプリントヘッド２２はＬＥＤアレイ及びロッドレンズアレイを有しており、感光体ドラム２１上に同一の露光パターンで第１及び第２のトナー像を形成した後、濃度センサ３０ａ及び３０ｂで第１及び第２のトナー像の濃度分布を得て、第１及び第２の濃度分布とする。 - 特許庁

A waveform information acquiring unit 23 acquires a data signal Dr to be measured outputted from a measurement object 1 receiving a data signal Dt outputted from a pattern generating unit 22 and waveform information in the same time region of a clock signal CK outputted from a clock generating unit 21.例文帳に追加

波形情報取得手段２３は、パターン発生手段２２から出力されたデータ信号Ｄｔを受けた測定対象１が出力する被測定データ信号Ｄｒと、クロック発生手段２１から出力されるクロック信号ＣＫの同一時間領域における波形情報を取得する。 - 特許庁

The optically active, conductive polymer structure is obtained by using an ethylenedioxythiophene trimer as a monomer material and subjecting the same to electrochemical polymerization in a cholesteric liquid crystal electrolyte, has a spiral pattern formed by a fibril structure at its surface and comprises poly-3,4-ethylenedioxythiophene.例文帳に追加

エチレンジオキシチオフェン三量体をモノマー原料として、コレステリック液晶電解質中において電気化学重合させることにより得られ、フィブリル構造による渦状パターンを表面に有する、ポリ３，４−エチレンジオキシチオフェンからなる光学活性導電性ポリマー構造体。 - 特許庁

There are provided: a light transmitting electromagnetic wave shielding film provided with a printing pattern having silver as a main component and an anticorrosive (preferably thiol and a disulfide compound) on a transparent substrate; a film for display panels using the same; an optical filter for display panels; and a plasma display panel.例文帳に追加

透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンと防錆剤（好ましくはチオール及びジスルフィド化合物）とを備えてなることを特徴とする透光性電磁波シールド膜、これを用いたディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル。 - 特許庁

To achieve a medium which is rich in convenience and the information output by defining a plurality of information in the same region of a dot pattern printed on a medium such as a map, and selectively outputting the information by an imaging operation by an imaging means.例文帳に追加

地図等の媒体面に印刷されたドットパターンの同一の領域に複数の情報を定義して、撮像手段による撮像動作等によってそれらの情報を選択的に出力させることによって、利便性に富んだ媒体とその情報出力を実現する。 - 特許庁

While a visible region of the same size as a screen size is randomly moved on a still image of a predetermined pattern of a size larger than the screen size based on visible region movement information, images within the visible region are sequentially obtained and shaking motion images are generated and indicated on the screen.例文帳に追加

画面サイズより大きいサイズで所定のパターンの静止画像上で、画面サイズと同じサイズの可視領域を、可視領域移動情報に基づいてランダムに移動させながら、可視領域内の画像を順次取得して、動揺映像を生成し画面に表示する。 - 特許庁

To provide high-polymer thin film and pattern media having a structure further reduced in size and featuring superior regularity and fewer defects over a wide range than in conventional ones and methods for manufacturing the same, and to provide a surface modifying material used in those manufacturing methods.例文帳に追加

従来よりも更にサイズが微細化した構造であって、広範囲に亘って規則性に優れ、欠陥の少ない構造を有する高分子薄膜、パターン媒体、及びこれらの製造方法、並びにこれらの製造方法に使用する表面改質材料を提供する。 - 特許庁

Thereby, unlike conventional game specifications where the same-pattern jackpot process is executed when a lottery is won and the specifications of the normal game are changed only according to the probability variation, thereby significantly increasing variations of the game while enhancing the entertainment of the game.例文帳に追加

このため、従来のように、当／外抽選に当選したら同じパターンの大当たり処理を実行し、その後、確変の有無によってのみ通常遊技の遊技仕様に変化をもたらしていた遊技仕様に比べ、格段に遊技のバリエーションを増大させることができ、遊技の趣向性を高めることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive semiconductor nanocrystal and a photosensitive composition for a semiconductor nanocrystal, giving easily the semiconductor nanocrystal, without requiring a troublesome process of forming a film, of using a template or the like, and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

成膜または鋳型の使用など厄介な工程なしで簡単に半導体ナノ結晶のパターンを得ることが可能な、感光性半導体ナノ結晶及び半導体ナノ結晶の感光性組成物を提供するとともに、これらを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In addition, in a mode for starting transmission of the image during reading of the image, the image may be separately read for confirming the design about the same original before reading of the image for transmission and the design pattern may be recognized about the image read in the reading.例文帳に追加

また、画像の読み取り中にその画像の送信を開始するモードでは、送信のための画像の読み取りの前に、同じ原稿について別途地紋確認のための画像の読み取りを行い、その読み取りで読み取った画像について地紋パターンの認識を行うようにするとよい。 - 特許庁

To provide an in-mold foam molded body of a thermoplastic resin which easily makes a mud-crack pattern resulting from a fusion mark of preexpanded particles sufficiently inconspicuous in almost the same molding method as conventionally performed without in-mold foam molding under excess molding conditions and shows an excellent surface profile.例文帳に追加

過剰な成形条件で型内発泡成形することなく、ほぼ従来と同様の成形方法にて容易に、予備発泡粒子の融着痕に起因する亀甲模様を十分に目立たなくさせ、表面性良好な熱可塑性樹脂型内発泡成形体を得ること。 - 特許庁

To provide a photosensitive inorganic paste composition capable of improving pattern accuracy to such a degree that it can be adapted to fine patterning required by a plasma display; a sheetlike unfired body for production of a plasma display front panel using the same; and a method for producing a plasma display front panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイの要求する微細パターニングに十分に適合できる程度にまでパターン精度を向上させることのできる感光性無機ペースト組成物、これを用いたプラズマディスプレイ前面板製造用シート状未焼成体、および、プラズマディスプレイ前面板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then a cavity case CC which is electrically connected to the earth pattern (AP) through the through holes TH1 and TH2 is mounted on the wiring board 1 while covering the top surfaces of its spiral conductor patterns SP1 and SP2 to form a cavity resonance filter 2 in the same body with the wiring board 1.例文帳に追加

そして、スルーホールＴＨ１、ＴＨ２を介してアースパターン（ＡＰ）と電気的に接続されたキャビティケースＣＣを、そのスパイラル状導体パターンＳＰ１、ＳＰ２の上面を覆うように配線基板１上に搭載し、配線基板１と一体に空洞共振フィルタ２を形成する。 - 特許庁

To provide a coating forming agent which is excellent in controllability of pattern dimensions in a method of forming fine patterns using the coating forming agent and is capable of forming the fine patterns having goof profiles and required characteristics in a semiconductor device and a method of forming the fine patterns using the same.例文帳に追加

被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法において、パターン寸法の制御性に優れるとともに、良好なプロフィルおよび半導体デバイスにおける要求特性を備えた微細パターンを得ることができる被覆形成剤およびこれを用いた微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The fluid sensor is provided with a thin film part 3 formed of a semiconductor substrate 2, a thick part 4 surrounding the same, a heater element 5 formed at the center of the thin film part 3, and ≥3 heater elements 6 which are pattern formed around the heater element 5.例文帳に追加

半導体基板２により形成された薄膜部３と、この薄膜部３の周囲に位置する厚肉部４とを有し、この薄膜部３の中心部にパターン形成された発熱素子５と、この発熱素子５の周囲にパターン形成された３個以上の感熱素子６とを設けた。 - 特許庁

The encoder structure 3 is arranged on the rotation body 2 so that a plurality of matching members 5 having the same cycle and form may contact annually each other using the matching members 5 constituting at least one cycle of cyclic changes of the width dimension of the conductor pattern.例文帳に追加

そして、エンコーダ構造３は、導体パターンの幅寸法の周期的な変化の少なくとも１周期分以上を構成する相部材５を用いて、同一の周期及び形状を有する複数個の相部材５を、環状かつ互いに接触するように、回転体２に配置した構成とする。 - 特許庁

The thermosensitive transfer medium is formed with a thermal transferable ink layer without absorption of light in an infrared region, and a thermal transferable ink layer of the same color as the ink layer in visual observation and with absorption of light in the infrared region, and these thermal transferable ink layers are formed in pattern shape on one face of a strip-like support body.例文帳に追加

帯状の支持体の一方の面に、赤外領域で光の吸収が無い熱転写性インキ層と、前記インキ層と目視において同じ色であり赤外領域で光の吸収が有る熱転写性インキ層とがパターン状に形成されている感熱転写媒体。 - 特許庁

Before the communication body, a training part, based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and propagation of a transmission line is measured by the training part, while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加

通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のＮ周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁

Removal of a mask in a region to form the semiconductor element and removal of a sacrifice layer and the mask in the region to form the micro structure are carried out in the same process by forming the sacrifice layer by using a mask material to carry out pattern formation of a film in manufacturing the micro machine.例文帳に追加

マイクロマシンの作製に際して、膜のパターン形成を行うためのマスク材料を用いて犠牲層を形成し、半導体素子を形成する領域におけるマスクの除去と、微小構造体を形成する領域における犠牲層とマスクの除去を同一の工程にて行う。 - 特許庁

A lattice pattern formed on the encoder scale and a shaft hole are etched by using the same photomasks or photomasks accurately locatable with each other in combination with a photolithography used to manufacture a semiconductor integrated circuit and the like and an etching method using an ion or a plasma.例文帳に追加

半導体集積回路などの製造に用いられるフォト・リソグラフィ法と、イオン又はプラズマを用いるエッチング法を組み合わせて、エンコーダ・スケールに形成された格子パターンと軸穴部を、同一のフォトマスク、又は互いに正確に位置決め可能なフォトマスクを用いてエッチング加工を行う。 - 特許庁

When an internal electrode layer 15 is arranged such that the secondary internal electrode 15 is provided for every other layer and included only in the same profile pattern, minute positional shift of the secondary internal electrodes 15 can be prevented between respective layers.例文帳に追加

このため内部電極層において、二次側内部電極１５を１層おきに設置する構成として、同一の形状パターンにのみ二次側電極１５が含まれる構成とすれば、各層間での二次側内部電極１５の相互の微小な位置ずれを防止することができる。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film forming material which is effective as an antireflection film material used in microfabrication in a production process of a semiconductor device or the like, and a resist pattern forming method using the same and suitable for immersion lithography with ArF excimer laser light (193 nm).例文帳に追加

半導体素子などの製造工程における微細加工に用いられる反射防止膜材料として有効なレジスト下層膜形成材料及びこれを用い、ＡｒＦエキシマレーザー光（１９３ｎｍ）を用いた液浸リソグラフィーに好適なレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The optical control laminate 1 for controlling the light emitted from a light source includes: a substrate 2 arranged to be opposed to the light source; a film 4 which includes the same resin as that of the substrate 2 and is layered on the substrate 2; and a selective light-shielding pattern 3 arranged between the substrate 2 and the film 4.例文帳に追加

光源から出射した光を制御する光制御積層体１であって、光源に対向配置される基体２と前記基体２と同系の樹脂からなり、前記基体２に積層されるフィルム４とを備え、前記基体２と前記フィルム４の間には選択遮光性パターン３を有する。 - 特許庁

To provide a reflective mask for EUV exposure, which has a light shielding band superior in cleaning resistance, by improving light shielding performance at an overlapping portion of fields of a transfer pattern in EUV exposure to suppress leakage of exposure light, resulting in reduced effect of shadowing of exposure light, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＥＵＶ露光における転写パターンのフィールドの重なり部分の遮光性を高めて露光光の漏れを抑制し、露光光のシャドーイングの影響を低減し、かつ耐洗浄性に優れた遮光帯を有するＥＵＶ露光用の反射型マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, after forming the barrier rib by coating a solution obtained by dispersing only barrier rib resin over the entire surface of the substrate including the flaw part while correcting the alignment positions of the substrate and a reticle, exposing the coated surface again in a barrier rib pattern shape at the same position, and developing the substrate again, the barrier rib flaw part is repaired by thermally curing the barrier rib.例文帳に追加

また、欠陥部を含む基板全面に亘り、隔壁樹脂のみを分散させた溶液を塗布し、基板とレチクルとをアライメント位置補正し、同位置で隔壁パターン状に再露光、再現像し、隔壁を形成した後、隔壁を熱硬化することで隔壁欠陥部を修復する。 - 特許庁